【課題】印刷品質の低下を防止できる印刷方法を提供する。
【解決手段】第１方向Ｘに配列された複数のノズル５２を有するノズル列６０Ｂ〜６０Ｅが第１方向と直交する第２方向Ｙに間隔をあけて複数配置された吐出ヘッド４９と基材とを第２方向に相対移動させて、ノズルから活性光線で硬化する液体の液滴５７を基材に吐出する吐出工程と、基材上の液滴に活性光線を照射する照射工程とを有する。吐出ヘッドの第２方向の一方側への相対移動時と、第２方向の他方側への相対移動時との間で、基材に液滴が着弾してから活性光線が照射されるまでの時間が同一となるように、複数のノズル列から液滴を吐出させるノズル列をそれぞれ選択する選択工程を有する。 （もっと読む）

【課題】艶を与えずに落ち着きのある深い濃色或いは真の濃色に表現することができ且つ耐傷性も向上させることのできる天井化粧板の塗膜形成方法を提供する。
【解決手段】ロックウール吸音板10の表面に下塗り11として、着色剤が添加されマンセル値の明度が４．５以下の濃色塗料を塗布し、次いで下塗り11上に重ねて塗装する上塗り13として、下塗り塗料と同系統色でマンセル値の明度が２以下の濃色粒子14が添加された塗料を、濃色粒子14の直径より薄い膜厚になるように塗布することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、有機電子装置において有用な活性表面上に活性材料を塗布する方法を提供する。
【解決手段】本発明の方法は、活性材料および適切な液体媒体を含む液体組成物を選択するステップであって、それによって、液体組成物が所望の活性表面に堆積されるとき、液体媒体が約４０°以下の接触角を有するステップと、所望の活性材料を含む液体組成物の堆積物がそこに堆積される前、その表面張力を増大させるため活性表面を処理するステップと、これらの組合せとを含む。本発明はまた、少なくとも２つの活性層を有する有機電子装置を提供し、少なくとも１つの活性層が、本発明の方法の、少なくとも１回の実施を使用して堆積される活性材料を含む。 （もっと読む）

【課題】高分子／無機（コア／シェル）粒子により成形した場合であっても、成形条件を狭めることなく、安価に製造することができる絶縁樹脂材料の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁樹脂材料の製造方法では、高分子化合物を含むコア粒子２と、コア粒子２を被覆する無機化合物を含むシェル層１とを備える、コア／シェル粒子３から絶縁樹脂材料４を製造する方法である。具体的には、絶縁樹脂材料４の製造方法は、コア／シェル粒子３と、高分子化合物に対する良溶媒１０とを混合し、シェル層１から前記良溶媒１０を浸透させて、高分子化合物に良溶媒１０を含浸させる工程と、含浸後のコア／シェル粒子３から成形体を成形する工程と、成形後の成形体を加熱して、良溶媒を成形体から除去する工程とを少なくとも含む。 （もっと読む）

【課題】耐熱安定性、耐湿熱安定性に優れ、高導電性の導電性体、またその簡便な製造方法を提供すること。
【解決手段】カーボンナノチューブ［Ａ］と、カルボキシメチルセルロース［Ｂ］とが、［Ａ］に対する［Ｂ］の質量比（［Ｂ］の含有量／［Ａ］の含有量）が０．５〜９で含まれる、水［Ｃ］を分散媒とした分散液を、基材上に［Ａ］を１〜４０ｍｇ／ｍ^２の範囲となるよう塗布し乾燥した塗布面に、酸触媒［Ｄ］とアルコール［Ｅ］とを、［Ｅ］に対する［Ｄ］の質量比（［Ｄ］の含有量／［Ｅ］の含有量）が０．００５〜０．１である処理液を２５℃〜１００℃、５秒〜２０分の条件で接触させた後、乾燥させることを特徴とする導電体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラスとの界面に発生し外観不良の原因となる気泡の発生を抑制し、かつ塗布不良を生じない光学素子用の反射防止膜及びこの反射防止膜を作製するための塗料（反射防止塗料）を提供する。
【解決手段】少なくとも硬化性樹脂と、有機溶媒と、有機溶媒に可溶な着色剤と、を有する光学素子用の反射防止塗料であって、前記有機溶媒が、少なくとも沸点４０℃以上１０８℃以下の第一の有機溶媒と、沸点１１０℃以上１４０℃以下の第二の有機溶媒とからなり、前記第一の有機溶媒の沸点と、前記第二の有機溶媒の沸点との差が３０℃以上１００℃以下であることを特徴とする、光学素子用の反射防止塗料、及びこの光学素子用の反射防止塗料を塗布して形成される光学素子用の反射防止膜。 （もっと読む）

