【課題】ナノインクに変質が生じ難く、ナノリスクが生じない、ナノインク塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明のナノインク塗布装置１は、金属ナノ粒子または半導体ナノ粒子を合成する合成部２と、合成部２で合成された金属ナノ粒子または半導体ナノ粒子を精製し、金属ナノ粒子または半導体ナノ粒子を含むナノインクを調製する調製部３と、調製部３からナノインクが供給され、対象物にナノインクを塗布する塗布部４と、を備え、合成部２は、マイクロチャネルが形成されたマイクロリアクターを備え、塗布部４は、外気を遮断する筐体１５に覆われている。 （もっと読む）

【課題】塗布ロボットを使った液剤塗布において、半導体や医療品に対応したクリーンな塗布を可能とする。
【解決手段】液剤塗布の装置カバー７の上部にＨＥＰＡフィルター６を設け、塗布ヘッド９の下方には、塗布部材（回路基板２）の上面を示すＡ−Ａのラインより下方にＸ−Ｙテーブル部２０の摺動部やＺ軸駆動部４２、Ｘ軸駆動部４３、Ｙ軸駆動部４４を配置し、ダウンフローエアの流れ４５は排気口１７を通過し排出される。 （もっと読む）

【課題】塗布ロボットを使った液剤塗布において、半導体や医療品、食品対応したクリーンな塗布を可能とする。
【解決手段】液剤塗布装置カバー上部のＨＥＰＡフィルターを設け、塗布ヘッドの下方には塗布部材を水平方向に位置決めるＸ−Ｙテーブル上に塗布部材を載置している。塗布時における塗布対応上下駆動部や、ＸＹテーブルユニットの摺動部や駆動部を塗布面より下方に構成した。 （もっと読む）

【課題】所期の特性を有する塗布膜を形成することができる加熱装置、塗布装置及び加熱方法を提供すること。
【解決手段】塗布膜を有する基板が配置される基板位置を前記塗布膜の膜厚方向に挟む第一加熱部及び第二加熱部と、前記基板位置と前記第一加熱部との第一距離、及び、前記基板位置と前記第二加熱部との第二距離、のうち少なくとも一方を調整する距離調整部とを備える。 （もっと読む）

【課題】塗布環境の変化を抑制すること。
【解決手段】易酸化性の金属及び溶媒を含む液状体を基板に塗布する塗布部と、前記塗布部によって前記液状体の塗布を行う塗布空間及び前記液状体の塗布された前記基板の塗布後移動空間を囲むチャンバーと、前記チャンバー内の雰囲気中における前記溶媒の濃度が閾値を超えたときに前記液状体を前記チャンバー内の雰囲気から隔離させる隔離部とを備える。 （もっと読む）

【課題】不活性ガスの供給流量にばらつきが生じてもチャンバー内を圧力を安定して保つことができ、初期動作時、不活性ガスの供給流量を増やして不活性ガス化に必要な時間を短縮させることができる基板処理システムを提供する。
【解決手段】基板に対し所定の処理を行う基板処理部と、前記基板処理部を密封状態に収容するチャンバーと、チャンバー内に不活性ガスを供給するガス供給部と、チャンバー内のガスを排気するガス排気部と、を備えており、前記チャンバー内の圧力がチャンバー外の圧力よりも高いチャンバー設定圧力になるように、前記ガス供給部の不活性ガスの供給流量と前記ガス排気部の排気流量とが調整される構成とする。 （もっと読む）

【課題】ウェハ外周部でレジストが薄膜化するのを抑制しつつ、レジストの消費量を低減することが可能な薄膜塗布装置および薄膜塗布方法を提供する。
【解決手段】ウェハＷ上には、レジストＲから気化した溶剤をウェハＷの外周部で飽和状態にさせる気化遮蔽プレート５が設けられており、気化遮蔽プレート５とのウェハＷと間隔は、レジストＲから気化した溶剤がウェハＷの外周部で略滞留し飽和状態を形成するように近接して設定する。 （もっと読む）

【課題】 製品品質の低下を極力防止し、良好なペーストの塗布を行なうこと。
【解決手段】 ステージ４を跨いで設けられた門形フレーム５の梁状部材５ａにガイド装置８を介して塗布ヘッド６を水平移動自在に支持する。ガイド装置８は、梁状部材５ａに固定されたガイドレール８ａ１とこのガイドレール８ａ１に摺動自在に設けられ塗布ヘッド６側に固定された可動台８ａ２とを有する。また、梁状部材５ａには、ガイドレール８ａ１に沿って複数の真空吸引孔５ｂが所定の間隔で設けられ、各真空吸引孔５ｂは、電磁弁を有する配管を介して真空源に接続される。 （もっと読む）

