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Fターム[4D075BB21]の内容

流動性材料の適用方法、塗布方法 (146,046) | 処理方法 (13,909) | 加熱処理 (3,743)

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【課題】成膜装置の構成を複雑化させることなく、モフォロジーの良好な膜を形成可能で、かつ成膜装置の稼働効率を向上可能な成膜方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜原料堆積チャンバー17内において、半導体基板28の表面に、成膜原料を溶媒中に溶解させることで形成される液状の成膜原料液を供給し、成膜原料液に含まれる溶媒を液体から気体に相変化させることにより、溶媒中に溶解している成膜原料を半導体基板28の表面に堆積させ、その後、成膜原料堆積チャンバー17とは異なる反応チャンバー18内において、加熱或いは反応試薬の添加により、半導体基板28の表面に形成された成膜原料を反応させることで、半導体基板28の表面に膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は吐出ノズル式塗布法に好適であって、塗布ムラがなく外観に優れ、また高度な平坦性(膜厚均一性)及び高速塗布を達成でき、かつ透明性、耐擦傷性に優れる保護膜及び層間絶縁膜としての硬化膜を形成可能なシロキサンポリマー組成物を提供することである。
【解決手段】[A]ラジカル反応性官能基を有するシロキサンポリマー、[B]ラジカル重合開始剤、及び[C]有機溶媒を含有し、固形分濃度が5質量%以上30質量%以下であり、25℃における粘度が2.0mPa・s以上10mPa・s以下であり、かつ[C]有機溶媒として、少なくとも(C1)20℃における蒸気圧が0.1mmHg以上1mmHg未満の有機溶媒を含むシロキサンポリマー組成物。 (もっと読む)


【課題】熱硬化性溶液の保持時間の違いによる体積抵抗率の変動が抑制された管状体の製造方法を提供する。
【解決手段】酸基を有する導電剤が分散されたポリイミド前駆体溶液を含む熱硬化性溶液20Aを15℃以下に保持する保持工程と、保持工程によって15℃以下に保持された熱硬化性溶液20Aを、芯体34の外側の面に塗布し、該熱硬化性溶液20Aによる塗膜を形成する塗膜形成工程と、を有している。 (もっと読む)


【課題】粘度の発現性が高く、かつせん断速度の増加と共に粘度が低下する粘度特性を有する共重合体を提供すること、特に、界面活性剤を含有する水性塗料中で、粘度を発現し、かつせん断速度の増加と共に粘度が低下する粘度特性を有する共重合体を提供すること。
【解決手段】炭素数4〜24のアルキル基を有する重合性モノマー(a)5〜99.5質量%及び第1の化学反応性基を有する重合性モノマー(b)0.5〜30質量%を含有するモノマー成分(I)を共重合して得られる1,000〜10,000の範囲内の数平均分子量を有する重合体と、上記重合性モノマー(b)中の第1の化学反応性基と反応可能な第2の化学反応性基を有する重合性モノマー(d)とを反応させて得られるマクロモノマー1〜40質量%、親水基を有する重合性モノマー5〜99質量%、ならびにその他の重合性モノマー0〜94質量%を共重合して得られる共重合体。 (もっと読む)


【課題】ブロック共重合体の自己組織化よりも、低コストで簡便であり、且つ大面積(数μm〜100μmオーダー)でナノスケールの周期的パターンを得ることができる、ナノ周期構造の作製法、及びそれにより得られるナノ周期構造体を提供する。
【解決手段】結晶性ポリマー、結晶性ポリマーに非相溶性のポリマー、及び結晶性有機溶媒との混合物を基板上に配する工程を含み、結晶性ポリマーと、結晶性ポリマーに非相溶性のポリマーとからなるポリマー混合系の膜を、基板上に調製し、基板上の塗膜面に、結晶性有機溶媒を配し、ポリマー混合系の膜と溶媒とを接触させる工程を含むナノ周期構造体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】上下二層構造としなければならない乾燥装置の構築を容易にして、飛躍的なコストダウンが図れるなど画期的な両面薄膜塗工装置に設ける乾燥装置を提供すること。
【解決手段】移動可能なブロック体6の上下に上側乾燥室形成部7Aと下側乾燥室形成部7Bとを設けて、各ブロック体6を移動して次々と側方に隣り合わせて各出入口部8が連通するように横列状態に連結することで、所定長の上側乾燥室5Aと下側乾燥室5Bとを上下に継合形成した両面薄膜塗工装置に設ける乾燥装置。 (もっと読む)


【課題】強誘電体素子の分極特性を向上する製造方法を提供する。
【解決手段】化学溶液法を用いた製造方法であって、基板1の表面に下部電極層3を形成する下部電極形成工程と、この下部電極層3上に強誘電体4の前駆体膜を形成する前駆体形成工程と、前駆体膜を加熱して結晶化させた後に一定の温度まで冷却する結晶化工程と、を少なくとも含み、結晶化工程において、基板1表面に対して略平行となるように前駆体膜へ磁場を印加する。 (もっと読む)


