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Fターム[4G075EA05]の内容

物理的、化学的プロセス及び装置 (50,066) | 装置−設置形式、加熱形式 (1,526) | 内部加熱、冷却式 (243)

Fターム[4G075EA05]に分類される特許

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【課題】大きな異音(騒音)の発生を防止することを可能にした反応器を提供する。
【解決手段】バーナー2で発生した火炎Sによって炉体1の内部空間Hを加熱し、この内部空間H内を流れるガスを加熱して化学反応させる反応器であって、バーナー2のバーナーケーシング8の内部と連通させてバーナーケーシング8に一端13aを接続し、バーナーケーシング8の軸線O1と交差する方向に延設された管状部材13と、管状部材13の内部Pの前記交差方向に沿う所定位置に配置されて管状部材13の内部空間Pの長さLを調整する塞止板14とからなる吸音部12を備える。 (もっと読む)


【課題】廃プラスチック、廃木材、生ゴミ、古紙、粘着性の汚泥等の廃棄物を効率よく焼却することができる熱分解装置を提供する。
【解決手段】本発明の熱分解装置は、廃棄物を熱分解する有底筒状の処理室と、処理室の底板に配置し、廃棄物に磁気を作用する磁気作用手段と、処理室の底板上で磁気作用手段の周囲に敷設する断熱材層Iと、処理室の側面に配置する空気導入管とを備える。磁気作用手段は、N極とS極とが鉛直方向を向くように配置する磁石と、磁石を被覆する断熱材層IIと、磁石により磁気誘導されるようにその磁石の上方にその磁石に近接して配置する常磁性の板状体とを備える。 (もっと読む)


【課題】 高温工業プロセスにおける改良されたリアクター装置および関連するプロセスにおけるその使用方法の提供。
【解決手段】 少なくとも1つのフランジ付接続部を含む高温工業プロセス用装置であって、少なくとも1つのフランジ付接続部の少なくとも1つのフランジが、少なくとも1つのフランジに連結した少なくとも1つのサポートラグにより機械的損傷から保護されている装置。 (もっと読む)


【課題】特定の生成物や副次生成物の生成量を低減可能とされた被処理物の処理方法及び処理装置、さらには、特定の生成物が生成するように制御可能とされた被処理物の処理方法及び処理装置を提供すること。
【解決手段】本発明の被処理物の処理方法は、温度変化することにより成分状態が変化する気体を含む被処理物が活性化状態にある時に、前記被処理物が特定の成分に変化させられる温度領域以下に前記被処理物を急冷することによって、前記特定の成分が存在する温度領域の保持時間を短くして前記被処理物の成分状態を変化させる処理を施すことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】粒径が小さく、粒径のばらつきが小さい微粒子を製造することができる製造装置および微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】微粒子の製造装置は、微粒子製造用の原料を熱プラズマ炎中に間歇的に供給する原料供給手段と、内部に熱プラズマ炎が発生されるものであり、原料供給手段により間歇的に供給される原料を熱プラズマ炎で蒸発させて気相状態の混合物とするプラズマトーチと、プラズマトーチの内部に熱プラズマ炎を発生させるプラズマ発生手段とを有する。 (もっと読む)


【課題】 高温工業プロセスにおける改良されたリアクター装置および関連するプロセスにおけるその使用方法の提供。
【解決手段】 少なくとも1つのフランジ付接続部を含む高温工業プロセス用装置であって、少なくとも1つのフランジ付接続部の少なくとも1つのフランジが、少なくとも1つのフランジに連結した少なくとも1つのサポートラグにより機械的損傷から保護されている装置。 (もっと読む)


【課題】浮遊状態で熱処理される粉体の熱履歴を均一にすることができる粉体製造装置を提供する。
【解決手段】粉体製造装置1は、内部に処理空間を形成する粉体生成炉2と、バーナ6を備える燃焼室3と、燃焼室3で発生した燃焼排ガスを粉体生成炉2に導入する燃焼排ガスノズル4と、燃焼排ガスノズル4の中に配置され、粉体生成炉2に原料を吹き込む原料ノズル5とを有し、燃焼排ガスノズル4は、燃焼室3よりも流路断面積が小さいことが好ましい。 (もっと読む)


【課題】高価なマイクロリソグラフィ装置を使用せず、比較的安価で、かつ65℃を超える温度で操作する用途に使用可能なマイクロ流体デバイスを提供する。
【解決手段】固体接着剤の薄いシートを有する基板材料21の表面ににプリンタを用いてワックス20を印刷した後、このワックスをマスキング層として基板を選択的にエッチングし、所望のパターンをを有する固体接着剤22を有する基板を作製する。次にこの基板からマスキング層を除去した後、第2の基板と接着して基板層を形成し、さらにこの基板層を硬化させることで三次元マイクロ流体デバイスを得る。 (もっと読む)


【課題】処理条件を効率的に設定することができる表面改質処理装置を提供する。
【解決手段】被処理物10を真空に保持する第1処理室4と、前記被処理物10の表面に紫外光を照射する第1紫外光照射部6とを有する表面改質処理装置1において、酸素を励起して処理ガスを生成するガス生成部3を備え、前記処理ガスを前記第1処理室4に供給する。前記ガス生成部3は、第2処理室25と、前記第2処理室25内に酸素を供給する第2酸素供給路27と、前記酸素に紫外光を照射する第2紫外光照射部26とを有し、前記第2処理室25と前記第1処理室4とは連通路30を介して連通されており、前記第2処理室25内で生成された前記処理ガスを前記第1処理室4内に供給するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】内容物に効率よくマイクロ波を照射することができる化学反応装置を提供する。
【解決手段】直列に連続した複数の室を有し、内容物が、上方に未充填空間を有した状態で水平方向に流れる横型のフロー式のリアクター13と、マイクロ波を発生するマイクロ波発生器14と、マイクロ波発生器14の発生したマイクロ波を、リアクター13の未充填空間に伝送する1以上の導波管15と、を備える。このようにして、より広い表面積にマイクロ波を照射することができ、マイクロ波の照射効率が高くなる。 (もっと読む)



