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耐腐食性を有する無鉛低融点ガラス組成物
【課題】
色素増感太陽電池等に代表される電子材料基板用の絶縁性被膜材料及び封着材料として用いられる無鉛低融点ガラス組成物に於いて、耐腐食性を有するもの望まれている。
【解決手段】質量%で、SiO2を10〜35、B2O3を1〜20、ZnOを0〜20、R2O(Li2O、Na2O、K2Oから選ばれる一種以上の合計)を2〜20、Bi2O3を40〜80含み、実質的に鉛成分を含まないことを特徴とする耐腐食性を有する無鉛低融点ガラス。
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MEMS素子パッケージ
【課題】MEMS素子パッケージの設計の自由度を低下させることなく、レーザ光の照射によりガラスフリットが溶解する際に電極が損傷する事態を防止しつつ、強固な封着強度を確保する。
【解決手段】本発明のMEMS素子パッケージは、MEMS素子が配置された素子基板と、素子基板のMEMS素子側の表面に間隔を置いて対向する封止基板と、MEMS素子の周囲を囲むように素子基板と封止基板との間の隙間を気密封着するガラスフリットを有するMEMS素子パッケージにおいて、素子基板とガラスフリットの間に配置され、且つガラスフリットを封着する際に照射されるレーザ光から電極を保護するための金属酸化物膜を有することを特徴とする。
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半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管
【課題】 低温で半導体素子を封入することが可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管を提供する。
【解決手段】 ガラス組成として、モル%で、SiO2 46〜60%、Al2O3 0〜6%、B2O3 13〜30%、MgO 0〜10%、CaO 0〜10%、ZnO 0〜20%、Li2O 9〜25%、Na2O 0〜15%、K2O 0〜7%、TiO2 0〜8%含有し、Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)がモル比で0.48〜1.00の範囲にあることを特徴とすることを特徴とする。
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無鉛低融点ガラス組成物
【課題】
電子材料基板を封着するための低融点ガラスであって、実質的にPbOを含まない無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】質量%でSiO2を1〜6、B2O3を5〜12、Al2O3を0〜5、ZnOを5〜20、RO(MgO+CaO+SrO+BaO)を0.1〜3、CuOを0.1〜7、Bi2O3を60〜75含むことを特徴とする無鉛低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料である。該無鉛低融点ガラス組成物は30〜300℃における熱膨張係数が(70〜100)×10−7/℃、軟化点が400℃以上500℃以下である特徴も持つ。
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半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管
【課題】 低温で半導体素子を封入することが可能であり、しかも耐酸性に優れ、またガラス管成形時に結晶が析出し難い半導体封入用無鉛ガラス及び半導体封入用外套管を提供する。
【解決手段】 ガラス組成として、モル%で、SiO2 45〜58%、Al2O3 0〜6%、B2O3 14.5〜30%、MgO 0〜3%、CaO 0〜3%、ZnO 4.2〜14.2%、Li2O 5〜12%、Na2O 0〜15%、K2O 0〜7%、Li2O+Na2O+K2O 15〜30%、TiO2 0.1〜8%含有し、ZnO/Li2Oが0.84〜2の範囲内にあることを特徴とする。
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封着材料及びこれを用いたペースト材料
【課題】レーザ封着に好適な封着材料を創案することにより、有機ELディスプレイ等の信頼性を高める。
【解決手段】本発明の封着材料は、SnO含有ガラス粉末を含む無機粉末 99〜99.95質量%と、顔料 0.05〜1質量%を含有する封着材料であって、顔料の一次粒子の平均粒径が1〜100nmであり、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。
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パワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板、パワーモジュール及びパワーモジュール用基板の製造方法
