説明

Fターム[4F209PN03]の内容

Fターム[4F209PN03]に分類される特許

21 - 40 / 344


【課題】微小な凹凸部を有する成形品の成形方法であって、多数個の成形品を安価で安全に成形する。
【解決手段】微小な凹凸部を有する成形品の成形方法であって、(i)樹脂を200℃以上350℃以下の温度範囲まで加熱し溶融する工程、(ii)溶融樹脂を、100℃以上250℃以下に保たれた下金型の上に塗布する工程、(iii)塗布した溶融樹脂を上金型と下金型との間に挟持し、0.1MPa以上30MPa以下で加圧し、5秒〜200秒間保持して成形する工程、および(iv)40℃以上200℃以下の温度範囲まで降温して金型より成形品を取り出す工程を含み、上金型と下金型のどちらか一方の金型は任意の形状を多数個成形するための金型であって、該多数個成形するための金型は、それぞれ独立した多数個のスタンパーを組み合わせたものであり、各スタンパー間の隙間の最大値が0.1μm以上50μm以下であることを特徴とする成形品の成形方法。 (もっと読む)


【課題】貫通孔を高精度に形成することが可能なインプリントモールドを提供する。
【解決手段】インプリントモールド10は、例えば、シリコン(Si)から構成される熱インプリント用の金型である。支持部11と、支持部11から突出し、バイアホールに対応する突起部12と、突起部12の先端面141に形成された親油性膜16と、この先端面141を除く全ての表面に離型膜17を備えている。この親油性膜16は、例えば、ヘキサメチルジシラザン(HMDS,C6H19NSi2)、又はオクタデシルトリクロロシラン(OTS,SiCl3C18H37)等から構成されている。一方、離型膜17としては、例えば、フッ素系単分子膜等を例示することができる。 (もっと読む)


【課題】
凹凸パターンおよび凹凸形状の制御が行い易い凹凸パターン形成方法を提供する。
【解決手段】
基材上に硬化性成分を含む活性エネルギー線硬化性組成物を積層する工程(A)、前記積層された活性エネルギー線硬化性組成物にマスクを介さずにレーザー光を照射する工程(B)、および前記積層された活性エネルギー線硬化性組成物を加熱する工程(C)をこの順に有し、
前記工程(B)において、デジタルミラーデバイスを介してレーザー光の照射量をパターン状に変化させ、かつ該パターンがレーザー光の照射量を段階的に変化させながら照射する領域を有することを特徴とする、凹凸パターンの形成方法。 (もっと読む)


【課題】微小な高アスペクト比の凹凸部を有する成形品の成形方法であって、成形品を金型から変形なく簡単に安全に取り出すための成形方法を提供する。
【解決手段】アスペクト比が0.5以上20.0以下、長さ(L)が50μm以上1000μm以下である微小な凹凸部を有する成形品の成形方法であって、(i)樹脂を200℃以上350℃以下の温度範囲まで加熱し溶融する工程、(ii)溶融樹脂を、100℃以上250℃以下に保たれた下金型の上に塗布する工程、(iii)塗布した溶融樹脂を上金型と下金型との間に挟持し、0.1MPa以上30MPa以下で加圧し、5秒〜200秒間保持して成形する工程、および(iv)40℃以上200℃以下の温度範囲まで降温して金型より成形品を取り出す工程、を含み、上金型と下金型のどちらか一方に任意の形状を成形するための金型、もう一方に金型より取り出す時に成形品を保持する加工がされた金型を用いる。 (もっと読む)


【課題】光源からの光を被照射面に均一に照射し、被照射面を均一に加熱することができる加熱装置及び加熱方法、並びに、転写率や生産性などを向上させることができる成形装置及びプラスチック成形品の成形方法の提供を目的とする。
【解決手段】加熱装置1は、断面形状が正方形のライトパイプ2と、このライトパイプ2と連結され、断面形状が正方形のライトボックス3と、このライトボックス3内に収容される光源4とを備えている。 (もっと読む)


【課題】柔軟性に優れ、曲げても小皺や折れが生じ難いポリスチレン系樹脂発泡シート製の周側枠材の提供。
【解決手段】容器の底板形状に沿わせて折曲形成できる長矩形をなすポリスチレン系樹脂発泡シート製の容器用周側枠材であって、表裏いずれか一方又は両方の面に、長手方向と直交する幅方向に沿って、多数のエンボス溝が設けられたことを特徴とする容器用周側枠材。 (もっと読む)


【課題】輝点の発生が抑制された導光板の製造方法を提供する。
【解決手段】この導光板の製造方法はシート製造工程と転写工程とを備える。転写工程は、連続樹脂シートを押圧ロールと形状ロールとで挟み込むことで押圧して形状ロールに圧着する押圧工程と、連続樹脂シートを形状ロールの周面に沿って搬送する搬送工程と、連続樹脂シートを形状ロールの周面から剥離する剥離工程とを含む。導光板の表面には、転写型に形成された複数の凹部に対応する複数の凸部が形成される。剥離工程の前に、連続樹脂シートの幅方向における全ての地点において連続樹脂シートと形状ロールとを非圧着状態とする。 (もっと読む)


