本発明は、化学式がSiClx、ここでｘ＝0,01〜0,8であって、特にはクロロポリシランを600℃未満の温度で熱分解して生成することのできる塩素化ポリシランに関する。 （もっと読む）

反応器ボリュームを備える、シリコンの生産のための反応器であって、反応器は、化学蒸着（ＣＶＤ）用のシリコン含有反応ガスを反応器ボリュームの内側に回転状態で設定するための少なくとも１つの手段を備えるか、または当該少なくとも１つの手段が有効に配置されることを特徴とする。シリコンの生産のための方法。 （もっと読む）

【課題】ヒュームド金属酸化物粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】揮発性の非ハロゲン化金属酸化物前駆体を含む液体供給原料の流れを提供する工程と、該液体供給原料を霧化及び燃焼又は熱分解するのに十分な線速度を有する燃焼ガスの流れを提供する工程と、該液体供給原料の流れを該燃焼ガスの流れに噴射して反応混合物を形成し、該燃焼ガスの温度がヒュームド金属酸化物粒子の凝固温度より低くなる前に、該液体供給原料を霧化して該ヒュームド金属酸化物粒子を形成するのに十分な温度及び該燃焼ガスの流れ中の滞留時間にさらすようにする工程とを含む、ヒュームド金属酸化物粒子の製造方法が提供される。比較的小さな凝集体サイズ及び／又は比較的狭い凝集体サイズ分布を有するヒュームドシリカ粒子がさらに提供される。 （もっと読む）

【課題】 ビーズ状中空粒子およびその簡便な製造方法ならびにこのビーズ状中空粒子を用いた摩擦材を提供する。
【解決手段】 金属酸化物を主成分とし、表面に貫通穴ないし非貫通穴を有する異形状の粒子からなることを特徴とするビーズ状中空粒子および粒子状生体材料と粒子状金属酸化物との懸濁液を二流体ノズルスプレードライヤーで噴霧乾燥処理し、得られた、粒子状生体材料をコア、粒子状金属酸化物層をシェルとする粉体を加熱処理することを特徴とする上記ビーズ状中空粒子の製造方法ならびにこの中空粒子を用いた摩擦材である。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコン成形体の材料欠陥を破壊なしに試験する方法を提供する。
【解決手段】ポリシリコン成形体に超音波を照射し、ポリシリコン成形体が通過後に超音波受信機により超音波を記録し、これによりポリシリコン中の材料の欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】非化学量論的化合物であるケイ素低級酸化物粒子を、安価な原料を用いて、効率よく、かつ工業的に有利に製造する方法、及びこの方法で得られたケイ素低級酸化物粒子の分散液を提供する。
【解決手段】熱プラズマ装置内で、体積比１５／１〜４／１のアルゴン／水素混合ガスの熱プラズマを発生させ、該熱プラズマにより、シリカ粉末を分解処理して、一般式（１）
ＳｉＯ_x ・・・（１）
（式中、ｘは１．０＜ｘ≦１．６の関係を満たす数である。）
で表されるケイ素低級酸化物粒子を得る、ケイ素低級酸化物粒子の製造方法、及びこの方法で得られたケイ素低級酸化物粒子を、溶媒中に分散させてなる、ケイ素低級酸化物粒子の分散液である。 （もっと読む）

