【課題】口径が異なる管材にて構成された排水管の内周面に塗膜を形成する。
【解決手段】排水管ＭＰの下流端部ＰＬに接続した吸引装置２により排水管ＭＰ内を負圧化し、該排水管ＭＰ内の上流端部ＰＵより塗料３を投入した後に、可撓性を有するエア送出管６を介してエアコンプレッサー７に連結して成る拡縮径自在な球形のバルーン５を、前記上流端部ＰＵの口径より所定値だけ小径と成す様にエアコンプレッサー７で内圧調整して投入し、バルーン５の排水管ＭＰ内の移動中に上流端部ＰＵと口径の異なる部位では、該部位より所定値だけバルーン径を小径と成す様にバルーン５の内圧をエアコンプレッサー７で調整する。 （もっと読む）

【課題】 塗布した塗布液から効率よく溶剤を回収し再利用できるシステムを提供する。
【解決手段】 搬送ラインによって上流側から順に、基板投入部１、塗布装置２及び減圧乾燥装置３が配置され、減圧乾燥装置３からは排気用の配管３１が導出され、この配管３１に真空ポンプ３２が設けられ、この真空ポンプ３２の下流側に液化トラップ４が配置され,前記液化トラップ４からは溶剤回収用の配管５が導出され、この配管５には送液ポンプ６が設けられ、この送液ポンプ６の下流側には脱水装置７及びフィルタ８が配置され、液化トラップ４において液化した溶剤は送液ポンプ６によってバッファタンク９に送られる。そして、このバッファタンク９に溜められた溶剤はプライミングローラ２２の洗浄用に供される。 （もっと読む）

【課題】吐出した液滴にレーザ光を照射して形成するパターンの形状制御性を向上させたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】液滴吐出ヘッド３２を搭載したヘッドユニット３０に、液滴Ｆｂからの「蒸発成分Ｅｖ」を吸引する吸引ポート３３と、着弾した液滴Ｆｂからのレーザ光Ｂ（反射散乱光Ｂｒ）の光学特性（光量）を検出するフォトセンサ３５と、を設けた。そして、フォトセンサ３５の検出する光量検出信号が乾燥終了電位になるまで、液滴Ｆｂの雰囲気に、気体の流動を抑制した低い吸引速度の吸引を施すようにした。 （もっと読む）

【課題】従来の亜鉛めっき塗布層等と比較して少なくとも同様に優れた少なくとも耐腐食性を有する溶射表面を形成する溶射法を用いること。
【解決手段】本発明は、溶射法によって被処理品の表面を被覆するための、亜鉛を含む溶射材料（５）に関するものである。また、本発明は、溶射法、および、溶射材料（５）が溶射された溶射被覆に関するものである。 （もっと読む）

【課題】化学機械研磨のような高負荷プロセスを経ることなく、均一かつ高精度な塗布膜の平坦化を図れるようにした塗布膜の成膜方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】表面に凹凸を有する被処理基板である半導体ウエハＷに対して塗布液を供給し、ウエハの表面に塗布膜を成膜する成膜方法において、塗布液の塗布膜Ｔが形成されたウエハＷを、溶剤ガス雰囲気下におくと共に、溶剤ガス雰囲気を吸引し、塗布膜の溶媒濃度と補充用の選択塗布液の濃度が一致した後に、ウエハＷと選択塗布液供給用ノズル１０を相対的に平行移動し、予め記憶されたウエハＷにおける塗布液の補充が必要な凹部にノズル１０から選択塗布液を供給する。 （もっと読む）

【課題】熔融ガラス並みの硬度を有する有機無機複合膜が形成された物品を提供する。
【解決手段】シリコンアルコキシド、強酸、水、沸点が１００℃以下のアルコールおよび沸点が１００℃を超える有機溶媒を含むとともに、親水性有機ポリマーを強酸の少なくとも一部として、または別の成分としてさらに含み、シリコンアルコキシドの濃度が、ＳｉＯ₂濃度により表示して３質量％を超え、強酸の濃度が、プロトンの質量モル濃度により表示して０．００１〜０．２ｍｏｌ／ｋｇの範囲にあり、水のモル数が、シリコンアルコキシドに含まれるシリコン原子の総モル数の４倍以上である形成溶液を、雰囲気の相対湿度を４０％未満に保持しながら基材に塗布し、基材を４００℃以下の温度に保持しながら、塗布された形成溶液に含まれる液体成分の少なくとも一部を除去して、有機無機複合膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハに例えばレジスト膜よりなる塗布膜を形成する際に用いられる減圧乾燥装置において、ウエハ面内の温度を制御することにより膜厚の均一性を高めること。
【解決手段】本発明の減圧乾燥装置は、塗布膜の成分と溶剤とを混ぜ合わせてなる塗布液が塗布された基板を載置するための載置部が内部に設けられた密閉容器と、前記載置部に設けられた基板を加熱するための加熱手段と、前記密閉容器に排気路を介して接続され、前記密閉容器内を減圧雰囲気にして、基板上の塗布液から溶剤を揮発させるための真空排気手段と、前記載置部上に設けられ、前記載置部とは熱伝導率が異なる材質により構成される。このような構成にすることで熱伝導率の違いによりウエハ温度を面内において制御することができ、膜厚の面内均一性が向上する。 （もっと読む）

