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フィルム接着剤に細網化用多孔板を作成するための方法及び装置。この方法は、多孔板を支持するステップを含む。この方法はまた、フィルム接着剤の硬化を開始させることなく、フィルム接着剤を多孔板に接着させるステップを含む。この方法は、フィルム接着剤に真空を加える。次に、この方法は細網化ユニットを通して所定の速度で多孔板を移動させる。次に、この方法はフィルム接着剤を軟化させ、最後に空気流によって穿孔からフィルム接着剤を取り除く。この方法は普通、多くの産業において使用される音響シート・パネルを作り出すのに使用される。 (もっと読む)


本発明はコーティング組成物の製造方法およびこの方法により得られた組成物に関する。本発明はまた、基質(S)、耐引掻性レイヤー(K)、および本発明のコーティング組成物から製造したコーティングレイヤー(D)を含むレイヤーシステム(layer systems)、およびこれらのレイヤーシステムの製造方法に関する。 (もっと読む)


本発明は、基体(S)、耐引掻層(K)及びカバー層(D)を含む塗膜系の製造方法、並びに前記方法により製造した塗膜系に関する。 (もっと読む)


本発明は、種々の組成物のナノ構造化された及びナノ多孔質の薄フィルム構造物の製造方法を含む。これらのフィルムは、直接パターン化されてよい。これらの方法において、先駆物質フィルムは、表面に付着され、またこの先駆物質フィルムの異なる成分は、選択条件下で反応し、ナノ構造化された又はナノ多孔質のフィルムを形成する。そのようなフィルムを種々の用途、例えば低κ誘電体、センサー、触媒、導線又は磁性フィルムに使用し得る。ナノ構造化されたフィルムは、次のように作られ得る。(1)一種の先駆物質成分及び二種の反応の使用(2)光化学変換の異なる速度に基づく2種以上の成分の使用(3)一つの先駆物質の熱感受性及び他方の光化学感受性に基づく2種の先駆物質の使用、及び(4)先駆物質フィルムの光化学反応及びほとんど未反応の成分のフィルムからの選択された除去による。 (もっと読む)


【課題】塗布工程において、簡単な方法で乾燥ムラを低減することが可能な薄膜形成方法、有機EL装置の製造方法および液滴吐出装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の薄膜形成方法は、基板の塗布領域にインクジェット法により薄膜を形成する薄膜形成方法において、薄膜形成材料を溶媒または分散媒に溶解または分散させた液状体を、高圧雰囲気下、例えば、溶媒または分散媒の蒸気圧以上の雰囲気で、前記塗布領域にインクジェット法で塗布することにより、塗布工程において、簡単な方法で乾燥ムラを低減する。 (もっと読む)


本発明は反射防止基材のための汚れ防止組成物に関する。より詳しくは、本発明は反射防止基材上に汚れ防止組成物を付着させる方法に関する。特に、本発明は反射防止基材上に汚れ防止組成物を付着させる方法であって、前記汚れ防止組成物を気化させる工程と、前記反射防止基材上に前記汚れ防止組成物を付着させる工程とを含む方法に関する。別の態様において、本発明は反射防止フィルムスタックを調製する方法であって、透明基材の表面上に反射防止層を付着させる工程と、前記反射防止層の表面上に汚れ防止層を気化させる工程とを含む方法に関する。更に別の態様において、本発明は反射防止被覆眼科用レンズ上に汚れ防止組成物を付着させる方法であって、前記汚れ防止組成物を気化させる工程と、前記反射防止被覆眼科用レンズ上に前記汚れ防止組成物を付着させる工程とを含む方法に関する。 (もっと読む)


