【課題】エレクトレット組成物を提供する。
【解決手段】開示されるのは、優れた熱及び帯電安定性を有するエレクトレット組成物である。エレクトレット組成物は、熱可塑性ポリマーと、少なくとも１つの式Ｉ
【化１】


（式中、
Ｒ_a’は、モノアシル基又はジアシル基を表し；Ｒ₁ないしＲ₄は、各々炭素原子数１な
いし６のアルキル基を表し；及びＲ₅及びＲ₆は、各々互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基又は炭素原子数６ないし１０のアリール基を表すか；又は Ｒ₅及びＲ₆は一緒に酸素原子を表す。）で表される部分を含む少なくとも１種のヒンダードヒドロキシルアミンエステル化合物との溶融ブレンドを含む。溶融ブレンドに、エレクトレット処理、例えばコロナ処理が行われる。 （もっと読む）

本発明は、コーティングおよびプラスチックのようなポリマー材料に添加剤を組み込む方法であって、添加剤を含む組成物の除去可能なコーティングをポリマー材料の表面に塗布する前に、ポリマー材料を光で処理し、コーティングを添加剤をポリマー材料に拡散させるのに十分な時間、ポリマー材料に接触させておくことを含む方法である。 （もっと読む）

【課題】光学用プラスチックフィルムに混入または強固に付着している埃、フィルム片といった塵芥を除去できる洗浄装置、塗工装置等を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムを巻回したロールよりプラスチックフィルム１を巻き出す巻出し部５と、プラスチックフィルム１を純水１２の浴槽１１中に浸漬し超音波を用いて洗浄する第１の洗浄部１０Ａと、該第１の洗浄を終えたプラスチックフィルム１を純水を用いてスプレー洗浄する第２の洗浄部１０Ｂとからなる洗浄部と、ニップロール３及び／又はエアーナイフ４による水切り部と、プラスチックフィルム１の乾燥部５０と、プラスチックフィルム１をロール状に巻き取る巻取り部８とを設けた光学用プラスチックフィルムの洗浄装置。また上記洗浄装置を塗工部６０の前に設置した塗工装置。
【効果】塵芥の再付着無しに、欠陥の少ない光学用プラスチックフィルムが提供される。 （もっと読む）

【課題】ポリオレフィン系合成樹脂フィルムに静防性と耐有機溶剤性を持たせることができ、ナイロンに比べて価格的に廉価で有機溶剤系に侵されない合成樹脂フィルムを提供する。
【解決手段】静電防止剤を加えたポリオレフィン系の合成樹脂フィルム１を放射線の照射装置３に通すことによって合成樹脂フィルム１に３０ＫＧｙ以上、好ましくは２５０ＫＧｙ以上の線量の放射線を照射し、合成樹脂フィルム１を架橋することによって、静防性と耐有機溶剤性を与える。 （もっと読む）

本発明は、機能的生体分子に結合することができる活性化ポリマー基質、結合した機能的生体分子を含むポリマー基質、このような基質を含むデバイス、およびそれらを製造する方法に関する。
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【課題】印刷性、塗装性、耐熱性、耐衝撃性、親水性、疎水性に優れ、或いは金属、プラスチック、紙類などとの接着性能などに優れた性能を発現するポリオレフィン系成形体、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ポリオレフィン成形体（Ａ）表面に極性重合体（Ｂ）がコーティングされたポリオレフィン系成形体であり、当該極性重合体（Ｂ）がポリオレフィン成形体（Ａ）表面に共有結合を介し結合した構造を有することにより、ポリオレフィン基材の性質を損なうことなく、実質的に界面の剥離がない、極性セグメント層がコーティングされる。 （もっと読む）

