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Fターム[4D075BB56]の内容

流動性材料の適用方法、塗布方法 (146,046) | 処理方法 (13,909) | 雰囲気、加圧、減圧、真空 (941)

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【課題】 樹脂を基板表面に塗布する際に塗布ムラの発生を防止した塗布方法を提供する。
【解決手段】回転塗布装置のコータカップ18内の湿度を40〜50%に維持し、基板10を保持部12に保持させ、有機溶剤を基板上に所定量吐出させてから回転数2000rpmで回転させる。このとき有機溶剤の蒸発により基板表面の温度が低下し、結露水が生成される。有機溶剤を均一に塗布させていたため基板面に均一に付着し、この状態でレジストをノズル20から滴下させる。 (もっと読む)


【課題】反転オフセット印刷法におけるブランケット胴の循環移動するブランケットにインキを供給するダイヘッドの塗布上流側を減圧状態にし、ブランケット上に高い品質の塗膜を連続して安定的に得られるようにする。
【解決手段】インキの塗工時に、ブランケット胴2の周方向に循環移動するブランケット3にダイヘッド4がインキを塗工する塗工部からブランケット胴2の回転方向における塗工上流側のブランケット3を、ダイヘッド4と連続した減圧チャンバー5で覆い、減圧チャンバー5内の空間を減圧して、塗工部におけるダイヘッド先端の塗工上流側のダイリップとブランケット3との間がビードで満たされた状態にする。 (もっと読む)


【課題】 従来の塗膜等形成方法は、作業工程が多く生産性が悪かった。塗料の定着性も優れず、二種類のフィルムが積層されるため塗膜基板が厚くなり、コスト高でもあった。
【解決手段】 保護フィルムのうち基板と接着する面に塗料を塗布し、その保護フィルムを基板に貼付することによって、その塗料を基板に塗布(転写)する方法である。塗料が塗布された保護フィルムを加圧又は加熱加圧して基板に貼付することもできる。真空条件下や、真空貼付方式で保護フィルムを基板に貼付して、塗布時に基板のホールへも塗料を充填するのがよい。上記塗膜形成方法を実現する装置として、保護フィルムに塗料を塗布する塗布装置と、その保護フィルムを基板に貼る貼付装置とを設けた。貼付装置を加熱式或は非加熱式の加圧式としたり、真空ラミネート機とすることができる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、簡単な方法で初期充填時に機能液滴吐出ヘッド内に気泡が残存するのを防止することができる機能液滴吐出ヘッドの初期充填方法等を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明の機能液滴吐出ヘッド3の初期充填方法は、ワークに対し機能液滴を吐出する機能液滴吐出ヘッド3のヘッド内流路に、機能液またはその溶媒からなる充填液68を初期充填する機能液滴吐出ヘッド3の初期充填方法であって、ヘッド内流路に連なる機能液滴吐出ヘッド3の機能液導入口51を封止する封止工程と、密閉容器71に貯留した充填液68に機能液滴吐出ヘッド3を浸す浸漬工程と、密閉容器71の内部を所定の真空度に減圧して密閉容器71内の雰囲気を排気する減圧工程と、減圧工程の後、密閉容器71の内部を復圧する復圧工程とを備えている。 (もっと読む)


【課題】液膜を効率よく、かつ、膜厚の均一性を劣化させることなく乾燥することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】レジスト液により液膜を形成した基板を基板処理装置の乾燥処理部に備わる収容空間内に載置して、該空間を密閉し、圧力挙動をモニタしつつ、レジスト液の飽和蒸気圧PVよりも低い設定圧力PSを目指して減圧する。飽和蒸気圧PVに達した時点でいったん減圧が停滞し、レジスト液の溶媒がほぼ全て揮発する。当該揮発の終了後さらに減圧が進むが、設定圧力PSに近い到達圧力PFにて圧力は一定値に収束する。この時点を乾燥終了時点と判断する。 (もっと読む)


【課題】 基板面内に対する液滴の乾燥環境を均一にしてパターン形状の均一性を向上し、その生産性を向上したパターン形成方法、パターン形成装置、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供する。
【解決手段】 透明基板2を収容する収容室22に連通可能な第1減圧チャンバ31を素子形成面2s直上に設け、収容室22と第1減圧チャンバ31との間を連通する第1連通路(吸引孔33及び排気孔29)を素子形成面2sと相対する大きさで形成し、さらに第1減圧チャンバ31内の第1減圧室32の容積を収容室22の容積よりも大きい容積で形成した。そして、第1減圧室32内の圧力を、予め液滴を減圧乾燥するための第1目標圧力に調整し、液滴18を乾燥するときに、第1バルブ29Vを開弁して、収容室22と第1減圧室32を連通させるようにした。 (もっと読む)