【課題】消失し難い隠しマークをシンプルに形成可能であるマーキング方法等を提供する。
【解決手段】プラスチックの表面に対し、レーザー光を、マークの形状に対応するように照射して、当該表面のうち当該レーザー光を照射した部分を隆起させることで、当該マークを形成するマーキング方法であって、前記マークの形状に対応する前記レーザー光の照射を複数回行い、少なくとも一部の当該照射を、他の当該照射に対して一部重なるように行う。このようなレーザー光の照射により、マークの幅方向の断面形状が台形状となる。 (もっと読む)


【課題】輝点の発生が抑制された導光板の製造方法を提供する。
【解決手段】この導光板の製造方法はシート製造工程と転写工程とを備える。転写工程は、連続樹脂シートを押圧ロールと形状ロールとで挟み込むことで押圧する押圧工程と、連続樹脂シートを形状ロールの周面に密着させたまま搬送する搬送工程と、連続樹脂シートを形状ロールの周面から剥離する剥離工程とを含む。シート製造工程において押し出される樹脂の温度は、樹脂のガラス転移温度Tgに対して、(Tg+110)℃〜(Tg+200)℃の範囲である。形状ロールの温度は、(Tg−25)℃〜(Tg−5)℃の範囲である。転写型に形成された複数の凹部の深さDと複数の凹部のピッチPとの比率D/Pは、0.05〜0.45の範囲である。導光板の表面には複数の凹部に対応する複数の凸部が形成される。 (もっと読む)


【課題】微細構造を有するスタンパに溶融樹脂を押圧し、冷却・固化させてその微細構造が転写成形された微細構造体を成形する方法において、高精度、高生産性で肉厚の微細構造体を成形することができる微細構造転写成形方法を提供する。
【解決手段】本微細構造転写成形方法は、微細構造を有するスタンパに溶融樹脂を塗布して固体状の転写素材を形成した後、その転写素材を転写成形温度まで加熱するとともに押圧し前記微細構造の転写成形を行うことにより実施される。 (もっと読む)


【課題】輝点の発生が抑制された導光板の製造方法を提供する。
【解決手段】この導光板の製造方法はシート製造工程と転写工程とを備える。転写工程は、連続樹脂シートを押圧ロールと形状ロールとで挟み込むことで押圧する押圧工程と、連続樹脂シートを形状ロールの周面に密着させたまま搬送する搬送工程と、連続樹脂シートを形状ロールの周面から剥離する剥離工程とを含む。押し出される樹脂の温度は、樹脂のガラス転移温度Tgに対して、(Tg+110)℃〜(Tg+150)℃である。樹脂はメタクリル酸メチルとアクリル酸メチルとの共重合体であり、共重合体中のアクリル酸メチル単位の比率は4質量%以上である。形状ロールの温度は、(Tg−5)℃〜(Tg+5)℃である。転写型の凹部の深さDとピッチPとの比率D/Pは、0.05〜0.45である。導光板の表面には凹部に対応する凸部が形成される。 (もっと読む)


【課題】合成樹脂シートにスタンパーをプレスすることにより微細な凹凸状ラインの集合体を転写する際に生じる合成樹脂シートの変形やそりを防止するとともに製造サイクルを短縮することができる、合成樹脂シートに装飾を転写する加飾合成樹脂シートの製造方法を提供すること
【解決手段】加飾合成樹脂シートの製造方法は、第1のガラス転移温度を有する第1の材料からなる第1のシート層1の上面に、第1のガラス転移温度より低い第2のガラス転移温度を有する第2の材料からなる第2のシート層2で形成された合成樹脂シート3を第2のガラス転移温度から第1のガラス転移温度までの間の温度に加温し、スタンパー5をプレスすることにより第2のシート層2に装飾を転写する工程を備える。 (もっと読む)


【課題】液晶配向用の基板として好適に利用できる表面微細凹凸体の製造方法を提供する。
【解決手段】熱収縮フィルム基材上に少なくとも一層以上の硬質層を備え、該硬質層の表面に形成された凹凸パターンの最頻ピッチが0.05μmを超え1μm以下で、凹凸パターンの深さが最頻ピッチを100%とした際の5%以上で、かつ配向度が0.25以下でピッチが略均等である液晶配向用のナノバックリング形状を有する表面微細凹凸体。 (もっと読む)