コーティングアプリケータ、乾燥機または硬化ステーションを用いるウェブコーティング方法および装置、ならびにコーティングアプリケータを過ぎかつ乾燥機を通してウェブ(14)を搬送するウェブ取扱い機器。ウェブ(14)は、密結合エンクロージャにおいて当該の粒子数を実質的に減じる、または物理特性を実質的に変更するのに十分な速度で流れる1つ以上のストリームの調整ガスを供給された密結合エンクロージャ(72)または一連の密結合エンクロージャにおいて、少なくともコーティングアプリケータから乾燥機または硬化ステーションまで密閉されている。
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印刷機(1)は、パターンを基板(20)に印刷するために備え付けられる。この印刷機(1)は、基板(20)を支持し移動させるためのテーブル(10)および基板(20)に向けてインク滴を吐出するための、プリントヘッド(30)を備えている。さらに印刷機(1)は、プリントヘッド(30)を取り囲むように配置したカバープレート(40)を備え、プリントヘッド(30)は部分的にカバープレート(40)の穴を経て延在する。印刷工程中には、インク滴が基板(20)上に着弾するとすぐに、インク滴の一部である溶剤の蒸発が始まる。カバープレート(40)の存在は、被印刷パターン一面の蒸発速度を均等化する効果がある。その結果、被印刷要素が乾燥すると、パターンの全ての被印刷要素の高さ分布が所定の限度内に留まる。
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本発明は成形品(21)を製造及び塗装する装置に関し、成形機と成形品処理装置を備えている。成形品処理装置は成形品(21)の表面に塗装を施す手段を有する塗装ステーション(30)と、成形品(21)を処理するための少なくとも一つの処理ステーション(31, 32)と、これら各ステーション(30, 31, 32)の間で成形品(21)を移送するテープコンベア(23)とを備える。成形品処理装置は密閉室(22)の内部に配置され、該密閉室(22)は内部に制御された雰囲気を創出する手段(25, 26, 27)を備える。成形機は密閉室(22)の外部に配置される。
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(1)少なくともフェニルへプタメチルシクロテトラシロキサン及び/又は2,6−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンを含むシリコンレジンから成ることを特徴とする絶縁膜。
(2)230℃以下の温度で任意の粘度に調整したペースト状の前駆体の後、200℃〜500℃の温度で熱硬化することを特徴とする(1)記載の絶縁膜。
(3)前記前駆体と前記絶縁膜は、少なくとも一回、前記絶縁膜が硬化する温度以下で真空加熱処理を行うことを特徴とする(1)記載の絶縁膜。
(4)少なくともフェニルへプタメチルシクロテトラシロキサン及び/又は2,6−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンを含むシリコンレジンを230℃以下の温度で数cpsから数万cpsの間で任意の粘度に調整する工程および200℃〜500℃の温度で熱硬化させる工程を実施することを特徴とする絶縁膜の形成方法。
(5)前記絶縁膜を形成する工程において、少なくとも一回は、前記絶縁膜が硬化する温度以下で真空加熱処理を行うことを特徴とする絶縁膜の形成方法。
(6)真空加熱処理は、230℃以下の温度で行うことを特徴とする(4)又は(5)記載の絶縁膜の形成方法。
以上により、層間割れや,ひび割れ,反り、剥離等が無く、絶縁性が良好で所望の膜厚を有する絶縁膜を提供すると共に基板上に、所望の膜厚を有しかつ、高抵抗で絶縁性良好な絶縁膜および絶縁膜を容易に形成できる。 (もっと読む)


少なくとも2つの構造層である、靴底を形成するために支持構造を有する下部層(14)および水蒸気を透過できる上部層(15,215)を、少なくともソールの付加部分のために備える靴用防水通気性ソール。下部層(14)は上部層(15,215)へ開いた部分(14a,114a)を有する。防水加工のためのプラズマ堆積処理により得られる被膜(21,221)が上部層に備えられる。この態様において層は構造的機能と損傷に対する特性を獲得すると同時に防水性と通気性を獲得する。 (もっと読む)


連続する液相として基材上にコーティングされるシリカ前駆体処方物を形成することによって、シリカコーティングを製造する方法。シリカ前駆体処方物は、その後、アンモニア性雰囲気中で硬化し、連続的に相互連結したナノ多孔性シリカ網状構造を生成する。 (もっと読む)


