【課題】本発明は、ナノ粒子生成技術の内、アークプラズマを利用した技術をより一層改良することを目的とする。
【解決手段】上記課題を解決するために、炉内に設置した両電極間に発生したアークプラズマにより、無機塊状物からナノ粒子を生成するナノ粒子作製装置であって、前記無機塊状物の設置個所にカーボンるつぼが配置され、当該カーボンるつぼに前記無機塊状物を保持させて、前記アークプラズマを発生させ得るようにしてあることを特徴とするナノ粒子作製装置を採用した。また、前記ナノ粒子作製装置を用いたナノ粒子作製方法であって、ナノ粒子生成中の前記炉内の雰囲気は、窒素単独若しくは窒素が５０ｖｏｌ％以上含有されている不活性ガスとしたことを特徴とする手段を用いた。 （もっと読む）

【課題】粒径の均等性を向上させることが可能な造粒装置の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の造粒装置１００によれば、造粒容器６１の中心部、天井部、側部、底部そして中心部へと循環する循環ガス流に乗って粉体が造粒容器６１内を循環する。この過程で粉体がプラズマフレームＦ２によって加熱されて粉体同士が付着し、粒径が徐々に大きくなる。そして、所定の粒径以上に成長した大径粒体は、自重によって循環ガス流から離脱する。ここで、循環ガス流から離脱した大径粒体は、造粒容器６１の底部に貫通形成された環状孔８２を通って直ちに造粒容器６１の外部、即ち、回収容器１０へと排出されるから、所定の粒径以上に成長した大径粒体に、循環中の粉体又は粒体がさらに付着することが防がれる。これにより、大径粒体の過剰な大型化を抑えて、粒径の均等性を向上させることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】反応容器内を排気するのに要する時間を短縮でき、減圧条件下で行う処理を効率よく行うことができる技術の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、反応容器１０１の上方に取り付けられた上部真空ポンプ取り付け室１３４と、反応容器１０１の下方に取り付けられた下部真空ポンプ取り付け室１３５とを有する。上部真空ポンプ取り付け室１３２は、反応容器１０１の天井部に設けられた一対の上部真空ポンプ取り付け壁１３４ａ、１３４ｂを有し、真空ポンプ取り付け壁１３４ａ、１３４ｂの少なくとも一方に真空ポンプ１３０、１３１が取り付けられ、下部真空ポンプ取り付け室１３５は、反応容器１０１の底部に縦置き状態で設けられた一対の下部真空ポンプ取り付け壁を１３５ａ、１３５ｂ有し、下部真空ポンプ取り付け壁１３５ａ、１３５ｂの少なくとも一方に真空ポンプ１３２が取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】成膜効率を向上させることができる薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】ターゲット２９ａ，２９ｂをスパッタして回転ドラム１３に保持され回転する基板Ｓに、目標膜厚よりも薄い膜厚の第１薄膜を形成した後、前記目標膜厚に対して不足する不足分膜厚の第２薄膜を前記第１薄膜に形成する薄膜形成方法であって、第１薄膜の膜厚を測定する光学測定工程と、前記膜厚に基づいて前記第１薄膜を形成した実際の成膜レートを算出する成膜レート算出工程と、前記実際の成膜レートに基づいて前記第２薄膜を形成するのに必要な残成膜時間を算出して成膜時間を調整する成膜時間調整工程とを、有する薄膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】製造コストの低減を図りつつ、各種の径のプラズマを低コストで照射し得るプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】高周波信号Ｓを入力して放射する放射器１４と、放射器１４が内部空間に配設されたトーチ型の筐体１１と、筐体１１内にプラズマ放電用ガスＧを供給するガス供給部３と、放射器１４が挿通されると共に筐体１１の内面に取り外し可能に取り付けられた絶縁管３０ａ〜３０ｃ（管状の絶縁体）とを備え、プラズマ放電用ガスＧを供給した状態において放射器１４から高周波信号Ｓを放射して放射器１４の近傍に発生させたプラズマＰを絶縁管３０ａ〜３０ｃの噴出口３１ａ（一端部）から噴出させて処理対象体Ｚに照射可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】放電プラズマにより励起された処理対象ガスの分解、改質及び合成を行うプラズマ素子を提供する。
【解決手段】二重管誘電体１の内管内側に処理対象ガスとキャリアガスを流通させ、内管と外管の間に流通させる導電性液体２を外部電極とし、内管内側に螺旋状に正回転する非導電性第１羽根部分３ａ、螺旋状に逆回転する非導電性第２羽根部分４ａとを交互に配設し、羽根部の長手外周部に敷設した導電性連続コイルを内部電極５とし、処理対象ガスとキャリアガスが羽根部により剪断力を受けて分割及び合流を繰り返すことにより両者が攪拌混合されると同時にプラズマ電源７により両電極間に高周波・高電圧を印加し放電プラズマを誘起させ、対象処理ガスのプラズマ反応と攪拌混合による酸化反応により、内管内側に流通するガスに分解、改質、及び合成処理を施す。 （もっと読む）