【課題】1つ以上の態様において、工業廃液、例えば、半導体及び液晶表示装置の製造プロセスで生成される廃液を処理するのに用いる熱反応器装置を提供する。
【解決手段】コントローラと、コントローラにより制御されるように用いられる反応チャンバ32と、反応チャンバへの管と、反応チャンバ内の管の第1の端部に配置されたパイロット16と、反応チャンバ外の管の第2の端部に配置され、コントローラに結合され、コントローラにパイロットが点灯したかどうかの指示を与えるように用いられるセンサと、管の開閉のために操作可能なアクチュエータとを含むシステムを有する。本発明の数多くのその他の態様が開示されている。 (もっと読む)


【課題】排出ストリームを削減するための改良された方法および装置を提供すること。
【解決手段】特定の実施形態では、ガスストリームから汚染物質を除去する際に使用するための装置が提供される。該装置は、複数の積層多孔性セラミックリングから形成された熱反応ユニットを含む。該多孔性セラミックリングの第1は第1の熱膨張係数(CTE)を有しており、該多孔性セラミックリングの第2は第2のCTEを有している。他の態様も提供される。 (もっと読む)


熱化学プロセス用の誘導機構、ならびにそれに関するシステムおよび方法を提供する。特定の実施形態による方法は、第1および第2の基台を反応器内に配置するステップであって、各基台が互いに対面する表面を有するステップを含む。方法は、前駆ガスを反応器内に導くステップと、両基台の対面する表面に隣接する誘導コイルを起動するステップであって、それにより前駆ガスを解離するステップとをさらに含み得る。前駆ガスの成分が第1および第2の面上の両方に付着し、各面および/またはその面上に付着した成分から放射された熱が、他方の面および/または他方の面上に付着した成分において受け取られる。
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水素ベースの燃料および構造要素を生成する透過面を有する反応容器、ならびに関連するシステムおよび方法であって、特定の実施形態による化学反応器は、反応領域を有する反応容器と、反応領域に流体連通した状態で結合された水素供与体供給源と、反応領域に流体連通した状態で結合された蒸気供給源とを含み、この反応器は、反応領域にある透過面をさらに含み、この透過面は、反応領域に入る反応体および/または反応領域に入る放射エネルギーを透過させることができる。
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【課題】 従来の冷却式マイクロ波化学反応装置には、冷媒の冷却と循環機能を備えた冷却装置が必要で、また、冷却剤及び冷媒のメンテナンスに手間がかかり、システム全体が複雑で高価となり、また、ランニングコストも高くなっていた。
【解決手段】 本発明の簡易形冷却式マイクロ波化学反応装置は冷媒を人体に無害な炭酸ガス又は冷却空気とすることにより、冷媒の冷却と循環を行う冷却装置を省き、冷媒をそのまま空気中に排出する方式とした。これにより、システムが簡単となって、取扱いが容易で、より安価になり、ランニングコストも安くできる。 (もっと読む)


再放射面を有する化学反応器、ならびに関連するシステムおよび方法であって、特定の実施形態による反応器は、反応領域を有する反応容器と、反応容器に結合され、反応領域内に反応体(たとえば水素供与体)を導く反応体供給源を備え、反応体はピーク吸収波長範囲を有し、ピーク吸収波長範囲上では反応体は非ピーク波長におけるよりも多くのエネルギーを吸収し、反応器は、反応領域に配置された再放射構成要素であって、第1のピーク波長範囲を有する第1のスペクトル上で放射を受け取り、第1のピーク波長範囲とは異なり、第1のピーク波長範囲よりも反応体のピーク吸収範囲に近い第2のピーク波長範囲を有する第2のスペクトル上で、反応領域内に放射を再放射する再放射構成要素をさらに備える。
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【課題】2つ以上の反応部からなる反応装置の反応部間の温度差を確保することができる断熱容器を提供する。
【解決手段】異なる温度の2つ以上の反応部11,12からなる反応装置10を収容する断熱容器30である。断熱容器の内壁面は赤外線反射率の異なる2つ以上の領域からなり、より赤外線反射率の低い領域側に、より低温の反応部が配置される。より低温の反応部からの放熱が促進され、2つ以上の反応部からなる反応装置の反応部間の温度差を確保することができる。 (もっと読む)


本発明は、化学反応器を形成するための第1の回路であって、前記第1の回路が、少なくとも2つの化学物質が中を循環することにより相互に反応する複数のチャネル(10)を備え、前記チャネル(10)が、流体の方向転換を課する屈折部および連接部を含む3次元構造を有する、第1の回路と、反応が中で生ずるチャネル(10)の可能な限り近くで伝熱流体が中を循環する複数のチャネル(36)を備える第2の熱交換回路とを備える、化学反応器を形成するデバイスに関する。
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【課題】高温ガス、例えば水素及びテトラクロロシランとの接触に適した装置を提供する。
【解決手段】
反応器100は、テトラクロロシランの水素化に用いることができる。反応器100は、炭化ケイ素系の構成材料から調製される少なくとも1つの部品を有する。反応器100は、加圧可能シェル101と、加圧可能シェル101に囲まれた断熱材102と、断熱材102に囲まれた加熱要素106と、加熱要素106に囲まれた反応室107とを含む。 (もっと読む)


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