キャリア体上に材料を蒸着するための製造装置、および当該製造装置と共に使用される電極。製造装置はチャンバを画定するハウジングを備える。ハウジングは、気体をチャンバ内に導入するための入口、および気体をチャンバから排出するための出口を画定する。少なくとも１つの電極がハウジングを貫通して配設され、該電極は少なくとも部分的にハウジング内に配設される。電極は外面を有する。外面は、ソケットと接触するように適合されたコンタクト領域を有する。電極のコンタクト領域上には、電極とソケットとの間の導電性を維持するためのコンタクト領域コーティングが配設される。コンタクト領域コーティングは、室温下で少なくとも７×１０^６ジーメンス／メートルの導電率を有し、ニッケルより大きい耐摩耗性（測定単位：ｍｍ^３／Ｎ・ｍ）を有する。
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【課題】 ウェット洗浄工程を増加させることなく、かつ、より低温でシリサイドを形成することが可能なシリサイドの形成方法を提供すること。
【解決手段】 表面にシリコンとシリコン酸化物とが露出している基板１０１上にシリサイドを形成するシリサイドの形成方法であって、基板１０１の温度を４００℃以上として、シリコンとシリコン酸化物とが露出している基板１０１の表面上にマンガン有機化合物ガスを供給し、基板１０１の表面に露出したシリコンを選択的にマンガンシリサイド化する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、太陽電池用シリコンを安定かつ安価に提供する。
【解決手段】太陽電池用シリコンの製造方法のある態様は、ゼオライトを含有した珪素含有物質を炭素含有物質の存在下で塩素化することで四塩化珪素を得る工程（１）と、前記工程（１）によって得られた四塩化珪素を分離精製する工程（２）と、前記工程（２）において精製された四塩化珪素と亜鉛ガスを反応させることで多結晶シリコンを得る工程（３）とを備える。 （もっと読む）

【課題】太陽電池用シリコンの原料である四塩化珪素を安定かつ安価に提供することを目的とする。
【解決手段】四塩化珪素の製造方法のある態様は、ゼオライト、好ましくは廃ゼオライトを含有した珪素含有物質を用い、炭素含有物質の存在下で塩素化する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】太陽電池用シリコンの原料である四塩化珪素を安定かつ安価に提供する。
【解決手段】四塩化珪素の製造方法のある態様は、珪素質含有物質、好ましくは珪酸バイオマス含んでいる珪素質含有物質を、工業プロセスから生じた灰、好ましくは有機物を燃焼させることで燃焼エネルギーを電力に変換する発電設備から生じた灰を含有している炭素含有物質の存在下で塩素化する。 （もっと読む）

【課題】製紙スラッジを主原料とする再生粒子を利用して、高い吸油量と紙の不透明度を向上できるシリカ複合再生粒子を製造する。
【解決手段】製紙スラッジを主原料とし、再生粒子を得て、この再生粒子を珪酸アルカリ水溶液中に懸濁するとともに鉱酸を添加し、再生粒子の周囲をシリカで複合してシリカ複合再生粒子を得る。 （もっと読む）

【課題】反応炉の外壁を腐食させることなく、クロロシラン重合物を効率よく分解する。
【解決手段】クロロシラン重合物の分解方法であって、クロロシラン重合物およびＨＣｌを混合してなる原料ガスを予熱温度Ｔｉ［℃］に予熱する予熱工程と、予熱された前記原料ガスを分解炉内に滞留させる分解工程とを有し、前記分解工程での前記原料ガスの前記分解炉内における平均滞留時間ｔ［秒］とすると、Ｔ１≦Ｔｉ≦Ｔ２，Ｔ１＝６００×ｔ^{（−０．０５７）}−１５０，Ｔ２＝１９０×ｔ^{（−０．９）}＋４７０ただしｔ≦１０かつ４００≦Ｔｉ≦５５０を満たす。 （もっと読む）

