【課題】緻密な皮膜を長期にわたって形成することができる耐久性の高い加速ノズル付きプラズマ装置を提供する。
【解決手段】溶射材料をプラズマジェットとともに噴射する噴射通路に、プラズマの熱により溶融されて飛行する溶射材料粒子を加速し、噴射させる加速ノズルが接続されている加速ノズル付きプラズマ溶射装置において、上記加速ノズルは、その先端側に向けて内径が連続的または段階的に拡大するノズル孔Ｈを有し、上記ノズル孔の内壁に、上記先端側に向けてシールドガスを筒状に噴射するためのスリットＴ_５〜Ｔ_７が上記ノズル孔の長さ方向に沿って複数段形成され、各段の上記シールドガス噴射口に、上記シールドガスの流れを上記加速ノズルの中心軸と略平行に向けるガス流偏向部３ｃ，４ｋが設けられ、そのガス流偏向部の先端が鈍頭エッジに形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】溶滴となった粒子表面の酸化を低減することで、酸化物が少ない溶射皮膜を形成することが可能なプラズマ溶射装置の提供。
【解決手段】陰極４０の外周に一次ガス通路１１を形成して陰極４０の先端部を覆う一次ガスノズル１０と、一次ガスノズル１０の外側に配置されて二次ガス通路２１を形成する二次ガスノズル２０と、一次ガスノズル１０と二次ガスノズル２０との間に、プラズマフレームＦの外周部にプラズマフレームＦの熱を受けて高温のガス噴射とするための三次ガスを噴射する三次ガス通路３１を形成する三次ガスノズル３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】大型化を招くことなく基材を適切に冷却可能な溶射装置を提供する。
【解決手段】
半導体モジュール２の被膜対象形成面２ａに溶射によって被膜を形成する際に、保持部材５によって、被膜対象形成面２ａを含む半導体モジュール２の一部が冷却水の液面よりも上方に位置付けられるように保持する。これにより、空気等の冷却用気体に対して比熱が大きい冷却水によって半導体モジュール２の冷却でき、空気にて冷却する場合に対して、冷却効率を高めることができるので、保持部材５によって半導体モジュール２を強固に保持固定する必要が生じなくなる。その結果、溶射装置全体としての大型化を招くことなく基材を適切に冷却することができる。 （もっと読む）

【課題】調整可能プラズマスプレーガン装置（１０）を提供すること。
【解決手段】 一実施形態では、調整可能プラズマスプレーガン装置（１０）は、前方部分及び後方部分を有するプラズマスプレーガン本体（２０）と、後方部分においてプラズマスプレーガン本体（２０）に取り外し可能に取り付けるように構成された第１のカプラ（３０）とを含み、第１のカプラ（３０）が、後方部分においてプラズマスプレーガン本体（２０）に取り外し可能に取り付けるように構成された第１の軸方向開口（３３）を有する第１の部分（３２）と、電極本体（４０）又は第２のカプラ（５０）の一方に取り外し可能に取り付けるように構成された第２の軸方向開口（３５）を有する第２の部分（３４）とを含む。 （もっと読む）

【課題】プラズマガン出口ノズルに対称的多ポート粉末噴射リングを設置する。
【解決手段】対称的に配置した粉末噴射器７０をプラズマガンの出口ノズルに取り付ける。粉末噴射器は、プラズマガンの出口ノズルに取り付け可能なシュラウド５５を有し、シュラウド５５は滑らかで連続的な内壁をプラズマガン出口ノズルに形成する。 （もっと読む）

【課題】燃焼溶射ガンのためのバルブを提供すること。
【解決手段】装置は、燃焼溶射ガンのハウジング１５に対してチャージ位置に回転可能なトーション要素３０を含む。装置はまた、トーション要素３０に力を加える付勢要素も含み、その力がバルブコアをオフ位置に移動するようにトーション要素３０を押し付ける。装置はさらに、トーション要素３０に選択的に係合し、チャージ位置に保持するように構成された係合機構も含む。 （もっと読む）

【課題】溶射生産性、沈積効率、コーティング品質、保守時間、陰極材料による汚染等の改善を図ったプラズマトーチの提供をおこなう。
【解決手段】チャンバー（２６）中で、電気アークを発生しうるように軸Ｘに沿って延在する陰極および陽極、並びに注入軸（Ｉ_ｉ）に沿って注入孔（７４）を介してチャンバー内にプラズマ形成ガスを注入する注入導管（７２）開口を有するデバイス（３０）を備えるプラズマ発生器、および溶射されるべき物質をプラズマ発生器によって発生されたプラズマ流束中に注入する手段を備えたプラズマトーチであって、軸Ｘと注入孔中心との最小距離である注入孔の径方向距離（ｙ_ｉ）と、陽極と陰極間の最小径方向距離の軸方向位置ｐ_ＡＣの下流のチャンバー領域内の陰極の最大横断寸法（Ｄ_Ｃ）との比Ｒ”が２．５未満であり、且つ注入孔中心を通る横断面への注入軸（Ｉ_ｉ）の射影は、軸Ｘと注入孔中心を貫通し横断面中に在る半径と、４５°未満の角度βを成す。 （もっと読む）