【課題】高粘度の材料を射出して基板上にパターンを形成することができるパターン形成技術を提供する。
【解決手段】透明な基材４１の表面に昇華性材料として樟脳を含む圧力発生部材４２を積層し、その上に高粘度材料である金属ペースト４３を積層して積層体Ｓを形成している。その積層体Ｓと処理対象となる基板Ｗとを相対向させて配置する。そして、レーザー光照射部６０が基板Ｗに対して相対移動しつつ、レーザー光照射をオンオフして圧力発生部材４２の一部を加熱する。レーザー光照射によって加熱された圧力発生部材４２の一部では、樟脳の昇華に起因した急激な体積膨張により圧力波が発生する。こうして発生した圧力により、その直上の金属ペースト４３を基板Ｗに向けて射出し、基板Ｗの表面に金属ペースト４３のパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】ポリシラザンからなり、耐擦傷性、透明性、基材との密着性に優れるとともに、上高屈折率膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材１２と、前記基材１２上に形成されたシリコン含有膜１６と、を備える積層体であって、前記シリコン含有膜１６は、珪素原子と窒素原子、または珪素原子と窒素原子と酸素原子とからなる窒素高濃度領域１８を有し、前記窒素高濃度領域は、基材１２上に形成されたと遷移金属化合物を混合した膜１４に酸素または水蒸気を実質的に含まない雰囲気下でエネルギー線照射を行い、当該膜の少なくとも一部を変性することにより形成される、積層体。 （もっと読む）

【課題】高粘度の材料を射出して基板上にパターンを形成することができるパターン形成技術を提供する。
【解決手段】透明な基材４１の表面に加熱により圧力を発生する圧力発生部材４２を積層し、その層の上に複数の射出孔４６を設けたノズルプレート４５を接着している。複数の射出孔４６には被射出材たる金属ペースト４３を装填している。そして、レーザー光照射部６０が基板Ｗに対して相対移動しつつ、レーザー光照射をオンオフして複数の射出孔４６のうちの一部に対応する圧力発生部材４２を加熱する。レーザー光照射によって加熱された圧力発生部材４２の一部では、樟脳の昇華に起因した急激な体積膨張により圧力波が発生する。こうして発生した圧力により、射出孔４６に装填された金属ペースト４３を基板Ｗに向けて射出し、基板Ｗの表面に金属ペースト４３のパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の除去精度の向上、塗布膜除去時間の短縮及び溶剤の使用量の削減が図れる塗布膜除去方法及び装置を提供すること。
【解決手段】溶剤吐出部及び不活性ガス吐出部により基板表面の端部から溶剤及び不活性ガスを吐出しながら、塗布膜除去部を基板の辺縁の所定の幅に沿って基板の一端側から他端側まで移動させ（除去工程：Ｓ−１）、濃度測定部により、排出路から排出される溶剤及び溶解物の混合排液中の溶解物の濃度を検出し（濃度検出工程：Ｓ−２）、濃度測定部により検出された混合排液中の溶解物の有無を判別し（濃度判別工程：Ｓ−３）、濃度測定部による溶解物の濃度検出値に基づいて塗布膜の除去条件を変更設定する（除去条件変更工程：Ｓ−６）。溶解物の濃度判別工程において、混合排液中の上記溶解物の無が確認されるまで、塗布膜除去工程を続行し、溶解物の無が確認された後、変更設定された除去条件により、塗布膜の除去を行う。 （もっと読む）

【課題】例えば、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができ、かつ、額縁領域をできるだけ狭くすることができる印刷塗布方法を提供する。
【解決手段】チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの外周部にだけインクＩＮＫを塗布する。続いて、チャンバ内の圧力を大気圧（常圧）に回復した後、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板ＧＳの外周部よりも内側領域である内周部にインクＩＮＫを塗布する。 （もっと読む）

【課題】高屈折率を有するとともに、耐擦傷性、透明性、基材との密着性に優れ、さらに、生産性に優れた、上記特性の安定性に優れる水蒸気バリア性・酸素バリア性を有するガスバリア性フィルムを提供すること。
【解決手段】基材と、 前記基材上に形成されたシリコン含有膜と、を備える積層体であって、
前記シリコン含有膜は、珪素原子と窒素原子、または珪素原子と窒素原子と酸素原子とからなる窒素高濃度領域を有し、
前記窒素高濃度領域は、基材上に形成されたポリシラザン膜に酸素または水蒸気を実質的に含まない雰囲気下で波長1５0nm以下の光照射を行うことで、当該膜の少なくとも一部を変性することにより形成される、積層体。 （もっと読む）