本発明は、移動する紙又は板紙のウェブを処理剤で処理するスプレー被覆装置を目的とし、該スプレー被覆装置は適用チャンバーを備え、処理すべきウェブが適用チャンバーを通って移動するように配置され、適用チャンバーは該適用チャンバーにウェブを入れる入口開口及び適用チャンバーからウェブを出す出口開口を含み、且つ適用チャンバーのウェブ表面に処理剤を噴霧する少なくとも1つのノズルを備える少なくとも1列のノズル群から構成される。本発明によるスプレー被覆装置は、適用チャンバー内に水ミストを噴霧する噴霧部材を備える。
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帯電した溶液の液滴を先端部から吐出するノズル(51)を有する液体吐出ヘッド(56)と、液体吐出ヘッドに設けられ、液滴を吐出させるための電界を生じさせる電圧が印加される吐出電極(58)と、吐出電極に電圧を印加する電圧印加手段(35)と、液滴の吐出を受ける絶縁性素材からなる基材Kと、液体吐出ヘッドの吐出を行う雰囲気を、露点温度9度(摂氏9度[℃])以上であって水の飽和温度未満に維持する吐出雰囲気調節手段(70)と、を備えている。 (もっと読む)


本発明は、カーボンベース物質による基材の被覆方法に関する。前記方法は、基材を、ポリマーフィルムで、基材の外側表面の少なくとも一ヶ所に少なくとも部分被覆する工程、及びポリマーフィルムを、酸素を本質的に含まない雰囲気中で、200℃〜2500℃の範囲の温度で炭化する工程を含む。 (もっと読む)


【課題】 有機モノマーを飽和蒸気圧の大きい高温で効率良く気化させるとともに得られた有機モノマーガスのプラズマ重合反応により有機高分子膜を高真空中で高速成長する。
【解決手段】 液体ジビニルシロキサンビスベンゾシクロブテン(DVS−BCB)モノマーをキャリアガスと混合した後、高温に保持された減圧気化室に噴霧して有機モノマーの液体微粒子からなるエアロゾルを形成し、該エアロゾルを介してBCBモノマー(有機モノマー)を瞬時に気化させてBCBモノマーガス(有機モノマーガス)を発生させる。これによって、比表面積の大きいエアロゾルは気化面積が大きく、高温加熱しても重合反応が生じる前に気化が生じるため、飽和蒸気圧の大きい200℃での0.1g/min以上のBCBモノマーガスが可能となり、プラズマ重合BCB膜を従来の5倍以上の高速成膜が可能となる。 (もっと読む)


【目的】 溶質、溶媒の組合せによらず基板上に膜厚、組成が均一な薄膜を製造する方法を提供する。
【構成】 本発明は、基板に透明電極膜等の薄膜を形成する方法において、薄膜を形成するための溶液を基板に適用してこの溶液を膜化する際に、基板を急速な減圧環境下に置くことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、模様シートを基材上に強固かつ均等に結合させるとともに、質感に深みを持たせることを目的とするものである。
【解決手段】 塗装層12の表面を粗面化し、塗装層12の熱可塑性樹脂層13に対する接着性を向上させた。また、光を乱反射する反射片を透明樹脂に混合してなる乱反射層51を、インク受容層15の下地に用いた。 (もっと読む)


極性ポリマー・コーティングを作るため、プラズマ重合によって基板、特にポリマー基板およびセラミック基板または金属基板のコーティングを行う。この目的で使用するプロセスガスは、水または水蒸気を含まず、無機ガスおよび/または一酸化炭素および/または二酸化炭素および/またはアンモニウムおよび/または窒素および/または他の窒素含有ガスに加えて少なくとも1つの有機化合物を含む。 (もっと読む)


グロー放電を用いて、基体上にプラズマ重合された付着を生成させる方法を記載する。グロー放電は電極と対電極との間に発生させる。バランスガス及びテトラアルキルオルトシリケートの混合物がグロー放電を通って基体上に流れ、基体上に、光学的に透明な被膜として、被膜を付着させるか、又は表面改質を生じさせる。この、好ましくは大気圧又はその近傍で実施する方法は光学的に透明で、粉末を含まないか又は事実上粉末を含まない被膜を生成するように設計することができる。
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