【課題】水系中塗り塗料と水系上塗り塗料とをウェットオンウェットで塗装したのちこれらを同時に硬化させる場合に、中塗り塗膜層と上塗り塗膜層との混層を防止して上塗り塗膜の平滑性を確保できる塗装方法を提供する。
【解決手段】水平部と垂直部とを有する被塗物に水系中塗り塗料を塗装したのち、ウェットオンウェットで水系上塗り塗料を塗装し、これにより形成される中塗り塗膜層と上塗り塗膜層とを同じ工程で硬化させる塗装方法であって、被塗物の水平部に中塗り塗料を塗装する水平部中塗り塗装工程51と、被塗物の垂直部に中塗り塗料を塗装する垂直部中塗り塗装工程52とを含み、水平部中塗り塗装工程において、中塗り塗料を、塗装ブースの一般湿度より高い湿度雰囲気で前記被塗物に塗着させる。 (もっと読む)


【課題】自由度の高いパターニング方法に用いるパターニング装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターニング装置は、圧力を調整可能な真空チャンバーと、材料供給源に接続され、かつ前記真空チャンバーに取り付けられ、前記真空チャンバー内に前記材料供給源からの材料を供給するノズルと、前記真空チャンバー内に設けられた、基体を保持固定するための基体ステージと、を備えている。 (もっと読む)


液滴吐出法により吐出する液滴の着弾精度を飛躍的に向上させ、微細でかつ精度の高いパターンを基板上に直接形成することを可能にする。もって、基板の大型化に対応できる配線、導電層及び表示装置の作製方法を提供することを課題とする。また、スループットや材料の利用効率を向上させた配線、導電層及び表示装置の作製方法を提供することを課題とする。本発明は、主に絶縁表面を有する基板上において、液滴吐出法によってレジスト材料或いは配線材料等を直接パターニングを行うに際し、液滴着弾精度を飛躍的に向上させることが可能になる。具体的には、液滴吐出法による液適の吐出直前に、所望のパターンに従い基板表面上の液滴着弾位置に荷電ビームを走査し、そのすぐ後に該荷電ビームと逆符号の電荷を液滴に帯電させて吐出することによって、液滴の着弾位置の制御性を格段に向上させることを特徴とする。
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本発明は、速やかに成膜でき、しかも不純物が少なく、緻密な有機薄膜を安定に複数回、連続して形成可能な有機薄膜製造方法提供することを目的とする。 基板表面に有機薄膜を形成する有機薄膜製造方法であって、少なくとも1以上の加水分解性基を有する金属系界面活性剤、及び該金属系界面活性剤と相互作用し得る触媒を含む有機溶媒溶液に、前記基板を接触させる工程(A)を含み、前記有機溶媒溶液中の水分量を所定量範囲内にするまたは保持することを特徴とする有機薄膜製造方法。
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【課題】 各種光学部材などの被処理基材の表面を前処理を行うことによって、耐防汚性、耐擦傷性、耐溶剤性等に優れた防汚層を短時間に形成することが叫ばれており、この課題の解決を目的とする。
【解決手段】 被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜する方法を提供する。 (もっと読む)


反応を助長する流体フローに関連して、作業対象の表面または表面下での反応に関するシステムおよび方法を開示する。いくつかの実施形態では、反応の助長は、(1)表面を所定タイプの光に露光させている間に、表面上に不活性流体の流体フローを形成するステップ、(2)作業表面または作業表面下で所定の態様で別の種と反応する反応種を含む流体フローを形成するステップ、または(3)例えば所定タイプの光に露光させている間に、所定の態様で反応の触媒作用を行う触媒種を含む流体フローを形成するステップ、のうちの少なくともいずれかによって行われる。いくつかの実施形態では、光源は、複数の固体光源の密なアレイ等の固体光源を含むものを使用する。このような実施形態のうちの少なくとも1つの実施形態では、反応は光源に関連した光化学反応である。 (もっと読む)


【課題】 被加熱体を減圧下で加熱乾燥するときに、漏れ電流による人体への影響を防止しながら、乾燥処理を中断することなく継続してできる乾燥方法、加熱炉、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】 乾燥装置100は、被加熱体を収容可能な収容室119と、この収容室119を加熱するヒータ112と、減圧する減圧ポンプ116と、圧力を検出する圧力検出部117と、漏れ電流を検出する漏電量検出部118とを備えている。漏電量検出部118が漏れ電流を検出して、その検出結果に基づいてヒータ112の通電をOFFにし、圧力検出部117が圧力を検出して、その検出結果に基づいてヒータ112の通電をONにする。つまり、乾燥装置100は、減圧下で加熱乾燥するときに、ヒータ112の通電をONとOFFとの切り替えをする。 (もっと読む)


【課題】 電気的絶縁性物質を成膜する場合にも対応でき、対象とする基材上に充分安定的に成膜することができ、且つ、連続的に成膜ができ、安定的に、成膜された基材を得ることができる、圧力勾配型イオンプレーティング方法を用いた真空成膜装置、真空成膜方法を提供する。特には、ロールから巻き出し、ロールに巻き取ることができるフィルムのような基材に対して、電気的絶縁性物質からなる薄膜を、連続的に、安定的、且つ効率的に成膜することができる真空成膜装置、真空成膜方法を提供する。
【解決手段】 蒸着材料が移動するハースから基材の間の位置に、およびまたは、前記位置の近傍に、前記移動する蒸着材料の除電を行うための、アースレベルに設定された、蒸着材料除電部を備えている。 (もっと読む)