【課題】回路層上に半導体素子をはんだ材を介して、容易に、かつ、確実に接合することが可能なパワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板、パワーモジュール及びこのパワーモジュール用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層11の一方の面に、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる回路層12が配設され、この回路層12上にはんだ層2を介して半導体素子3が配設されるパワーモジュール用基板10であって、回路層12の一方の面には、ZnO含有の無鉛ガラスを含有するAgペーストの焼成体からなるAg焼成層30が形成されていることを特徴とする。
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封着用無鉛ガラス、封着材料、封着材料ペースト
【課題】本発明は、低融点での使用が可能で、かつ、耐水性を向上させた新規な封着用無鉛ガラスを提供する。
【解決手段】10〜55質量%のV2O5と、1〜10質量%のP2O5と、15〜70質量%のTeO2と、0〜13質量%のZnOと、0〜13質量%のBaOと、を含有し、ZnOとBaOとはその合量ZnO+BaOが0〜13質量%の範囲であり、実質的にPbO及びFe2O3を含有せずに、低融点での使用が可能で、かつ、耐水性を向上させた封着用無鉛ガラス、この封着用無鉛ガラスを用いた封着材料及び封着材料ペースト。
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接合用ガラスおよびこの接合用ガラスを用いた平板型ディスプレイ装置
【課題】配線のダメージあるいは真空度劣化を回避し、高信頼性、かつ長寿命の平面型ディスプレイ装置を構成するのに好適な接合用ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物換算で、V2O5:25〜50wt%、BaO:5〜30wt%、TeO2:20〜40wt%、WO3:1〜25wt%、P2O5:0〜20wt%を含有する。
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ガラス
【課題】Pb、Ge、Ga等の酸化物、もしくはフッ素などのハロゲン成分を含まずとも、または、Sn、Cuの酸化物を多量に含まずとも、耐水性に優れ、封着時またはその後の熱処理においても結晶化しにくく、低い封着温度および所望の熱膨張係数を実現でき、可視光の透過率が高い封止用ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準のモル%表示で、3%〜70%のB2O3、4%〜45%のZnO、0%〜30%のR2O(但し、RはLi、Na、K、Csから選ばれる一種以上)の各成分を含有し、酸化物基準のモル%で表されたR2O/B2O3の比の値が0.01以上1以下であり、ZnOとR2O成分の合計量が10%以上70%以下であることを特徴とするガラス。
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半導体パッケージ用カバーガラス及びその製造方法
【課題】 プラスチックパッケージに適合する熱膨張係数を有し、また画像検査で異物や塵等の有無を正確に検知することができ、またα線放出量が常に少ない半導体パッケージ用カバーガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 質量%で、SiO2 〜75%、Al2O3 1.1〜20%、B2O3 0〜10%、Na2O 0.1〜20%、K2O 0〜11%、アルカリ土類金属酸化物 0〜20%含有し、30〜380℃の温度範囲における平均熱膨張係数が90〜180×10−7/℃、ヤング率が68GPa以上、ガラスからのα線放出量が、0.05c/cm2・hr以下であることを特徴とする。
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電気素子パッケージ
【課題】電気素子パッケージの設計の自由度を確保しつつ、ガラスフリットの溶着時に加えられるレーザ光の照射熱によって、電極や電気素子が損傷するという事態を可及的に低減する。
【解決手段】有機EL層2を内部空間に気密封止した有機EL素子パッケージ1であって、有機EL層2が配置された素子基板3と、素子基板3の有機EL層2側の表面に間隔を置いて対向する封止基板4と、有機EL層2の周囲を囲むように素子基板3と封止基板4との間の隙間を気密封止するガラスフリット5と、素子基板3とガラスフリット5の間に配置され且つガラスフリット5を溶着する際に照射されるレーザ光を反射する反射膜として機能する誘電体多層膜8とを有する。この誘電体多層膜8は、低屈折率誘電体層と高屈折率誘電体層とを交互に積層したものから形成される。
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ガラス
【課題】Pb、Ge、Ga等の酸化物、もしくはフッ素などのハロゲン成分を含まずとも、または、Sn、Cuの酸化物を多量に含まずとも、耐水性に優れ、封着時またはその後の熱処理においても結晶化しにくく、低い封着温度および所望の膨張係数を実現でき、Tgが450℃以下の封着等に適したガラスを提供する。
【解決手段】 酸化物基準のモル%表示で、30%〜55%のP2O5、10%〜40%のZnO、0.01%〜30%のAl2O3、0%〜30%のR2O(但し、RはLi、Na、K、Csから選ばれる一種以上)の各成分を含有し、酸化物基準のモル%で表されたAl2O3/ P2O5の比の値が0.01以上1以下であることを特徴とするガラス。
