【課題】スリット状の吐出口から被処理基板に対して処理液を吐出し、塗布膜を形成する塗布膜形成方法において、ノズル吐出口のビード量およびノズル吐出口からの吐出圧力の変化に拘わらず、現場オペレータの熟練度に依存することなく、安定した膜厚形成を行うことができ、基板に形成される塗布膜の有効面積を広範囲なものとする。
【解決手段】経過時間Ｔｓにおける推定膜厚Ｔｈは、式（１）により規定され、前記式（１）の推定膜厚Ｔｈに目標膜厚を代入し、基板Ｇの相対的移動速度Ｖを変数とすることにより、時間Ｔｓごとに前記基板の相対的移動速度Ｖを求めるステップと、前記時間Ｔｓごとに求められた前記基板の相対的移動速度Ｖに従い、ノズル吐出口に対する前記基板の相対的移動速度を制御するステップとを含む。
Ｔｈ＝（ΔＢ＋Ｑ）・β／（Ｔｓ・Ｖ・Ｌ） ・・・（１） （もっと読む）

【課題】薄膜成膜装置および薄膜成膜方法において、塗布液の蒸発を抑制する設備を設けなくても、高精度な膜厚を有する薄膜を形成できるようにする。
【解決手段】塗布液８を被成膜体４に供給する塗布液供給部６と、被成膜体４を保持する保持部２と、塗布液８を薄膜化する回転駆動部３と、薄膜化された塗布液８の膜厚を測定する膜厚測定部６と、膜厚の変化から薄膜化された塗布液８の粘度および密度を算出する塗布液特性算出部と、回転駆動部３の回転制御を行う回転制御部と、を備え、回転制御部は、回転を開始し塗布液８が有効塗布領域Ｅまで拡がったことを検出してから、塗布液８の拡がりが停止する第１の回転速度に回転駆動部３の回転速度を制御し、塗布液８の粘度および密度が算出された後に、これに基づいて目標塗布膜厚を得るための第２の回転速度を算出して、回転駆動部の回転速度を第２の回転速度に切り換える構成とする。 （もっと読む）

【課題】バー状乃至ロール状の回転体にて掻き上げられた塗布液がオーバーフローする部分とオーバーフローしない部分との境界での塗布スジの発生が無く、膜厚が均一な塗布膜を効率よく形成することができるロッド塗布方法及びロッド塗布装置の提供。
【解決手段】バー状乃至ロール状の回転体３がウエブに接触して回転し、前記ウエブとの接触部に液溜め部４が形成されるように塗布液を供給し、前記バー状乃至ロール状の回転体３と前記ウエブ間にて過剰の塗布液を掻き落として所望の塗布量として塗布するロッド塗布方法において、前記バー状乃至ロール状の回転体３により掻き上げられた塗布液の膜幅と、掻き落されて戻る塗布液の膜幅とが略同一となるように塗布するロッド塗布方法。 （もっと読む）

【課題】支持体の厚み分布による影響を抑えることで、最終的に製造しようとする塗布層の所望の塗布厚み分布に制御できる塗布装置、塗布方法、及び塗布製品の製造方法を提供する。
【解決手段】搬送される帯状の支持体に塗布液を塗布する塗布装置であって、塗布液を塗布することによって塗布層を形成する塗布部と、塗布部よりも支持体の搬送方向の上流側に配された厚み調整部と、を備え、厚み調整部は、支持体に該支持体の幅方向の塗布厚み分布を調整するための厚み調整層を形成し、厚み調整層は、最終的に得ようとする塗布層の所望の塗布厚み分布に対して略反転した形状の塗布厚み分布である。 （もっと読む）

【課題】ペーストの塗布高さの測定精度を上げ、塗布製品の品質を向上させる。
【解決手段】ペースト塗布装置１は、塗布対象物Ｗの被塗布面にペーストを塗布する複数の塗布ヘッド３ａと、それらの塗布ヘッド３ａにそれぞれ一体的に設けられ被塗布面の変位を測定可能な複数のレーザ変位計３ｃと、制御を行う制御部とを備える。複数のレーザ変位計３ｃのうち少なくとも一つは光路面が塗布パターンにおける二直線のうち一方の直線に沿うように配置されており、少なくとも他の一つは光路面が二直線のうち他方の直線に沿うように配置されている。制御部は、被塗布面に描画された塗布パターンを形成するペーストの塗布高さを測定するとき、当該塗布パターンにおける直線状のペーストの延伸方向に光路面が沿った状態のレーザ変位計３ｃを直線状のペーストの延伸方向と交差する方向に移動させる制御を行う。 （もっと読む）