【課題】平坦性が高く、耐白化性、耐水性、耐薬品性等に優れた透明被膜を形成するための塗布液および該透明被膜付基材を提供する。
【解決手段】マトリックス形成成分と金属酸化物微粒子と溶媒とからなる透明被膜形成用塗布液であって、レベリング剤として平均分子量が５，０００〜３０，０００の範囲にあるアクリルシリコン系樹脂を含み、かつレベリング剤の含有量が固形分として、0.001〜7.2重量％の範囲にあることを特徴とする透明被膜形成用塗布液。基材と、基材上に形成された透明被膜とからなり、該透明被膜がマトリックス成分と金属酸化物微粒子とからなり、さらに平均分子量が５，０００〜３０，０００の範囲にあるアクリルシリコン系樹脂をレベリング剤として含んでなり、該マトリックス成分の含有量が固形分として２０〜９９．５重量％の範囲にあり、該金属酸化物微粒子の含有量が固形分として０．５〜８０重量％の範囲にある透明被膜付基材。 （もっと読む）

【課題】基板の乾燥後にリフトピンに処理液が残ることを防止することができ、かつ、基板の下面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置は、基板（Ｗ）の周縁を保持する保持プレート（３０）と、基板を下方から支持するリフトピン（２２）を有するリフトピンプレート（２０）と、保持プレートを回転させる回転駆動部（３９）と、保持プレートおよびリフトピンプレートの貫通穴を通る処理流体供給管（４０）と、基板の下面に処理流体を吐出するノズル（６０）と、処理流体供給管、ノズルおよびリフトピンプレートを連動させて昇降させる昇降機構（４４，４６，５０，５２）を備える。ノズルは、基板の中央部に対向する位置から基板の周縁部に対向する位置の間に配列されている複数の吐出口（６１）を有する。 （もっと読む）

【課題】１回の塗装でボイドなどの欠陥を抑制しつつ厚膜を簡易且つ低コストで形成し得る粉体塗装方法を提供する。
【解決手段】粉体塗料と共に液体塗料を被塗装物に塗装する粉体塗装方法であって、前記液体塗料の１２０℃におけるゲルタイムが１０秒以上３分以下、前記液体塗料の２５℃における粘度が２００ｍＰａ・ｓ以上５０００ｍＰａ・ｓ以下、前記液体塗料の塗装量が前記粉体塗料の２０体積％以上１００体積％以下であることを特徴とする粉体塗装方法とする。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の膜厚のバラつきを抑えること。
【解決手段】第一浮上量で基板を浮上させる第一浮上部、及び、第一浮上量よりも小さい第二浮上量で基板を浮上させる第二浮上部、を有し、第一浮上部と第二浮上部との間で基板を連続的に搬送する基板搬送部と、第二浮上部において第二浮上量で浮上する基板に液状体を塗布する塗布部と、第一浮上部と第二浮上部との間を移動する基板の浮上量を調整する浮上量調整部とを備える。浮上量緩和領域ＲＣは、塗布浮上領域ＴＣの上流側に設けられた上流側緩和領域（上流側調整部）ＲＡと、塗布浮上領域ＴＣの下流側に設けられた下流側緩和領域ＲＢとを有している。浮上量緩和領域ＲＣは、第一浮上部である基板搬入領域と第二浮上部である塗布浮上領域ＴＣとの間、及び、第二浮上部である塗布浮上領域ＴＣと第一浮上部である基板搬出領域との間、でそれぞれ基板の浮上量が急激に変化するのを緩和する部分である。 （もっと読む）

【課題】ノズルのメンテナンス性を向上させること。
【解決手段】基板を保持する基板保持部と、前記基板との間で相対的に移動可能に設けられ、前記基板に対して先端部から液状体を吐出するノズルを有する塗布部と、前記ノズルの前記先端部の画像を取得する画像取得部とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は耐久性に優れた撥水性コーティング剤および当該コーティング膜を得ることにある。
【解決手段】３官能性シラン化合物／２官能性有機スズ化合物の添加モル比が１／１〜７００／１の範囲であることを特徴とする撥水性コーティング剤。
撥水性コーティング剤において、置換もしくは非置換の炭化水素基を有する３官能性シラン化合物と炭素数２〜１２の炭化水素基を有する２官能性有機スズ化合物からなり、３官能性シラン化合物と２官能性有機スズ化合物が特定のモル比率からなる組成物であって、さらに当該撥水性コーティング剤を基板に塗布したのち、室温下で自然乾燥によって硬化させてなる形成方法を用いている。 （もっと読む）

【課題】均一な浮上量で基板を浮上させること。
【解決手段】所定領域に液状体を吐出するノズルを有する塗布部と、前記所定領域を通過するように基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、少なくとも前記所定領域において前記基板のうち基板搬送方向に直交する方向の端部の浮上量を調整する調整部とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板上の膜形成領域外への配向膜の広がり量を抑制すること。
【解決手段】基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布するにあたり、膜形成領域が当該膜形成領域以外の表面に対して高い親液性とされた基板がステージに載置されたときには、設定された配置パターンで配向膜形成液の液滴が膜形成領域に対して塗布されるように塗布ヘッドのノズルから配向膜形成液の液滴を吐出させるべく、塗布ヘッドとステージとを相対移動させる移動装置と塗布ヘッドを制御する。 （もっと読む）