【課題】処理雰囲気を適切に制御しつつ、金属混合液を用いて基板上に金属膜を適切に形成する。
【解決手段】金属膜形成装置１の処理容器１０の内部は、不活性ガスの大気圧雰囲気又は減圧雰囲気に切り換え可能になっている。処理容器１０の内部には、ウェハＷを保持するスピンチャック２０と、ウェハＷの側方を囲むように設けられたカップ体３１と、ウェハＷ上に金属混合液を吐出する塗布ノズル６０と、ノズル駆動部６５の動力を塗布ノズル６０に伝達するノズル伝達部６４と、塗布ノズル６０を待機させるノズルバス６６とが設けられている。処理容器１０の外部には、水平方向より所定の角度で傾斜した方向に沿って、スピンチャック２０とノズルバス６６との間で塗布ノズル６０を移動させるためのノズル駆動部６５が設けられている。 （もっと読む）

【課題】排気手段の消費電力を最適化することのできる粉体塗装装置を提供する。
【解決手段】被塗装物検知手段２９によって検出された被塗装物１９の大きさに基づいて、扉部４ａ，４ｂ及び６ａ，６ｂそれぞれの分割扉部のうちの少なくとも一部が開く。塗装ブース２内に入った被塗装物１９は、塗装ブース２内を移動する間に、塗装ガン１０ａ，１０ｂから粉体塗料が吹き付けられて塗装される。塗装ブース２内に流入する空気の速度が下限流入速度以上となり、かつ、塗装ブース２内の粉塵濃度が粉塵爆発下限濃度以下となり、かつ、流速センサーによる検出値が下限流通速度以上となる回転数で、排気ファンが塗装ブース２内の空気を吸引する。 （もっと読む）

【課題】易酸化性の金属を含む塗布膜の膜質の低下を抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】易酸化性の金属を含む液状体を基板に塗布する塗布部と、前記塗布部によって前記液状体の塗布される塗布空間及び前記液状体の塗布された前記基板の塗布後移動空間を囲むチャンバと、前記チャンバ内の酸素濃度及び湿度のうち少なくとも一方を調整する調整部とを備える。 （もっと読む）

【課題】易酸化性の金属を含む塗布膜の膜質の低下を抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】易酸化性の金属を含む液状体を基板に塗布する塗布部と、前記塗布部によって前記液状体の塗布を行う塗布空間及び前記液状体の塗布された前記基板の塗布後移動空間を囲むチャンバと、前記チャンバ内の酸素濃度及び湿度のうち少なくとも一方を調整する調整部と、前記チャンバ内への異物の侵入に応じて前記塗布部の動作を停止させる制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】易酸化性の金属を含む塗布膜の膜質の低下を抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】易酸化性の金属を含む液状体を基板に塗布する塗布部と、前記塗布部によって前記液状体の塗布を行う塗布空間及び前記液状体の塗布された前記基板の塗布後移動空間を囲むチャンバと、前記チャンバ内の酸素濃度及び湿度のうち少なくとも一方が閾値を超えたときに前記液状体を前記チャンバ内雰囲気から隔離させる隔離機構とを備える。 （もっと読む）

本発明は、第１有機物層（２）と第１無機物層（４）によってフレキシブル基板（１）をコーティングするための装置に関するものである。本発明による装置は、第１および第２チャンバ（１０，２０）と、雰囲気分離スロット（３０）と、を備えている。第１チャンバ（１０）内には、前駆体またはオリゴマーまたはポリマーネットワークと重合開始剤とを含有した混合物でフレキシブル基板をプリントするプリント設備（４０）が配置されている。第１チャンバ（１０）内には、成膜された混合物を硬化させて第１有機物層（２）を形成する硬化設備（５０）が配置されている。第２チャンバ（２０）内には、基板（１）上に第１無機物層（４）を成膜する気相蒸着設備（６０）が配置されている。装置は、基板（１）を設備（４０，５０，６０）に沿って案内するための設備（７０）を備えている。
（もっと読む）

【課題】塗布により発生する汚染物質の拡散を防止しつつ、塗布スペースのクリーン度を確保し、基板へのパーティクルの付着を抑制する塗布装置を提供する。
【解決手段】基板１およびノズルヘッド１３のノズル噴出口を囲むように第１のブース１２を設け、かつ第１のブース１２を囲むように第２のブース１４を設置し、第１のブース１２内の圧力を第２のブース１４内の圧力より高くすると共に、第２のブース１４内の圧力を第２のブース１４外の圧力より低くする。 （もっと読む）