【課題】レジストを均一な厚さに塗布することができるレジスト塗布装置を提供する。
を提供する。
【解決手段】本発明のレジスト塗布装置は、長尺の基材を搬送する搬送ロールと、搬送ロール上の基材にレジストを転写する転写ロールと、レジスト供給部からレジストを引き上げて転写ロールに供給する引き上げロールと、転写ロールのレジスト転写領域における長さ方向の両端部に、転写ロールを少なくとも一周するように形成された溝部と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】下塗り塗装とその乾燥にかかる作業工程を省略するために、インク受理層を設けることなくインクジェット印刷を施すことができるコンクリートブロック及びコンクリートブロックの印刷方法を提供する。
【解決手段】ゼロスランプのコンクリートを型枠に投入して締め固めた後に即時脱形して製造したコンクリートブロック１０を使用し、前記コンクリートブロック１０のフェイスシェル面１０ｄに直接インクジェット印刷を施すようにした。 （もっと読む）

【課題】光沢感、耐擦性に優れたパターン（印刷部）を備えた記録物を提供すること、当該記録物を効率よく製造することができる製造方法を提供すること、当該記録物の製造に好適に用いることのできる紫外線硬化型インクジェット組成物を提供すること、また、当該紫外線硬化型インクジェット組成物の製造に用いられる粉末を提供すること。
【解決手段】本発明の紫外線硬化型インクジェット組成物は、インクジェット方式により吐出される紫外線硬化型インクジェット組成物であって、重合性化合物と、鱗片状をなす粉末とを含み、前記粉末が、Ａｌで構成されたＡｌ層と、強磁性を有する強磁性層とを備えるものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光沢感、耐擦性に優れたパターン（印刷部）を備えた記録物を提供すること、また、当該記録物を効率よく製造することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の記録物の製造方法は、光沢を有する鱗片状の粉末および紫外線の照射により重合する重合性化合物を含む紫外線硬化型インクジェット用組成物を、インクジェット方式により記録媒体上に付与する組成物付与工程と、加熱により、前記記録媒体に付与された前記紫外線硬化型インクジェット用組成物を構成する前記粉末を配列させる配列工程と、紫外線を照射することにより、前記重合性化合物を重合させる重合工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低分子系（概ね１万分子未満）の溶質を用いた場合には、溶媒の乾燥に伴い、基板の平面視で大幅に縮むため、体積の測定が困難になるという課題があった。そこで、高分子系の溶質を低分子の溶質に混合し、縮みを抑えたものを有機ＥＬ素子に用いる方法を取ることが検討されたが、この場合有機ＥＬ素子の性能が低下するという課題があった。
【解決手段】低分子インク３５０の吐出量測定方法として、表面が撥液性を有する高分子膜２０２を備えた基板Ｋに、低分子溶質３５１を含む低分子インク３５０を、インクジェット方式を用いてノズルより前記高分子膜に向けて吐出し、前記高分子膜２０２に前記低分子インク３５０を塗布する工程と、前記低分子インク３５０を乾燥させる工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤を含む塗布液をウェットオンウェット重層塗布したときに、塗布液同士が混合するのを防止できる積層フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】積層フィルムの製造方法は、第１の電荷を有する粒子１ａを分散させた第１の有機溶剤を含む第１の塗布液１１と、第２の電荷を有するバインダー２ａを溶解した第２の有機溶剤を含む第２の塗布液１２とを走行する支持体３にウェットオンウェット重層塗布することで第２の塗膜１４と第１の塗膜１３とを形成し、電荷中和により粒子１ａとバインダー２ａとをゲル化してゲル化層５０を形成し、第１の塗布液１１（第１の塗膜１３）と第２の塗布液１２（第２の塗膜１４）とが混合するのを抑制できる。 （もっと読む）

【課題】不良品の発生を抑制しつつ塗布作業の効率を高める。
【解決手段】シートＷのＸ方向及びＹ方向それぞれに複数並んで形成されている画素部Ｇに対して塗布液を吐出するノズル９が、Ｙ方向に並んで複数設けられている塗布ヘッド７と、シートＷに対して塗布ヘッド７をＸ方向及びＹ方向に移動させる駆動装置１２と、Ｙ方向に並ぶ画素部Ｇに対してノズル９から塗布液を同時に吐出させる単位塗布動作を実行する制御を行う塗布動作制御部１４と、画素部Ｇを撮像するカメラ５を有し画素部Ｇの座標を取得する座標取得部２４と、取得した座標に基づいて、Ｙ方向に並ぶ複数の画素部Ｇのうち、前記単位塗布動作によって正規の位置に塗布液の滴下が可能となる画素部数を算出する演算部１５とを有している。 （もっと読む）

【課題】大面積化が容易な、光透過性及び基材密着性の高い反射防止膜を提供する。
【解決手段】基材上に、厚み方向において該基材に最も遠い側から該基材に最も近い側に向かって可視光領域の屈折率が１．０から２．５の範囲で連続的に大きくなる屈折率傾斜膜を有し、可視光領域の透過率が７０％以上の反射防止膜の製造方法であって、
屈折率が異なる少なくとも２種の無機材料をインクジェット法により前記基材上に吐出し、空隙を有する前記屈折率傾斜膜を形成する、反射防止膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来の膜形成方法では、膜の平坦性を向上させることが困難である。
【解決手段】塗布される液状体に含まれる材料でフィルター膜３が形成される膜形成基板であって、基板４と、前記液状体に対して撥液性を示し、基板４の基板面４ａ側において、前記液状体が塗布される領域である画素７を囲んだ状態で設けられた第１隔壁５と、第１隔壁５よりも前記液状体に対して親液性を示し、第１隔壁５に積層して設けられた第２隔壁６と、を有する、ことを特徴とする膜形成基板。 （もっと読む）