【課題】紙やプラスチックを原料とした板紙やプラスチックシート、あるいは紙容器、またはプラスチックボトルの２次平面、あるいは３次曲面の表面プラズマＣＶＤ法で成膜する成膜装置に関する。詳しくは、圧力が１００Ｐａから０．５Ｐａの領域で成膜する成膜装置に関する。
【解決手段】
１つの筐体からなるサブチャンバーに複数のメインチャンバーが整列し、その内部に収納されたプラスチック容器の内面に全数同時にプラズマＣＶＤ法で薄膜を形成する装置であって、メインチャンバーあるいはサブチャンバーに組み込んで容器から流れ出る生成ガスの排出速度を調整する部材が具備されていることを特徴とする成膜装置。 （もっと読む）

【課題】
均一性の高い相互侵入高分子網目構造体を得る。また、研磨時の研磨速度の面内均一性が高く、平坦化特性に優れ、研磨時のパッド寿命が改良された研磨パッドを提供する。
【解決手段】
ビニル化合物とラジカル重合開始剤からなるラジカル重合性組成物に、ビニル化合物重合用連鎖移動剤を０．０１〜２０重量％含有する高分子成形体を浸漬させる工程、ラジカル重合性組成物を含浸させた高分子成形体の膨潤状態下においてビニル化合物を重合させる工程、を包含する相互侵入高分子網目構造体の製造方法。
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ａ） マトリックスプロピレンポリマーおよびエチレンプロピレンゴムを有するプロピレン異相系コポリマー（Ａ）
を含んでいる組成物から造られたブローンフィルムであって、１：１．１〜１：１０の延伸比で機械方向に一軸配向されていることを特徴とするフィルム、このようなフィルムを造る方法、当該組成物をこのようなフィルムを製造するのに使用する方法、ならびにこのようなフィルムを含んでいる物品。 （もっと読む）

官能化基材、官能化基材を作製する方法、及び官能化基材を使用する方法を開示する。
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【課題】柔軟性及び耐摩耗性に優れた樹脂成形品を提供する。
【解決手段】（Ａ）１，２−ビニル結合含量が７０％以上、結晶化度が５〜５０％であるシンジオタクチック１，２−ポリブタジエン５〜１００質量部、及び（Ｂ）熱可塑性重合体０〜９５質量部（但し、（Ａ）＋（Ｂ）＝１００質量部）、を含有する重合体成分からなる成形品の表面に、照射線量が０．１〜１０Ｍｒａｄ、加速電圧が１０〜８００ｋＶの電子線を照射することによって得られる樹脂成形品である。 （もっと読む）

【課題】低損失で自己発熱が小さく、安定した損失特性を有する電磁調理器用コンデンサ用ポリプロピレンフィルムを提供する。
【解決手段】フィルム中に含有するフェノール系酸化防止剤の含有量が１００ｐｐｍ以上４５００ｐｐｍ以下であるポリプロピレンフィルムであって、そのうちカルボニル基を有するフェノール系酸化防止剤が３０００ｐｐｍ以下であるポリプロピレンフィルムであって、コロナ放電処理がフィルムのカール内面に施され、かつ幅方向の熱収縮率が−１．０％以上１．０％以下であることを特徴とする電磁調理器用コンデンサ用ポリプロピレンフィルム。 （もっと読む）

【課題】深み感のあるシルキー性でマット調のある高意匠性を具えた樹脂物の成形を可能とする。
【解決手段】ポリ乳酸と重量平均分子量が１０万以上のポリプロピレンと無機充填剤とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】
酸性領域での吸着を可能にする吸着材を提供するとともに、中性領域で吸着困難であった吸着をより容易に高速で且つ高吸着容量の吸着材を提供するものである。
【解決手段】
高分子基材に放射線を照射した後に、この基材に、金属吸着に適するホスホン酸基及びスルホン酸基をグラフト重合により導入した二官能性吸着材。 （もっと読む）

