【課題】発光強度が向上したコア・シェル型蛍光体微粒子の作製方法を提供すること。
【解決手段】コア粒子との格子不整合が１０％以下で、且つバンドギャップがコア粒子より大きいシェル原料を反応ガスとして供給して噴霧熱分解法によりシェルが形成されることを特徴とするコア・シェル型蛍光体微粒子の作製方法。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコンの堆積からの高沸点物の再利用を可能にする、廉価な方法を提供する。
【解決手段】水素及び含ケイ素ガスを含有する反応ガスを反応室に導入し、加熱シリコン上で熱分解させ、シリコン上に堆積させ、排ガスをトリクロロシラン及びより低沸点のクロロシランを含む第一の排ガスフラクションとトリクロロシランより高沸点の成分を含む第二の排ガスフラクションとに分離し、そして前記第一のフラクションを反応ガスに供給し、かつ前記第二のフラクションを、テトラクロロシランと、高沸点物からなる高沸点物フラクションとに分離する多結晶シリコンの製造方法において、前記高沸点物フラクションを反応ガスに供給し、そして該反応ガスを、前記高沸点物フラクションが堆積反応器の反応室への入口で気体状で存在する温度に加熱することを特徴とする方法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】反応容器内で析出されたシリコンが回収容器内で蟻塚状に固化することのないシリコン製造装置を提供すること。
【解決手段】シリコン製造装置は、反応容器本体２において、回収容器１４に回収容器１４の底壁１４ｂを支持する支持軸１８と、支持軸１８を昇降させる駆動部１７とを備えた昇降手段を設け、シリコンの回収容器１４への回収時に支持軸１８を昇降させて回収容器１４の底壁１４ｂと支持床壁１６とを離間させるようにした。 （もっと読む）

【課題】高純度のシリコンナノワイヤーを低温で製造する方法を提供する。
【解決手段】〔１〕四塩化珪素ガスと不活性ガスとの混合ガスまたは四塩化珪素ガス５を、高温領域３を通って、前記高温領域よりも温度の低い領域（低温領域４）へ流通し、該高温領域３にアルミニウムを供給し、前記高温領域よりも温度の低い領域４においてシリコンナノワイヤーを析出させるシリコンナノワイヤーの製造方法。
〔２〕前記高温領域における温度が７００℃以上１１００℃以下であることを特徴とする請求項１記載の方法。
〔３〕前記高温領域よりも温度の低い領域における温度が６００℃以上９００℃以下であることを特徴とする〔１〕または〔２〕記載の方法。 （もっと読む）

ｐＨ３〜５の範囲内の予備分散液を少なくとも２つの流れに分け、それらの流れを少なくとも５０ｂａｒの圧力下に置いてそれらをそれぞれ１つのノズルによって粉砕チャンバー中で衝突点まで減圧し、そしてまだ粉砕チャンバー中で、底部を流れる分散液と分散液が全体で７より大きいｐＨを有するような量でアルカリ物質とを混合することによって、凝集した二酸化ケイ素粒子のアルカリ分散液の製造方法。 （もっと読む）