本方法は電極の冷却面上における堆積物の形成を抑止する。電極は担体上に材料を堆積する製造システムで使用される。冷却面は銅を含む。本システムはチャンバを画定する反応器を含む。電極は少なくとも部分的にチャンバ内に配置され、担体を支持する。電極と流体連通する循環装置は冷却面との間で冷却液組成物を行き来させる。冷却液組成物は冷却液および冷却面からの溶解銅を含む。濾過システムは循環装置と流体連通している。本方法では電極を加熱する。電極の冷却面は冷却液組成物と接触している。材料は担体上に堆積され、冷却液組成物は濾過システムで濾過され、溶解銅の少なくとも一部は冷却液組成物から除去される。
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本発明の対象は、一般式（１）及び（２）
Ｓｉ_nＸ_2n+2 （１）
Ｓｉ_mＸ_2m （２）
［式中、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩから選択され、ｎは、２〜１０の整数を意味し、かつｍは、３〜１０の整数を意味する］のオリゴハロゲンシランから選択されるオリゴハロゲンシランの製造方法であって、ケイ素と、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ及びＰｂ及びそれらの混合物から選択される金属のハロゲン化物とを含有する混合物を、−１２５℃〜１１００℃の温度で反応させ、そして形成されたオリゴハロゲンシランを、Ｎ₂、希ガス、ＣＨ₃Ｃｌ、ＨＣｌ、ＣＯ₂、ＣＯ、Ｈ₂及びＳｉＣｌ₄から選択されるキャリヤーガスで除去する、前記製造方法である。 （もっと読む）

【課題】Ｐ型ドープシリコン前駆体を効率よく生成する。
【解決手段】シクロペンタシラン溶液１１に、ドーパントをラジカル化するための第１の波長の光と、シクロペンタシランをラジカル化するための第２の波長の光を含む紫外線１５を高圧水銀ランプ１４から照射し、同時にドーパントガス１６としてのジボランガスをシクロペンタシラン溶液１１に供給することにより、シクロペンタシランの重合体にドーパントが結合したＰ型ドープシリコン前駆体を生成する。 （もっと読む）

【課題】電気加熱の負担を減少させ、電気消耗量を減少させるとともに、従来に比べて短期間にポリシリコンを製造できる装置及び方法を提供する。
【解決手段】反応チャンバーと、前記反応チャンバー内にシランガスを供給するためのガス供給部と、前記ガス供給部で供給されるシランガスにレーザービームを照射し、前記シランガスを熱分解してポリシリコン粒子を形成するためのレーザー照射部と、前記ポリシリコン粒子を収容するためのポリシリコン粒子収容部とを含んでポリシリコンの製造装置を構成する。 （もっと読む）

１つの実施形態では、本発明の方法は、少なくとも１種のシリコン源ガス及びポリシリコンシリコンシードを反応区域に供給するステップ；反応区域内で、少なくとも１種のシリコン源ガスの熱分解の反応平衡に実質的に到達して元素シリコンが生成するように少なくとも１種のシリコン源ガスをその反応区域内で十分な温度と滞留時間に維持するステップ（その少なくとも１種のシリコン源ガスの分解は、以下の化学反応：４ＨＳｉＣｌ_３←→Ｓｉ＋３ＳｉＣｌ_４＋２Ｈ_２で進行するものであり、十分な温度は、約６００℃〜約１０００℃の温度範囲である）；及びｃ）ポリシリコンシリコンシードに元素シリコンが蒸着されて被覆粒子が生成するようにその反応区域中に十分な量のポリシリコンシリコンシードを維持するステップ；を包含している。 （もっと読む）

内表面上に堆積した１層以上の保護層を有する流動床反応器を含む、高純度シリコンの製造方法および製造装置である。保護層は流動ガスおよびシリコン含有ガスによる腐食に耐久性がある。
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【課題】トナーへの分散性やトナーの流動性低下の原因となる粗大な凝集粒子を含まず、また、トナーからの脱離を抑制することができ、従って、トナーへの均一分散性と流動性の付与効果に優れ、印刷画像上の白点の発生を抑制できる、トナー外添剤として好適な微細な一次粒子径を有するシリカ微粒子を提供する。
【解決手段】気相法により得られた平均一次粒子径が２０〜１００ｎｍの親水性シリカ微粒子を一般式（Ｉ）で表されるポリシロキサンで疎水化処理してなる疎水性シリカ微粒子であって、レーザー回折法による粒子の体積基準粒子径測定で粒子径１．５μｍ以上の凝集粒子の割合が１２％未満であることを特徴とする疎水性シリカ微粒子。
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