【課題】化学機械研磨のような高負荷プロセスを経ることなく、均一かつ高精度な塗布膜の平坦化を図れるようにした塗布膜の成膜方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】表面に凹凸を有する被処理基板である半導体ウエハＷに対して塗布液を供給し、ウエハの表面に塗布膜を成膜する成膜方法において、塗布液の塗布膜が形成されたウエハを、処理室６内の溶剤ガス雰囲気下においた状態で、溶剤ガス供給ノズル１０から溶剤ガスをウエハの表面に向かって噴射すると共に、ウエハと溶剤ガス供給ノズルを相対的に平行移動させて、塗布液の塗布膜を平坦化する。 （もっと読む）

【課題】電気絶縁性と可撓性と優れた耐熱性を有し平坦化され高温に曝されても変質、劣化、変形することのないシリカ系ガラス薄層付き無機質基板、その製造方法、そのためのコーテイング剤および半導体装置を提供する。
【解決手段】無機質基板に環状ジハイドロジェンポリシロキサン(Ａ)または特定の単位式を有するハイドロジェンポリシロキサン(Ｂ)を被覆し硬化させる、鉛筆硬度が２Ｈ〜９Ｈであるシリカ系ガラス薄層を有する無機質基板の製造方法。前記シリカ系ガラス薄層付き無機質基板。前記 (Ａ)または(Ｂ)からなる無機質基板のコーテイング剤。前記シリカ系ガラス薄層付き無機質基板を有する半導体装置。 （もっと読む）

【課題】下層の上に上層を逐次的に塗布する上層の塗り付け開始時に、リップクリアランスが広い条件下であっても上層を安定して下層の上に塗布することができ、しかも塗布液ロスや支持体ロスの発生を防止することができる。
【解決手段】塗り付け位置Ａから退避した退避位置Ｂにおいて、第２の塗布手段２８の塗布液供給ライン５３からリップ先端４８までを上層用塗布液で満たした状態で送液ポンプ６８を停止しておく塗布準備ステップと、塗布ヘッド４２を塗り付け位置Ａに移動させる移動ステップと、下層の支持体走行方向先端が前記塗り付け位置に到着する前で且つ到着３分以内の間に送液ポンプ６８を稼働して上層塗布液を塗り付け開始する塗り付け開始ステップと、を順次行う。 （もっと読む）

【課題】耐久性の優れた撥水、撥油性樹脂基体を提供することを目的とする。
【解決手段】表面に加水分解可能な樹脂層を有する樹脂基板表面にシロキサン結合を有する膜を設けた樹脂基体としたもので、この構成によると、加水分解可能な樹脂層とシロキサン結合を有する膜が強固に結合し、また、加水分解可能な樹脂層と樹脂基板は熱膨張の差が小さいため密着力に優れるため、耐久性の優れたシロキサン結合を有する膜が設けられた基体を提供できる。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯを含みながらも、耐摩耗性に優れた赤外線カット膜が形成された透明物品を提供する。
【解決手段】透明基体と、その表面に形成された有機物および無機酸化物を含む赤外線カット膜とを含み、赤外線カット膜が無機酸化物としてシリカを含んでこれを主成分とし、赤外線カット膜の表面に対して実施するＪＩＳ Ｒ ３２１２に規定されたテーバー摩耗試験の後に、赤外線カット膜が基体から剥離せず、当該赤外線カット膜が、硫酸に由来する化合物および硫酸イオンからなる群から選ばれた少なくとも１種と、ＩＴＯと、を含む、透明物品とする。この透明物品は、透明基体の表面に有機無機複合膜の形成溶液を塗布した後、３００℃以下の温度に保持しながら、塗布した形成溶液に含まれる液体成分の少なくとも一部を除去することにより製造できる。 （もっと読む）

【課題】 被乾燥体を減圧下で乾燥するときに、収容室内に残留した溶媒成分の影響を低減させて、膜の品質劣化を防ぐことが可能な乾燥方法、乾燥機、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】 乾燥機１００は、被乾燥体Ｑを収容可能な収容室１１８（１１９）と、第１の減圧過程で、収容室１１８を減圧する第１の減圧部としての第１減圧ポンプ１０２と、被乾燥体Ｑを乾燥するための乾燥部１１０とを備えている。第２の減圧過程で、収容室１１９内を減圧する第２の減圧部としての第２減圧ポンプ１０３、被乾燥体Ｑを乾燥した後に、収容室１１９内をクリーニングするための除去部１２０とを備えている。さらに、第１減圧ポンプ１０２と、乾燥部１１０と、第２減圧ポンプ１０３と、除去部１２０と、を制御する制御部１４２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】特に低粘度薄膜塗布において、スロットダイのダイ幅方向端部の塗布液の濡れ広がり、濡れ縮み、及び乱れを防止することができるので、塗布可能領域を広くできる。
【解決手段】バックアップローラ１１に支持されて連続走行するウェブＷ上に、スロットダイ１２を使用して塗布液を塗布する塗布方法において、バックアップローラ１１に対するスロットダイ先端１２Ａのダイ幅方向中央部とダイ幅方向両端部とのクリアランス差Ｌ１〜１０μｍになるようにスロットダイ先端１２Ａを凹形状にした状態で塗布する。 （もっと読む）