【課題】、基材の表面を冷却したまま溶媒を除去しない場合に比べ、パターンが精度良く形成されるパターン形成装置を提供する。
【解決手段】基材20を冷却する基材冷却手段22と、前記基材冷却手段によって冷却された前記基材の表面に、パターン形成材料、及び溶媒を含む組成物18を付与して該組成物のパターンを描画するパターン描画手段24と、前記基材の表面に描画された前記組成物のパターンから該基材を冷却したまま前記溶媒を除去する溶媒除去手段26と、を有するパターン形成装置10。溶媒除去後、加熱を行って分散剤を除去する加熱手段28を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】幅,高さ方向に高精度で均一な塗布ができるようにしたインクジェット塗布装置及び方法を提供する。
【解決手段】各塗布ヘッド15は、X軸方向に配列されて、4個ずつで1つのグループをなす。同じグループでは、塗布ヘッド15がY軸方向の位置を異にし、グループ間では、Y軸方向に同じ位置の塗布ヘッドが1つずつある。異なるグループのY軸方向に同じ位置の1つずつの塗布ヘッド15は同じZ軸保持プレート20bcに搭載されている。各塗布ヘッド15は微動Z軸駆動手段20aを備え、個別にZ軸方向に移動可能である。また、Z軸保持プレート20bc毎に個別Z軸駆動手段20b1が設けられ、これにより、Z軸保持プレート20bcが個別にZ軸方向に移動可能である。また、共通Z軸駆動手段30が設けられ、これにより、全てのZ軸保持プレート20bcが、従って、全ての塗布ヘッド15が同時にZ軸方向に移動可能である。 (もっと読む)


【課題】被塗装物の塗膜を沸騰させることなく、急激に加熱することを可能とする塗膜形成装置を提供する。
【解決手段】塗膜形成装置1は基体4を保持する保持部18と基体4の外周面4cに塗料7を塗布する塗布ノズル19と塗布ノズル19を移動させる移動部20と加熱ユニット12を有する。保持部18が磁性金属で構成されかつキュリー温度が塗料7を加熱する温度に応じて定められた外筒部材42と低抵抗金属で構成された内筒部材43を有する。加熱ユニット12交流電圧が印加されることで保持部18を誘導加熱方式で加熱するコイル36と外筒部材42の温度が前記キュリー温度に達するまでコイルが生じる磁束が外筒部材42内のみに流れかつ外筒部材42の温度が前記キュリー温度に達すると磁束が内筒部材43にも流れるようにコイルに交流電圧を印加する交流電源34を有する。 (もっと読む)


【課題】内面塗装導管において管内の輸送流体に塗料変質ミストが混入するのを抑止すること。
【解決手段】内面塗装がなされている導管10に対して、特定された加熱処理を伴う工事箇所の外表面に装着され、導管10内に塗料変質ミストが発生しない範囲の加熱温度で導管10の外表面を事前加熱する加熱手段20を備える。加熱手段20は、導管10の外表面を部分的に又は全周囲んで外表面に臨む火炎放射空間Sを形成する火炎放射部21と、火炎放射部21に燃焼ガスを供給するガス供給部22と、ガス供給部22から火炎放射部21に供給するガス供給量を調整する供給ガス量調整部23とを備える。 (もっと読む)


【課題】カップリング剤の変質や、被処理物へのミストの付着を防止しつつ、被処理物に対して均一なカップリング剤の被膜を効率よく成膜可能な表面処理装置および表面処理方法を提供すること。
【解決手段】表面処理装置1は、被処理物9を収納し、密閉構造を備える処理容器2と、処理容器2内を減圧する減圧ポンプ(減圧手段)3と、処理容器2内にカップリング剤を含む液状原料を供給する原料供給機構(液状原料供給手段)4とを有している。そして、処理容器2内に被処理物9を収納し、処理容器2内を減圧した後、減圧状態で封じ切りを行う。次いで、原料供給機構4により、処理容器2内に液状原料8を供給する。これにより、供給された液状原料8は気化し、その気化物が処理容器2内に拡散することで、被処理物9の表面にカップリング剤の被膜が形成される。 (もっと読む)


【課題】金属球などの金属物の表面に二酸化チタン等のチタン酸化物を、膜圧が均一になるように被覆する。
【解決手段】搬送回転ねじ42が回転すると、上記らせん溝46に掛った金属球7は、凹溝44、44に沿って搬送される。この搬送される金属球7は、搬送回転ねじ42及び搬送回転ローラー43、43の回転によって、金属球7の進行方向とほぼ直交する方向に回転される。上記搬送回転ローラー43、43の外周面の長手方向に沿って延びる直線状の一本または複数本の長手溝47が形成され、長手溝47が金属球7を通過するたびに、金属球7の向きが変えられる。これにより、上記金属球7の回転の向きが変えられ、金属球7の向きが種々ランダムに変更され、スプレーガン48から金属球7の表面に噴霧あれ被覆される二酸化チタンの膜厚が、金属球7表面全体にわたってほぼ均一となる。 (もっと読む)