【課題】熱プレス成形において、熱可塑性板とスタンパとの接触状態を均一化する。
【解決手段】ボルスタ102と、スライド104と、スライド104を駆動する駆動装置106とを有するプレス装置と、ダイセット112,114を有する熱プレス成形装置100であり、ダイセット112,114は、内部に収容空間を有する枠体120と、枠体120の内部に挿入され、収容空間の容積を可変するようにスライドする熱板136と、収容空間に収容され、収容空間が縮小するように底板がスライドすると圧縮されるゴム部材138と、枠体に取り付けられ、収容空間に面する内面とスタンパ142を支持する外面とを有する可撓な天板140とを有する。収容空間が縮小するように熱板136がスライドすると、天板140は圧縮されたゴム部材138の弾性力を内面に受けて外方へ変形する。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、反射防止階層構造を提供することにある。
【解決手段】生物模倣型反射防止階層構造、複合反射防止階層構造、および生物模倣型反射防止階層構造のパターンを含む反射防止面が提供される。反射防止階層構造は、一次構造の1つまたは複数のクラスタ、および各一次構造上に形成された複数の二次構造を含む。一次構造は、約2マイクロメートルの主寸法を有するマイクロメートル範囲の寸法を有する。各二次構造は、ピッチおよび高さが約300ナノメートルであるナノメートル範囲の寸法を有する。 (もっと読む)


【課題】複数の微小な凸部または凹部が並べられて構成されるアレイ基板を、型部材を用いて転写成形する際に、基材への複雑な前工程をおこなうことなく、原材料となる基材と、型部材との間に生じる気体がアレイ基板などに転写されることなくアレイ基板などを形成できる方法を提供する。
【解決手段】熱可塑性を有するフイルム状の基板に対し、当該基板厚の0.25倍から2倍の孔径、および当該孔径の5倍から40倍のピッチを有して複数の孔を形成する孔形成工程と、複数の凸部または凹部がアレイ状に形成された型部材を加熱し、複数の孔が形成された基板の押圧をすることによって、基板に複数の凸部または凹部の転写をする転写工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】 レーザー光を用いて樹脂フィルムにハーフカット部等の凹部を形成した際に、凹部が形成された領域の両面から容易に破断可能な樹脂フィルムを得ることができる樹脂フィルムの加工方法を提供すること、及び、該加工方法によって形成された樹脂フィルムを提供することを課題とする。
【解決手段】 樹脂フィルムの他方の面に、樹脂フィルムよりも高い割合でレーザー光を吸収して発熱する発熱層を形成し、樹脂フィルムの一方の面における発熱層に対応した領域にレーザー光を照射することで、樹脂フィルムにおけるレーザー光が照射された領域の一方の面側を発熱させると共に、樹脂フィルムを透過したレーザー光を吸収して発熱した発熱層によって樹脂フィルムにおけるレーザー光が照射された領域の他方の面側を加熱し、樹脂フィルムの両面の対応する位置に一対の凹部を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】厚さが薄い等、剛性が小さくシワの入りやすいフィルムに対しても、高品位かつ幅方向に均一に高精度なパターン形状を連続的に転写できる微細構造転写フィルムの製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】表面に微細構造が形成されたエンドレスベルト状の金型3を、加熱ロール4に抱かせながら加熱する金型加熱工程と、成形用フィルム2bと金型とを密着させた状態で、加熱ロール4と、ニップロール6により加圧する加圧転写工程と、金型3と成形用フィルム2bを密着させたまま冷却ゾーンまで搬送する搬送工程と、金型とフィルムを密着させたまま金型側から冷却する金型冷却工程と、冷却後の成形用フィルム2bを剥離する剥離工程とを含む微細構造転写フィルムの製造方法であって、加圧転写工程、搬送工程、金型冷却工程、及び剥離工程において、前記成形用フィルムの前記転写側表面とは逆側の面に保護フィルムを積層させた状態にする。 (もっと読む)


【課題】メサ型のモールドおよび/または被加工基板を用いたナノインプリントにおいて、硬化性樹脂塗布面に対する均等な圧力による押し付けを実現し、残膜ムラの発生を抑制する。
【解決手段】ナノインプリント方法において、表面全体が直接雰囲気に暴露可能な状態にあるアセンブリ8を、雰囲気による流体圧力Pが実質的にアセンブリ8の表面全体に作用するように、圧力容器110内において支持部材140で支持しながら、圧力容器110内に気体を導入し、この気体の流体圧力Pによって、モールド1と被加工基板7とを互いに押し付ける。 (もっと読む)


【課題】融点が300℃以上の被転写材料に対しても母型の転写パターンを破壊せずに繰り返し転写させることができる転写構造体の製造方法及びそれに用いる母型並びに耐熱性が高い微細構造体を提供する。
【解決手段】表面に転写パターンが形成された母型をオゾン洗浄し、オゾン洗浄した母型の表面に、下記一般式(I)で表されるシランカップリング剤の膜を形成し、シランカップリング剤の膜が形成された母型の表面に被転写材料を付与するとともに300℃以上に加熱することにより被転写材料に母型の表面の転写パターンを転写させる(式(I)中、nは10、12、又は14の整数を示し、mは3又は4の整数を示し、X、Y、Zは、それぞれ独立して、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、又はハロゲン原子を表す。)。
(もっと読む)


21 - 40 / 344