熱分解により製造した二酸化ケイ素を含有するフレークは、圧縮後に撥水性を有した。該フレークは、天然ゴム及び合成ゴム製品において使用されうる。 （もっと読む）

【課題】反応炉以降の配管が反応炉からの排ガス中のシリコン粉末やポリマー化合物によって閉塞する現象を抑制し、オーバーホールの周期を長くして生産性を高める。
【解決手段】反応炉内で複数のシリコン芯棒を加熱し、その表面に原料ガスの反応により多結晶シリコンを析出させる多結晶シリコンの製造装置において、反応炉の底部に、反応後の排ガスを排出するガス排出口７が設けられるとともに、該ガス排出口７から外部に通じる排ガス管２１が接続され、該排ガス管２１内に、ガス排出口７から排ガス管２１に至る内周面を覆うスリーブ２２が抜き差し可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】反応炉の外周部においても他のシリコン芯棒と同じ仕様の電源で品質の高いシリコンロッドの製造を可能にし、コストの削減を図る。
【解決手段】反応炉１の内底部に配設された複数の電極５に、上下方向に延びるシリコン芯棒４をそれぞれ立設しておき、反応炉１内に原料ガスを供給するとともに、シリコン芯棒４に電極５から通電することによりシリコン芯棒４を発熱させて、シリコン芯棒４の表面に原料ガスによって多結晶シリコンを析出させる多結晶シリコンの製造方法において、複数本のシリコン芯棒４のうち、長さが小さいシリコン芯棒４を反応炉１の外周部に近い位置の電極５に立設し、残りのシリコン芯棒４を他の電極５に立設した状態として、多結晶シリコンを析出させる。 （もっと読む）

ＢＥＴ表面積が２００〜４００ｍ²／ｇであり、ＤＢＰ数／ＢＥＴ表面積の比が０．５〜１．２であり、二酸化ケイ素含分が９３．５〜９５．４質量％であり、かつ二酸化チタン含分が４．６〜６．５質量％であり、この際にこれらの含分の合計が、９９．７質量％より大きい、熱分解法ケイ素−チタン混合酸化物粉末。当該熱分解法ケイ素−チタン混合酸化物粉末を含む分実気。粉末又は分散液から得られる、チタン含有ゼオライトの製造方法。 （もっと読む）

水性分散液の製造方法において、該分散液は９〜１４のｐＨを有し且つ７５〜９９．９９質量％の二酸化ケイ素の割合及び０．０１〜２５質量％の二酸化チタンの割合を有する熱分解法チタン−ケイ素混合酸化物粉末の粒子（その平均アグリゲート直径が分散液中で２００ｎｍ以下である）、及び少なくとも１種の塩基性第４級アンモニウム化合物を含む。 （もっと読む）

本発明は、多結晶シリコンロッドにおいて、該ロッドが、シリコンの５０〜９９％の電気伝導に利用される面積分を有するロッド横断面を有し、かつ、該ロッドが０．１〜８０Ｎ／ｍｍ²の曲げ強さを有することを特徴とするシリコンロッドに関する。 （もっと読む）

【課題】屈折率が低く、水に対して安定なシリカ多孔質体を提供する。
【解決手段】シリカ多孔質体を、屈折率を１．３以下にし、水に浸漬する前と、水に２４時間浸漬した後との波長５５０ｎｍでの屈折率差が０．１５以下とする。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコンの析出反応に伴って生成した副生物から高純度のＴＣＳを得ることを可能とすること。
【解決手段】多結晶シリコン製造工程１０１で生成する副生混合物を、塩素化反応器１０２内で塩素と反応させてテトラクロロシラン（ＳＴＣ）留出物を生成させ、当該ＳＴＣ留出物を水素化反応器１０３内で水素と反応させてトリクロロシラン（ＴＣＳ）に転換させる。塩素化工程においてＴＣＳと近沸点のメチルクロロシラン類が高次塩素化されて高沸点化がなされるので、高次塩素化メチルクロロシラン類の高濃度濃縮分離が容易なものとなり、多結晶シリコンへの炭素混入が抑制される。また、ドナー・アクセプタ除去器１０４をＴＣＳ製造の循環サイクル中に設けているので、ＴＣＳ製造に伴って生成する副生物を系外に取り出すことなく、ＴＣＳの高純度化が可能となる。 （もっと読む）

【課題】所望の組成を有する金属含有化合物からなるマイクロワイヤー、ナノワイヤーを製造するための方法を提供すること。
【解決手段】以下の工程（１）〜（３）を含む、微粒子が連結した微粒子ワイヤーの製造方法：
（１）有機金属化合物の気体と、必要に応じて光励起可能な有機化合物及び／又は反応性有機化合物の気体を用意する工程、
（２）工程（１）において用意した気体を、反応容器に導入する工程、
（３）工程（２）において反応容器に導入された気体に、前記有機金属化合物及び前記光励起可能な有機化合物の少なくとも１つが吸収する波長の光を照射する工程。 （もっと読む）