【課題】プラズマの放電状態を容易に制御することができる誘電性構造体を提供する。
【解決手段】誘電性構造体（１）は、一方向に配列された複数の誘電体（３）と、該各誘電体（３）の内部に設けられた複数の導体層（７）からなる電極（６）とを有する。そして、電極（６）間に電圧を印加することにより誘電体（３）間にプラズマを発生可能である。誘電体（３）の少なくとも１つにおいて、電極（６）は、貫通孔および欠け部の少なくとも一方（９）を有する第１導体層（７ａ）と、貫通孔および欠け部（９）の少なくとも一方に対応する位置に設けられ、第１導体層（７ａ）に電気的に接続される第２導体層（７ｂ）とからなる。 （もっと読む）

【課題】処理流体の圧力損失を低減でき、また、高効率で処理流体内の微粒子状不純物を取り除くことのできる誘電性構造体を提供する。
【解決手段】 誘電性構造体１は、第１表面Ｓ１と第２表面Ｓ２との間に少なくとも１つの貫通孔３を有する誘電体と、誘電体における第１表面Ｓ１と第２表面Ｓ１との間に設けられ、少なくとも一部が貫通孔３の内周面に沿って位置する第１導電体４と、第２表面Ｓ２上に設けられ、外縁部が該第２表面Ｓ２上に位置するとともに少なくとも一部が貫通孔３の開口に沿って位置する第２導電体６とを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、少量から大量の粉体を均一に大気圧グロープラズマ処理して、その表面に有用な官能基を付与するプラズマ処理装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、中心電極２と、中心電極２と所定の空隙部５を介して配置された筒状の周辺電極３とを有する放電容器１と、中心電極２表面若しくは周辺電極３表面の少なくとも一方に設けられた誘電体４と、放電容器１の一端側に設けられ、空隙部５に流体を注入可能に構成された流体注入手段と、放電容器１の他端側に設けられ、空隙部５から流体を排出可能に構成された流体排出手段と、中心電極２と周辺電極３との間に交流またはパルス電圧を印加した状態で、中心電極を回転中心として放電容器を回転せしめる回転手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、安定したグロー放電環境下での高濃度の窒素官能基を付与することを可能とした粉体のプラズマ処理方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、中心電極２と、中心電極２と所定の空隙部５を介して配置された筒状の周辺電極３と、中心電極２表面若しくは周辺電極３表面の少なくとも一方に設けられた誘電体４とを有する放電容器１を用いた粉体のプラズマ処理方法であって、不活性気体雰囲気とされた空隙部５内で、粉体と、粉体に窒素官能基を付加する窒素官能基供給部材にグロー放電によるプラズマ処理を行なう工程を備える。 （もっと読む）

【課題】高濃度で沸点の高い油類等の分解処理を行なうとともに、そのときの放電発生条件を最適化した効率的な処理を可能とするコンパクトで低コストの液体処理装置を得る。
【解決手段】液体処理装置は、被処理液体２よりも沸点の低い第２液体１０を被処理液体と混合することにより、第２液体１０の性質を利用して混合液体中にキャビテーション気泡を発生させて放電プラズマによる処理を行なう。また、監視装置１３で放電プラズマの状態を監視して、調整弁１２の開閉作動を行なう構成である。 （もっと読む）

【課題】ソリューションプラズマ放電において放電電極間の距離あたりの電圧を低く抑え、安定したプラズマ状態を維持することができるプラズマ放電装置を提供する。
【解決手段】本発明のソリューションプラズマ放電装置１０１は、放電電極１の上部に位置する基板２に、液体１２中のプラズマにより発生した気泡を蓄える凹部３を備え、凹部３に溜まった気泡中でプラズマ放電をさせることにより、放電電極間の距離を長くまたは放電電極間の印加電圧を低くできるので、放電電極間の距離あたりの電圧を低く抑え、安定したプラズマ状態を維持することができる。 （もっと読む）