【課題】作業ケース内の受給部への供給物質の供給量を、作業ケース内の雰囲気状態の影響を受けることなく計量することが可能な物質供給計量装置、粒子加工装置、被覆装置及び被覆システムを提供する。
【解決手段】物質供給計量装置１００によれば、モータ５０の雄カプラ５３に備えたインナーマグネットと、供給ドラム１１内の雌カプラ４０に備えたアウターマグネットとを作業ケース４００の内外で非接触状態で磁気結合することにより、モータ５０のロータの回転が供給回転部材２１に伝達される。また、粉粒体を含む供給ドラム１１全体の重量の変化がアウターマグネットからインナーマグネットに伝達され、更に、可動ベース３２０を介して、作業ケース４００の外側に設けられた計量器３００に伝達される。これにより、粉粒体の供給量を作業ケース内の雰囲気状態の影響を受けることなく計量することができる。 （もっと読む）

【課題】溶融粒子の飛行速度を高め、皮膜性能の向上を図ることができる粒子加速ノズル付きプラズマ溶射装置およびプラズマ溶射方法を提供する。
【解決手段】プラズマ溶射装置において、プラズマジェットFを噴射するプラズマガン3のノズル部2と接続される加速ノズル5を有し、加速ノズル5は、その先端に向けて内径が連続的または段階的に拡大するノズル孔を有し、ノズル孔における周方向内壁に、加速ノズル先端側に向けて略筒状のシールドガスを噴射するための噴射口T₀〜T₄が形成され、上記噴射口は、ノズル孔の中心軸C方向に複数段設けられ、各段の噴射口にガスを供給するガス供給路5n，5j〜5mが個別に設けられ、プラズマジェットの噴射方向において少なくとも最上流側の噴射口に通じるガス供給路5nに、不活性ガスまたは不活性ガスを主成分とするガスが供給されるように構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、液体供給材料から基材上に皮膜を製造するための装置を提供する。装置は、軸方向注入溶射トーチと、液体供給材料の制御された流れをトーチに送達する液体供給材料送達手段とを含む。トーチには、中細ノズルが設けられる。
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【課題】精度良く安定して基板上にコーティング形成材料のコーティングを形成するためのコーティング形成方法等を提供する。
【解決手段】コーティング形成材料の飽和蒸気形成工程、飽和蒸気をキャリアガスと混合してコーティング形成材料含有ガスを形成する工程、コーティング形成材料含有ガスを誘電体バリア型大気圧プラズマ放電中におよび／または誘電体バリア型大気圧プラズマ放電から発生したイオン化ガス流中に導入する工程、コーティング形成材料含有ガス中のコーティング形成材料をプラズマ重合させて基板上に堆積させることによってコーティングを形成する工程を含む、コーティング形成材料のコーティング形成方法等を提供する。 （もっと読む）

【課題】粒径の小さい溶射材料を使用しても、溶射装置の内部に溶射材料が付着することや、付着した溶射材料がスピッティングを起こすことがない溶射装置を提供する。
【解決手段】溶射材料供給部１０４は、溶射材料供給部１０４から燃焼ガス中に供給した溶射材料が、溶融する前に噴射口１０３ａから溶射装置１００の外へ噴射されるような位置に配置される。これにより、溶射材料が溶射装置内部に付着しやすい溶融状態となる前に噴射されるため、溶射装置内への付着やスピッティングを防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】皮膜が形成される領域と形成されない領域との境界付近におけるバリの発生を抑制することが可能なマスキング治具、および環状部材の被覆方法を提供する。
【解決手段】マスキング治具１０は、軸受外輪８に対して被覆材であるアルミナの溶射を行ない、アルミナ皮膜９を形成する軸受外輪８の被覆処理において、アルミナ皮膜９が形成されるべき皮膜形成領域（外周面８１および端面８２）以外の領域（内周面８３、転走面８４および面取り部８５）を覆う。このマスキング治具１０は、軸受外輪８における皮膜形成領域以外の領域を覆うためのマスク部１１を備えている。マスク部１１は、アルミナが溶射される側の面である溶射面１２と、溶射面１２とは反対側の面である非溶射面１３とを含み、溶射面１２の外周を含む領域は、マスク部１１の外周に向けて非溶射面１３に近づくように傾斜する傾斜面１２Ａとなっている。 （もっと読む）