本発明は、無機又は有機基材上への強接着性コーティングの製造方法であって、第一の工程a)において、低温プラズマ、コロナ放電、又は火炎を、無機又は有機基材上に作用させ、第二の工程b)において、1種以上の定義された光開始剤、又は定義された光開始剤と少なくとも1個のエチレン性不飽和基を含有するモノマーとの混合物、あるいは前述の物質の溶液、懸濁液、又はエマルションを、好ましくは常圧で、無機又は有機基材に塗布し、第三の工程c)において、適切な方法を用いて、これら前述の物質を乾燥するか、かつ/又は電磁波を照射し、そして場合により、第四の工程d)において、そのように前処理した基材上に更なるコーティングを塗布する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】膜厚均一な樹脂膜を広い領域に形成する。
【解決手段】本発明の印刷装置1は蒸気発生装置20を有しており、印刷ヘッド55で塗布液が基板11上の印刷領域に塗布されると、塗布された部分は蒸気発生室26内に送られる。蒸気発生装置20は蒸気放出面22に形成された小孔から加湿液の蒸気を放出し、その蒸気が蒸気発生室26内に充満して加湿雰囲気が形成されるので、印刷された塗布液はその加湿雰囲気に置かれると、加湿液の蒸気で膨潤する。従って、印刷領域の残りの部分が印刷されている間に、先印刷された部分が乾燥しないので、印刷後の塗布液は全体が膨潤した状態が維持され、乾燥工程で乾燥むらが起こらず、膜質の良い樹脂膜が形成される。 (もっと読む)


【課題】 基板に塗布された塗布液を基板上の塗布領域内で均一に乾燥させることを可能にして、塗布物のムラを防止するとともに、乾燥後の塗布物の形状を効果的に均一にすることのできるインクジェット塗布装置及びインクジェット塗布方法を提供する。
【解決手段】溶質と溶媒とを含む塗布液を噴射して基板しに塗布するインクジェットヘッド18と、前記インクジェットヘッド18と前記基板しとの間で、前記基板上の塗布領域を覆って設けられた覆い21とを備える。塗布中は前記基板Sと前記覆い21との間の空間を前記塗布液中の溶媒の揮発を抑制する雰囲気に保持し、前記基板S上の塗布領域への塗布を終えた後に、基板S上の塗布領域を均一に乾燥させる。 (もっと読む)


【課題】 連続搬送される接合用テープを用いて接合された帯状光学フィルム基材に、ビードを形成させ塗布するコータを有する塗布装置を用いて、塗布液を塗布する時に、安定した塗布が出来、異物付着による故障を防止した帯状光学フィルムの製造方法の提供。
【解決手段】 連続搬送される接合用テープを用いて接合された帯状光学フィルム基材に、ビードを形成させ塗布するコータを有する塗布装置を用いて、該帯状光学フィルム基材に塗布液を塗設する帯状光学フィルムの製造方法において、該接合用テープは、厚さ10〜100μmの粘着剤が設けられている部分と、両端に幅0.5〜8mmに設けられた粘着剤が設けられていない第1粘着剤無設置部分とを有し、前記帯状光学フィルム基材を該塗布装置に通過させながら塗布することを特徴とする帯状光学フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】 液体プロセスを用いた成膜を行う際に、成膜面の性質と液状材料の性質との関係に関わらず良好な成膜を行うことを可能とする技術を提供すること。
【解決手段】 薄膜となるべき溶質とこれを溶解するもしくは分散させる溶媒とを含んでなる液状材料を用いて成膜を行う方法であって、対象物(10)の少なくとも成膜面近傍の温度を上記液状材料の凝固点以下に下降させる第1工程と、上記液状材料(12)を上記対象物の成膜面に滴下する第2工程と、前記対象体の成膜面上に上記液状材料が到達した時点で上記液状材料を凝固させる第3工程と、凝固した上記液状材料から上記溶媒(16)を除去する第4工程と、を含む、薄膜形成方法である。 (もっと読む)


【課題】 ナノ材料である微粒子の機能を損ねることなく各種ナノ材料を適度に分散した状態で基板上に固定する汎用的な方法とそれを実現する装置を提供する。
【解決手段】 成膜物質に含まれる元素を成分とする化合物を含む溶媒に微粒子を溶解または分散させた原料溶液をエアロゾル化し、生成したエアロゾルを真空の容器内に導入してプラズマ化し、プラズマ化学的気相蒸着(CVD)法により堆積させることによって、微粒子13が分散した状態で混入した、堆積物元素を含む薄膜12を被処理物表面10に形成して複合薄膜を得る。 (もっと読む)


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