【課題】熱に弱い処理対象管を破損させることなく確実に処理する。
【解決手段】高周波信号を生成する高周波電源（高周波信号生成部）と、高周波信号を入力して放射する放射器と、プラズマ放電用ガスを供給するガス供給部と、高周波電源およびガス供給部を制御する制御部とを備え、制御部が、ガス供給部を制御して処理対象体の処理部位に向けてプラズマ放電用ガスを供給させると共に高周波電源を制御して高周波信号を生成させて放射器から高周波信号を放射させることにより、放射器の近傍にプラズマを発生させるプラズマ処理装置であって、制御部の制御に従って放射器に向けての放電を行う着火機構を備え、制御部は、高周波電源による高周波信号の生成開始に先立って着火機構を制御して放電を開始させ（ステップ４２）、その後に高周波電源を制御して高周波信号を生成させる（ステップ４３）。 （もっと読む）

【課題】流体混合物、例えばガス混合物を、プラズマを用いて処理するためのプラズマ処理システムを始動させる方法の提供。
【解決手段】マイクロ波電源と、この結合手段内にある絶縁管１６を通って流れる流体混合物特にはガス混合物とを結合させる手段を具備し、結合手段はマイクロ波エネルギーの一部を流体混合物へと伝播させてそこにプラズマを発生させ、それにより流体分子の化学結合を破断させることを可能とし、まずアルゴンが管内へと注入され、次に高圧放電がアルゴンの注入の導入位置の近傍に位置した電極23を使用して放電を点火させるのに十分なマイクロ波出力によって発生させられ、次にアルゴンがプラズマ放電を維持するように処理されるべき流体混合物の注入で徐々に置換される。 （もっと読む）

【課題】簡易な構造で効果的に電極を冷却し、電極の寿命を大幅に伸ばすことができるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】電極１間にプラズマを発生させ、被処理物を処理するプラズマ処理装置において、電極１に液体を浸潤するように供給する液体供給機構６を設ける。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、その中で大気圧プラズマを生成させる絶縁管を冷却するシステムを提供する。
【解決手段】 半導体プロセス機器の排出口から再生ラインに使用済みプロセス流体を通流させ、前記半導体プロセス機器の排出口から前記使用済みプロセス流体を再生し、 前記再生ラインに接続された流体センサで前記使用済みプロセス流体の状態を測定し、前記流体センサから制御器へ前記プロセス流体の状態を表わす信号を送るとともに、該信号が所定範囲内にあることを設定し、前記信号が前記所定範囲内に入る場合は前記半導体プロセス機器に前記使用済みプロセス流体を回収し、また前記信号が前記所定範囲から外れる場合は前記使用済みプロセス流体の少なくとも一部をシステムドレインに流す。 （もっと読む）

【解決課題】様々な放電形式の適用や放電場への触媒の充填などを必要とすることなく、プラズマを化学反応に応用することができる方法を提供する。
【解決手段】反応空間に放電プラズマの領域を形成し、前記反応空間に原料である化学物質を供給し、前記反応空間に音源から音波を供給して、前記放電プラズマの領域で前記化学物質に及ぼす反応を促進させる。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高い濃度で銀を担持させることを可能にする、プラスチックへの銀担持方法を提供する。
【解決手段】プラスチックに対して、銀を含有するプラズマを照射するプラズマ照射工程を行って、プラズマ照射工程で照射したプラズマの銀をプラスチックに担持させる。 （もっと読む）

【課題】汚染された水などの液体を浄化するにあたり、オゾンやＯＨラジカルを用いてより一層効率良く行える浄化装置を提供することを課題とする。
【解決手段】浄化原料ガスを導入し、浄化原料ガスが対向する電極に発生するプラズマによりオゾンおよびＯＨラジカルを生成させる第１の領域と、汚染液体を流し、汚染液体が流れる流路中に少なくとも一部が光触媒処理された部材を有する第２の領域と、を有し、生成されたオゾンおよびＯＨラジカルを前記第２の領域に導入し、光触媒処理された部材に、プラズマの発光に起因する光が照射されることを特徴とする浄化装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】処理された材料の質量損失が減少され、反応器の動力技術特性値が反応器に当達する粒子の寸法に依存する材料の選択的プラズマ処理によって改良され得る方法と装置を提案させること。
【解決手段】プラズマ内で分散材を処理する方法において、プラズマ形成ガスが反応室へ導入されてイオン化され、分散材が反応室へ導入され、プラズマの領域においてプラズマの作用の下で処理され、続いてプラズマの領域から取り出され、プラズマ形成ガスの導入と分散材の導入が互いに独立して且つ異なる方向から実行されることを提案される。
プラズマ内で分散材を処理する装置において、プラズマ発生器を有する反応室から成り、反応室がプラズマ形成ガス用の第一入口と分散材用の第二入口とを有し、第二入口が第一入口に関して空間的に分離されて位置されるので、分散材が外側からプラズマへ案内されることを提案される。 （もっと読む）