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封着用ガラスタブレット
【課題】非酸化雰囲気(減圧雰囲気、不活性雰囲気等)であっても、450〜800℃の中温度域で金属材料等を良好に封着可能なSnO−P2O5系ガラスを含むガラスタブレットを創案することにより、長期間に亘って、封着部分の気密性を確保すること。
【解決手段】本発明の封着用ガラスタブレットは、少なくともSnO−P2O5系ガラスを含む封着用ガラスタブレットにおいて、SnO−P2O5系ガラスが、ガラス組成として、モル%表示で、SnO 15〜30%(但し、30%を含まず)、P2O5 20〜40%、WO3 5〜20%(但し、5%を含まず)、ZnO 6〜30%(但し、30%を含まず)を含有し、モル比SnO/ZnOが1以上、4.5以下であることを特徴とする。
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封着用ガラス
【課題】低温での信頼性に優れる封着性を維持しつつ、封着後のガラス(封着部)の耐候性を向上させた封着用ガラスを提供する。
【解決手段】封着用ガラスは、酸化物基準のモル%表示で、30〜33%のP2O5と、63〜69%のSnOと、0〜3%のZnOと、0.1〜3%のWO3、TeO2、GeO2、Ga2O3、In2O3、La2O3、CaO、及びSrOからなる群より選ばれる少なくとも1種とを含むガラス組成物からなり、ガラス転移温度が250℃以下である。
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光加熱封着用ガラス、封着材料層付きガラス部材、及び電子デバイスとその製造方法
【課題】レーザ封着に代表される光加熱封着に適用する際に、広い波長域で十分な光吸収率を有すると共に、封着温度を低温化することを可能にした封着用ガラスを提供する。
【解決手段】封着用ガラスは、酸化物基準のモル%表示で、27〜33%のP2O5、50〜70%のSnO、0.5〜3%のTeO2、0〜10%のZnO、0〜5%のCaO、0〜5%のSrO、0〜5%のB2O3、0〜5%のGa2O3、0〜3%のGeO2、0〜3%のIn2O3、0〜3%のLa2O3、及び0〜3%のWO3を含むガラス組成物からなる。封着用ガラスはレーザ光等の光ビームで加熱する封着工程に適用され、電子デバイス1の封着層6の形成に使用される。
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電子デバイス及びその製造方法
【課題】2枚のガラス基板間にスペーサを配置して封止する際に、レーザ封着によるスペーサやガラス基板のクラックや割れ等の発生を抑制することによって、封止性やその信頼性を高めた電子デバイスとその製造方法を提供する。
【解決手段】電子デバイスは、第1のガラス基板2と第2のガラス基板3とこれらガラス基板2、3間に設けられる電子素子部とを具備する。第1のガラス基板2と第2のガラス基板3との間は、スペーサ6と第1の封着層7と第2の封着層8とで封着される。第2の封着層8はレーザ光を吸収する第2の封着用ガラス材料のレーザ光による溶融固着層からなる。第2の封着層8はガラス基板2、3の積層方向を含む断面において、第1の封着層7と該積層方向に重ならないように配置されている。
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結晶性封着材料
【課題】二次焼成工程で良好に軟化流動した後に、結晶が十分に析出する結晶性封着材料を提供する。
【解決手段】ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラーを含む結晶性封着材料において、ビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、モル%で、Bi2O330〜40%、B2O315〜25%、ZnO30〜40%、CuO0〜25%、Fe2O30〜5%を含有し、且つ耐火性フィラーとして、ZnO含有耐火性フィラー及びコーディエライトを含むことを特徴とする結晶性封着材料。
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封着材料及びこれを用いたペースト材料
【課題】レーザ封着に好適な封着材料、具体的にはレーザ光を吸収しやすく、且つ軟化点が低い封着材料を創案することにより、有機ELディスプレイ等の信頼性を高めること。
【解決手段】本発明の封着材料は、SnO含有ガラス粉末を含む無機粉末 80〜99.7質量%と、顔料 0.3〜20質量%とを含有し、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。
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ガラス組成物
【課題】焼成後にガラス膜内に発生する気孔を抑制ないしは防止できるガラス組成物を提供する。
【解決手段】重量平均分子量10万以上の有機高分子及びガラス粉末を含み、前記有機高分子及びガラス粉末の総重量を100重量%としたときの有機高分子の含有量が0.052〜0.25重量%であることを特徴とするガラス組成物に係る。
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