【課題】本発明は、工業的または経済的に十分な反応速度で効率よくフッ素化反応を行うことが可能な表面フッ素化基材の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】反応容器中に、Ｃ−Ｈ結合を有する化合物からなる基材と不活性液体とを導入し、該基材を該不活性液体中に浸漬させる工程、反応容器中に２０体積％以上のフッ素を含む気体を導入してフッ素を不活性液体中に溶解させ、該基材の不活性液体に浸漬された部分の表面をフッ素化する工程、を含むことを特徴とする表面フッ素化基材の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、絶縁体、半導体、二元化合物若しくは三元化合物、又は複合材料表面上に芳香族基をグラフトするための芳香族基Ｒを保有するジアゾニウム塩Ｒ−Ｎ_２^＋の使用に関し、上記ジアゾニウム塩は、その溶解限度に近い濃度で、特に０．０５Ｍよりも高い濃度で、好ましくは約０．５Ｍ〜約４Ｍの間の様々な濃度で存在する。 （もっと読む）

被覆された物体は、耐水性被覆を含む1またはそれ以上の被覆層を具備し得る。方法は、火炎処理、コロナ処理、イオン化空気処理、プラズマ空気処理およびプラズマアーク処理およびディップ、スプレーまたはフロー被覆から選択される1またはそれ以上の方法により物体基材を処理することによりそのような被覆層を塗布することを具備する。さらに、方法は第１の基材材料を成形して物体を形成し、火炎処理、コロナ処理、イオン化空気処理、プラズマ空気処理およびプラズマアーク処理から選ばれる１またはそれ以上の方法により物体表面を処理し、1またはそれ以上のバリア材料で物体基材をオーバーモールドする注入を含む。
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【課題】優れた帯電防止効果、耐久性、汎用性を有する帯電防止剤を提供すること。種々の形状、物性を有する様々な素材の表面を、簡便な方法によって、優れた帯電防止機能を有する素材を提供すること。
【解決手段】 下記式（１）で示される帯電防止剤である。


（１）
ＸはＣＨＯまたはＣＯＯＨである。Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃は、それぞれ独立にＣ₁〜Ｃ₆の直鎖又は分岐のアルキル基である。ｎ、ｍは１から６の整数である。 （もっと読む）

本発明は、ポリマー表面（当該ポリマーは、後記のＲが水素を表す場合に、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）及びフルオロカーボンポリマーから選択されるポリマーと異なる）又はポリマー混合物表面（特には疎水性のもの）のヒドロキシル化、アルコキシル化或いはオキシカルボニル化（ポリマーはモノマーユニットで構成され、この中の少なくとも５０％が脂肪族ユニットである）のためのＲＯ^・ラジカルの使用に関し、Ｒは、水素、炭素数２〜１５のアルキル基、アシル基−ＣＯＲ’（但し、Ｒ’は、炭素数２〜１５のアルキル基、又はアロイル基−ＣＯＡｒ（但し、Ａｒは、炭素数６〜１５の芳香族基を表す）を表す）を表し、上記ＲＯ^・ラジカルは、電気化学的又は光化学的手段により生成される。 （もっと読む）

自家蛍光がより少なく、特異性がより良好なプラスチック基質の製造方法が提供される。上記方法は、（ａ）５０μｍ×５０μｍ以下の条件下で、Ｒ_ａ３ｎｍ未満またはＲ_ｑ４ｎｍ未満の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）表面粗さを有するプラスチック基質を調製する工程；（ｂ）前記プラスチック基質をプラズマで処理する工程；および（ｃ）前記プラスチック基質を表面修飾モノマーで処理する工程を含む。また、上記方法により製造されるプラスチック基質も提供される。上記プラスチック基質は、自家蛍光が顕著に低く、よって標的生体分子の検出に対するよりよい特異性を示す。このことにより、微小流体構造を含ませる設計がガラス基質に比して容易でありながら、高い自家蛍光のために、マイクロアレイ、バイオチップまたはウェルプレートへの利用が限られていたプラスチック基質を、広範に適用することが可能となる。更に、上記プラスチック基質の製造方法は、プラスチック基質の表面特異性を向上することができ、またプラスチック基質の表面特性を容易に調節することができる。 （もっと読む）