【課題】多孔性シリコンを形成する方法を提供する。
【解決手段】基板に過酸化金属ポリ酸を塗布するステップＳ１０と、金属ポリ酸が塗布された基板に水素及びシリコンを含有するガスを供給するステップＳ１４と、を行うことによって多孔性シリコンを形成する。 （もっと読む）

表面改質された、熱分解法で製造されたシリカは、一次粒子のアグリゲートの形で存在し且つ１５０±１５ｍ^２／ｇのＢＥＴ表面積を有し、該アグリゲートは１２０００〜２００００ｎｍ^２の平均面積、９０〜１２０ｎｍの平均円相当直径（ＥＣＤ）及び１１５０〜１７００ｎｍの平均円周を有する、熱分解法で製造されたシリカを、公知の方法で表面改質することによって製造される。これは増粘液体系のための充填剤として使用できる。 （もっと読む）

【課題】従来技術において使用された電磁分離法やシランガスを原料として用いることなく、原料と同等の同位体組成を持つ平滑なシリコンおよび同位体濃縮シリコン薄膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】ハロゲン化シリコンあるいはシリコンの同位体を濃縮したハロゲン化シリコンを原料として用い、水素と反応させることにより、基板上に、シリコン薄膜または同位体濃縮シリコン薄膜を成膜する。 （もっと読む）

本発明はレーザ熱分解によるシリコン含有ナノ粒子合成に関する。この目的のため：熱分解リアクタ（ＲＥＡＣ）内部に、移動流体（Ｈｅ）により、元素ケイ素を含む前駆体（ＳｉＨ４）が供給され；移動流体と前駆体とが形成する混合物に対してレーザ放射（ＬＡＳ）がリアクタ内で実施され；シリコン含有ナノ粒子（ｎＰ）がリアクタ出口で回収される。特に、レーザ放射の出力が制御される。さらに、有効パルス持続時間がレーザ放射時間の中で制御される。典型的には、５００ワットを超える出力及びレーザ放射時間の４０％を越えるパルス持続時間に対して、１ナノメートルのオーダー以下のサイズの結晶構造を有するナノ粒子が、１時間あたり８０ミリグラムのオーダーを超える速度で得られる。最適な条件下で、１時間あたり７４０ミリグラムを超える顕著な速度を得ることができた。
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【課題】低誘電性、接着性に優れると共に十分な機械強度を有するシリカ系被膜を形成できるシリカ系被膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】本発明のシリカ系被膜形成用組成物は、（ａ）成分：式（１）；Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎで表される化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂、（ｂ）成分：（ａ）成分を溶解可能な溶媒、及び（ｃ）成分：オニウム塩を含み、（ａ）成分では、Ｓｉ原子１モルに対する、Ｈ、Ｆ、Ｂ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ、及びＣから成る群より選ばれる少なくとも一種の原子の総含有割合が０．５０モル以下であり、１５０℃で３分間加熱したときに得られる被膜の応力が１０ＭＰａ以上であり、且つ、最終硬化により得られる被膜の比誘電率が３．０未満となる硬化特性を有する。 （もっと読む）

本発明は、熱分解法シリカと−［Ｏ［Ｓｉ（Ｒ₂）］_n−タイプの環状ポリシロキサン（この場合、ＲはＣ₁〜Ｃ₆アルキル基であり、かつｎは３〜９である）との反応およびそれに続く得られたシラン化シリカの構造変性により得られる、熱分解により製造され構造変性されたシリカを提供する。本発明はさらに、熱分解により製造され構造変性されたシリカを含む接着剤を提供する。 （もっと読む）