移動する基材の側面をコーティングするためのシステム。このシステムは、プラズマ供給源のアレイ、このアレイの上流に位置する第１複数のオリフィスおよびこのアレイの下流に位置する第２複数のオリフィスを含む。コーティング反応物を各オリフィスからそのオリフィスに関連するプラズマ供給源から出るプラズマジェットの中へ噴射する。制御装置がこの基材の輪郭およびこのアレイに対する基材の位置に従ってこのコーティング反応物の流れおよびこれらのオリフィスへのフラッシュガスの流れを調節する。この基材の反対の側面をコーティングするために追加のプラズマアレイおよびオリフィスの組を使ってもよい。
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【課題】隣接するエアフォイルに対して視野方向にコーティングを施すのを、各エアフォイルが邪魔する領域にも施すことができるコーティングシステムを提供する。
【解決手段】コーティング用エンドエフェクタ４８は、ロボットによって担持することができる。プラズマ溶射ヘッド４４は、継手によってエンドエフェクタ４８に取り付けられる。複数のアクチュエータ８０，８２，８４は、継手４６に関節運動をさせるように、エンドエフェクタ４８とプラズマ溶射ヘッド４４を連結する。この装置は、ガスタービンエンジンのエアフォイルクラスタをコーティングするために使用することができる。コーティングは、ヘッド４４をエアフォイル間に通すステップを含む。 （もっと読む）

【目的】装置を大型化，複雑化することなくガス噴射位置を視覚的に正確に把握することができ、所望する箇所にピンポイントで正確にガス噴射させることができるガス噴射ノズル装置を提供する。
【構成】ガス噴射ノズル装置は、ノズル１に、その噴射口３からのガス噴射路の中心線上を通過して有色可視レーザ光１１を照射するレーザ発信器２を内蔵して、当該レーザ光１１の照射個所にガス１０が噴射されるように構成してある。レーザ発信器２としては、赤色レーザ又は緑色レーザを使用するレーザポインタが使用される。 （もっと読む）

【課題】溶射プロセスにおいて液体前駆体をプラズマ・トーチのプラズマ・ガス流内に完全に浸透させること。
【解決手段】プラズマ溶射デバイス１は、加熱区域６内でプラズマ・ガス５を加熱するためのプラズマ・トーチ４を含み、このプラズマ・トーチ４は、プラズマ・ガス流８を生成するためのノズル本体７を含み、且つこのノズル本体７を通って中心長手方向軸線１０に沿って延びるアパーチャ９を有している。アパーチャ９は、プラズマ・ガス５用の入口１２を有する収束セクション１１と、アパーチャの最小断面領域を含むスロート・セクション１３と、プラズマ・ガス流８用の出口１５を有する発散セクション１４とを有し、導入管１６が、プラズマ・ガス流８内に液体前駆体１７を導入するために提供される。本発明によれば、浸透手段１８、１８２が、プラズマ・ガス流８内部に液体前駆体１７を浸透させるために提供される。 （もっと読む）

【課題】施工対象の形状等に影響されず緻密で熱・電気伝導性が高く、酸化や熱変質も少なく、かつ密着性も良好な皮膜を施工することができるコールドスプレー装置を提供すること。
【解決手段】室温以上、材料粉末の融点未満又は軟化温度以下の作動ガスを、超音速流とし、前記材料粉末と共に噴出するコールドスプレーにおいて、コールドスプレーノズル内コールドスプレーノズル内にまたはノズルとコンプレッサー間の作動ガス配管内の作動ガスが高圧である部分に作動ガスを加熱するための加熱手段を設けることを特徴とするコールドスプレー装置。 （もっと読む）

【課題】コーティング材のプラズマ溶射技術を改善する。
【解決手段】プラズマ溶射装置として、コーティング材を溶射するためのプラズマ流を形成するためのプラズマ室領域２０１と、プラズマ室領域２０１に繋がったのど（スロート）領域２０２とを備え、そののど領域２０２は、端部表面２０３と軸線方向の穴部２０４を有し、軸線方向の穴部２０４は、のど領域２０２の長軸線２１０にほぼ沿って形成され、非円形の横断面形状をしてなり、上記端部表面２０３における軸線方向の穴部２０４は、プラズマ流を放出するためのものとした構成のプラズマ溶射装置である。軸線方向の穴部２０４は、のど領域２０２の長軸線２１０にほぼ沿って形成された多くの溝２０６を有していてもよい。これにより、プラズマ流は、プラズマ流が軸線方向の穴２０４から放出される前に線条化した流れにされる。プラズマ流は、それが軸線方向の穴部２０４から放出された後、粒子放出輪郭の全角度が約50°以下の角度を有している。 （もっと読む）

レーザークラッディング放出ヘッド（３８）用の粉体放出ノズル（３２）は、内部及び外側のスリーブ（５２、５４）を含む。上記内部スリーブ（５２）は、レーザービームを上記ノズルの軸に沿って通過させることを可能にする中央通路を定める。上記スリーブ（５２、５４）は、多く分岐した、縦方向に広がる粉体流路システム（５２、５７、５８、５９、６０、６２）を定める。上記システム（５２、５７、５８、５９、６０、６２）は、通路（５９）の第一の組と、通路（６０）の第二の組とを含み、第一の組の通路（５９）は、第二の組の通路（６０）から、角度に関してずれている。上記第一の組の各通路（５９）は、上記第一の組の各通路（５９）からの粉体が、第二の組の２つの通路（６０）へ通るように、環状の通路若しくは地下通路（５８）により、上記第二の組の２つの通路（６０）と通じている。同じ連絡の形式を、任意の他の組に対して適用することができる。
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