【課題】 膜厚を容易に制御することができ、平坦な膜を容易に得ることができる膜形成方法、有機エレクトロルミネセンス装置の製造方法、有機エレクトロルミネセンス装置及び電子機器を提供すること。
【解決手段】 加圧工程でインク５０の周囲の圧力を加圧さすることにより、インク５０に含まれる混合溶媒の蒸発速度を減少させ、インク５０の中央部５０ａからの溶媒の蒸発量（Ｊ_Ｅ）及び周縁部５０ｂからの溶媒の蒸発量（Ｊ_Ｃ）を減少させることができる。これにより、Ｊ_ＥとＪ_Ｃとの差の絶対値｜Ｊ_Ｅ−Ｊ_Ｃ｜が小さくなるため、インク５０の内部において中央部５０ａから周縁部５０ｂへ流れる混合溶媒の流速を減少させることができる。混合溶媒の流速を減少させることにより、インク５０の内部で溶質が拡散するようになり、当該インク５０の中央部５０ａと周縁部５０ｂとで溶質の濃度を均一にすることができる。 （もっと読む）

【課題】凝集が起こりやすい塗工液を用いても、長期間に渡って、表面状態を良好に維持し得る現像ローラ、製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】通電性軸芯体と、該通電性軸芯体上に積層された導電性弾性層と、主材樹脂、導電材及び樹脂粒子を有し該導電性弾性層上に積層された被覆層とからなる現像ローラの製造方法であって、該樹脂粒子を有する被覆層用塗工液を目開き５０μｍ以下のメッシュで濾過する濾過工程と、該濾過工程で得た塗工液を所定の目開きのフィルタを通過させながら循環させる循環工程と、該導電性弾性層を積層した該通電性軸芯体を、該循環工程にある塗工液中に浸漬し、乾燥させる浸漬乾燥工程と、を有し、該被覆層に含まれる該樹脂粒子の最大粒径は、該フィルタの該所定の目開きの１／３以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、蒸着膜を有するガスバリアフィルムであって、ガスバリア性に優れ、安価なガスバリアフィルムを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、樹脂からなる基材と、上記基材上に形成され、蒸着膜である第１無機層と、上記第１無機層上に形成され、超微粒子で形成された膜である第２無機層とを有することを特徴とするガスバリアフィルムを提供することにより、上記目的を達成するものである。 （もっと読む）

本発明は、過剰スプレー粒子を含む排気流（１２０）から、ウェットペイント過剰スプレーを分離する装置に関する。過剰スプレー粒子は、塗装装置（１００）の塗布領域（１０８）にあり、排気流（１２０）に流入し、装置（１２６）は、排気流（１２０）の少なくとも一部から過剰スプレーを分離するように使用される少なくとも１つの分離装置（１６８）を備える。本発明は、ウェットペイント過剰スプレーが装置の壁に付着することを防止する、装置を提供することを目的とする。本発明に従い、装置は、塗布領域（１０８）の下で複数のセクション（１３６、１３８）に分割され、少なくとも１つの分離装置（１６８）がセクションの１つ（１３８）に設けられる。また装置は、排気流（１２０）の流路の範囲を形成していて且つ少なくとも１つのフローガイド要素（１３２）上に配置される、壁上の空気カーテンを生成するように使用される、少なくとも１つの空気カーテン生成装置（２００）を備える。
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【課題】新規なポリマー、特に、電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な膜形成組成物に用いられるポリマー、さらには膜形成組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】エチレン性二重結合またはアセチレン性三重結合を分岐末端にもつデンドリマーとケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも２つ以上有する化合物とをヒドロシリル化反応させて得られるポリマー、該ポリマーを含有する膜形成用組成物、該組成物を用いて得られる絶縁膜、及び該絶縁膜を有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】 薄膜の深さ（厚み）方向の濃度変化を精密に制御可能とし、かつ、この変化を薄膜の平面位置でのバラツキを抑えて均一として、機能性傾斜構造薄膜を形成する。
【解決手段】 ２成分以上の無機または有機機能材料とポリマーを、大気圧下に置かれた溶液または分散液状態から、各成分混合して噴霧ノズル（１）を経て高真空容器（３）内に直接噴霧して基板（１５）上に堆積させ、その深さ方向に成分の濃度を任意に変化させた高機能な機能性薄膜を制御良く容易に形成する。 （もっと読む）