【課題】乾燥工程における突沸が抑制され、１回の塗工工程により、充分な厚みを有し、つや消しの良好な外観を有する合成樹脂表皮材を効率よく製造しうる合成樹脂表皮材の製造方法を提供する。
【解決手段】直径が６０ｍｍ〜１２０ｍｍの塗工ロールを備えるキスリバース式塗工装置を用いて、水性ウレタン系樹脂と、該水性ウレタン樹脂１００質量部に対して１０質量部〜１５０質量部の有機樹脂粒子及びシリカ粒子から選択される１種以上の粒子と、を含む表面層形成用組成物を、基材表面に、基材の搬送速度が１０ｍ／分〜３０ｍ／分となる条件で、ウエット塗布量が１０ｇ／ｍ^２〜３０ｇ／ｍ^２となるように塗布する塗膜形成工程、及び、得られた塗膜を赤外線ヒータ、マイクロ波、及び高周波から選択される少なくとも１つの手段を用いて乾燥する乾燥工程、を有する合成樹脂表皮材の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】表面に多数の微細凹凸を有した半導体基板に対し液状の塗布剤を塗布し乾燥して上記表面を塗布剤で覆う際、液状の塗布剤の塗布後に基板の塗布面を下向きにした状態を保持したまま乾燥したことを特徴とする塗布膜形成方法。
【効果】本発明の塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置を用いることで、表面に凹凸を有した基板に対し面内均一な塗布膜を形成することができ、太陽電池製造工程への利用が有効である。拡散剤を塗布する場合に用いれば、テクスチャ頂点を含め基板を塗布剤で覆うことができるため形状因子が改善するだけでなく、汚染物質の混入量も低減し短絡電流及び開放電圧も改善し、変換効率が向上する。 （もっと読む）

【課題】従来の駆動電圧設定方法では、描画品位を向上させることが困難である。
【解決手段】液状体を吐出する複数のノズルの前記ノズルごとに設けられた駆動素子を駆動するための駆動電圧を設定する駆動電圧設定方法であって、前記複数のノズルの前記ノズル間における液状体の吐出量のばらつきを軽減する前記駆動電圧を、複数の吐出パターンの前記吐出パターンごとに設定する第１ステップと、前記第１ステップの後に、前記吐出パターン間の前記吐出量の差を軽減する前記駆動電圧を設定する第２ステップと、を含む、ことを特徴とする駆動電圧設定方法。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の膜厚制御、特に塗布膜の周縁部の膜厚均一化を容易に行うこと。
【解決手段】この面状塗布ユニット（ＡＣＴ）４０では、ステージ８０の上に基板Ｇを載置して、レジスト液供給機構８６およびノズル移動機構８８を動作させると、長尺ノズル８２の塗布走査により基板Ｇ上に基板の一端から他端に向ってレジスト液の面状塗布膜１００が形成されていく。その際、面状レジスト塗布膜１００が基板Ｇの外側へ向って広がる過程でライン状レジスト塗布膜７６と接触ないし一体化し、ライン状レジスト塗布膜７６によって面状レジスト塗布膜１００の外縁の位置が規定されると同時に膜厚も制御される。 （もっと読む）

【課題】立体構造物に均一なコーティング剤の皮膜を形成する立体構造物のコーティング装置およびコーティング方法を提供する。
【解決手段】収容室２１にコーティング剤を供給して半導体装置４０を浸漬した後、収容室２１からコーティング剤を回収して半導体装置４０コーティング剤を塗布する。その後、回転駆動部３８によりコーティング剤を塗布した半導体装置４０を所望のコーティング剤の膜厚ごとに予め設定されている回転数で収容タンク１１とともに回転駆動する。 （もっと読む）

【課題】ペーストの塗布位置の検査を手軽に、しかも高精度で実行できるペーストの塗布方法を提供することを目的とする。
【解決手段】塗布ヘッド２０により捨て打ちステージ１４上に第１の形状でペースト２３を塗布し、これをカメラ３２で認識し、この認識結果に基づいて塗布ヘッド２０のペーストの吐出圧を調整する。吐出圧が適正になれば、捨て打ちステージ１４上に第２の形状でペースト２３を塗布し、カメラ３２でこれを認識して目標位置との位置ずれ量をペースト塗布位置の補正値として求める。塗布ヘッド２０は、この補正値で塗布位置を補正して基板１にペーストを塗布する。 （もっと読む）