【課題】安定して高い疎水性を確保できる疎水化処理方法及び疎水化処理装置を提供すること。
【解決手段】 処理容器内にて、ウエハWに、HMDSガスを供給し、前記ウエハの表面に−O(CHよりなる疎水基を生成する疎水化処理において、前記疎水化を促進させる反応促進剤として水蒸気をウエハWに供給する工程と、前記処理容器内に搬入されたウエハWを加熱する工程と、加熱されたウエハWの表面に前記水蒸気が吸着している状態で、当該ウエハWの表面に前記HMDガスを供給する工程と、を実施する。前記水蒸気により、HMDS疎水化処理ガスのケイ素と、基板表面の酸素との反応が促進され、安定して高い疎水性が得られる。 (もっと読む)


【課題】吐出する機能液が所定の温度に調整されるまでの待機時間を短くする液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】着色液31を液滴46にして吐出し所定のパターンを描画する液滴吐出装置8にかかわる。着色液31を加熱または冷却して着色液31を所定の温度に調整する第1加熱冷却装置41を備え、第1加熱冷却装置41は1つのパターンを描画するときに吐出する量の着色液31を所定の温度に調整する。 (もっと読む)


【課題】塗布対象物に接着剤の塗布膜を所望する膜厚で形成する。
【解決手段】半導体装置の製造装置1は、塗布対象物に接着剤を塗布する塗布部と、塗布対象物に塗布された接着剤を熱により乾燥させる乾燥部7とを備え、乾燥部7は、接着剤が塗布された塗布対象物が載置され、載置状態の塗布対象物を加熱する複数のヒータプレート101と、複数のヒータプレート101を離間させて積層状態に支持する支持部102とを具備している。 (もっと読む)


【課題】本発明が解決すべき課題は、粘度の発現性が高く、かつせん断速度の増加と共に粘度が低下する粘度特性を有する共重合体を提供すること、特に、界面活性剤を含有する水性塗料中で、粘度を発現し、かつせん断速度の増加と共に粘度が低下する粘度特性を有する共重合体を提供することである。
【解決手段】本発明は、(m−1)炭素数4〜24のアルキル基を有する重合性不飽和モノマー(a)を5〜100質量%含有するモノマー成分(I)を重合することにより得られる1,000〜10,000の範囲内の数平均分子量を有する重合体鎖からなる基本骨格を有し、かつ重合性不飽和基を有するマクロモノマー及び(m−2)親水基を有する重合性不飽和モノマーを含有するモノマー成分(m)を共重合することにより得られる共重合体を提供する。 (もっと読む)


【課題】局所加熱による加熱回数を少なくして、タクトタイムの短縮を実現することができる局所加熱装置および局所加熱方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る局所加熱装置70は、処理基板13上に散在する加熱対象点のなかから一括加熱が可能な加熱対象点を複数個抽出して、抽出した加熱対象点を一括加熱するように、加熱手段3を制御する温度調整部5および一括加熱制御部6を備えている。 (もっと読む)


【課題】 工程数が少なく、かつ、異物の混入が低減された、生産性の高いnx>nz>nyの屈折率分布を有する複屈折層を含む光学フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 複屈折層を含む光学フィルムの製造方法であって、収縮性フィルム上に、ノルボルネン樹脂、ポリカーボネート樹脂、セルロース樹脂、ポリアミドおよびポリウレタンからなる群から選択される少なくとも一種の樹脂を含む複屈折層形成材料を直接塗布して塗膜を形成する塗膜形成工程と、前記収縮性フィルムの収縮により前記塗膜を収縮させる収縮工程と、前記収縮性フィルムと前記塗膜との積層体を前記塗膜の収縮方向と直交する方向に延伸する延伸工程とを含み、前記収縮工程および前記延伸工程により、nx>nz>nyの屈折率分布を有する複屈折層を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】塗装工程における加熱温度の低温化及び加熱時間の短縮が可能であり、さらに耐擦り傷性及び耐候性に優れる塗膜を得ることができる塗料組成物を提供する。
【解決手段】カプロラクトン変性ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとポリイソシアネート化合物とを反応してなり、300〜3,800の範囲のイソシアネート当量を有するラジカル重合性不飽和基含有化合物(A)、及び(A)成分以外のラジカル重合性不飽和基含有樹脂(B)を含有する塗料組成物及び塗膜形成方法。 (もっと読む)


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