【課題】塗布液などのアンダーフィル剤の物性の変化を最小限に安定化してチップ部品と基板の間隙にアンダーフィル剤を充填することができるディスペンス装置を提供する。
【解決手段】チップ部品と基板の間隙に充填される塗布液４が貯留されている液貯留部１０と、前記液貯留部１０に配管１２を介して接続され、チップ部品が実装された基板に前記塗布液４を充填するディスペンサー１１を備えたディスペンス装置１であって、前記液貯留部１０に貯留される塗布液４の保管温度を一定にする温度調整手段２２を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】処理室内部の雰囲気が外部に漏洩することを確実に防止することができるとともに、処理室内のメンテナンスを外部から容易に行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】塗布処理室２１は、縦フレームＦａを含むフレームにより形成された開口部２１ｚを有する。フレームには開口部２１ｚを開閉可能にメンテナンス用扉Ｄが設けられる。開口部２１ｚを取り囲むように、フレームに溝付きトリム５０１が設けられる。溝付きトリム５０１は、開口部２１ｚがメンテナンス用扉Ｄにより閉塞された状態でメンテナンス用扉Ｄに接触することによりメンテナンス用扉Ｄに対向する溝５０１ｇを有する。開口部２１ｚがメンテナンス用扉Ｄにより閉塞された状態で、溝付きトリム５０１の溝５０１ｇとメンテナンス用扉Ｄとにより形成された空間の雰囲気が吸引ユニットにより吸引される。溝５０１ｇの内側の空間が外部に対して陰圧に保たれる。 （もっと読む）

【課題】乾燥工程時に熱風の循環方式を改善して乾燥效率を高めることができるし、これと併せてブース設備の規模縮小及び燃料節減によるエネルギー效率を極大化させることができる塗装ブースを提供する。
【解決手段】ブース本体１１の一側に給気チャンバ１７を配置して、乾燥工程時に給気チャンバ内で１次加熱した熱風をブース本体の上部で電気ヒーター２７で再び加熱することで、ブース内に供給される熱風の温度を均一にさせて、給気チャンバ内にダンパ２５，２６及び循環ファン１５を設置して流速を遅く調節することによって、ブース本体を通じて循環されて来る熱風だけではなく、加熱室２３の熱風を再び循環させながらこれを電気ヒーターで２次加熱して供給するようにすることで、熱損失を最大限減らしてブース本体内に供給される熱風の熱量を短時間に高めて均一に供給でき、熱風の安定的な流れを誘導して燃料節減によるエネルギー效率を向上させる。 （もっと読む）

【課題】吐出ヘッドにより液体を吐出する方法を用いて、半導体デバイスの配線を適切に形成する。
【解決手段】導電性の配線が形成される半導体デバイス５２の製造工程において、配線の少なくとも一部を形成する配線形成装置１０であって、導線性物質を含む液体を吐出するノズルを有し、半導体デバイス５２において配線が形成される領域へ当該ノズルから液体を吐出する吐出ヘッド１８と、吐出ヘッド１８及び半導体デバイス５２を内部に収容するチャンバ部１２と、チャンバ部１２内の気圧を大気圧よりも低い圧力に減圧する減圧手段である真空ポンプ１６とを備え、吐出ヘッド１８は、チャンバ部１２内が減圧された状態で、半導体デバイス５２へ液体を吐出する。 （もっと読む）

【課題】ミラー間の多重反射による光幕形成により、塗装ブース内で浮遊する塗料粒子等を可視化する塗装ブース用粉塵可視化装置を提供する。
【解決手段】被塗物搭載用台車の搬送路が敷設されて、その側方に塗装装置が設置にされている塗装ブース内の浮遊塗料粒子を可視化するための塗装ブース用粉塵可視化装置において、搬送路を走行する台車に、平行に対向する縦長形状の一対のミラー９、９ａを配置すると共に、レーザ発振器と、その前方に配置され、かつ入射光を縦長に拡散する拡散レンズ１２と、その出射光を縦方向に幅広の平行なシート光に変換する縦長形状のフレネルレンズ１３とを備えた光源１０が、シート光をミラー９、９ａの直交方向に対してミラー９、９ａの縦長方向へ斜めの角度で一方のミラー９、９ａに入射させるように、その端部領域に設けられ、角度が、ミラー９、９ａの交互の斜め方向への多重反射により、隙間のない光幕を形成するように設定されている。 （もっと読む）