本発明は滑走型電気アーク装置用セラミック電極（１２２）に関する。セラミック電極（１２２）は、背部（２０２）とヒール部（２０６）と先端部（２０８）とで規定されセラミック羽根（２００）を有する。セラミック羽根（２００）の放電端部（２０４）は、セラミック羽根（２００）のほぼヒール部（２０６）から先端部（２０８）にかけて発散形状で規定される。セラミック羽根（２００）に接続した台座表面（２１０）は、滑走型電気アーク装置内にセラミック羽根（２００）を容易に取付けられるように構成されている。１つ以上のセラミック電極（１２２）が、可燃性物質の少なくとも一部を酸化するための滑走型アーク装置または他の装置で使用される。
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【課題】安定したガス処理能力と高いガス処理能力を得る。コストダウンを図る。
【解決手段】処理対象ガスＧＳの通過方向（ダクト１の入口から出口への方向）に沿ってハニカム構造体４を間隔を設けて配置する。ハニカム構造体４−１と４−２を第１のハニカム構造体群とし、ハニカム構造体４−１の外側に第１の電極として電極８を、ハニカム構造体４−２の外側に第２の電極として電極９を配置する。ハニカム構造体４−３と４−４を第２のハニカム構造体群とし、ハニカム構造体４−３の外側に第１の電極として電極９を、ハニカム構造体４−４の外側に第２の電極として電極１０を配置する。電極８と９との間、電極９と１０との間に異なる値の高電圧を印加し、ハニカム構造体４の貫通孔（セル）４ａとハニカム構造体４間の空間ギャップ１２にプラズマを発生させる。 （もっと読む）

本発明は可燃性物質の酸化方法および酸化装置に関する。本発明の方法は、滑走型電気アーク酸化装置（１０４）のプラズマゾーン（１１４）に一定量の可燃性物質を導入する工程を有する。本発明の方法は、更に、滑走型電気アーク酸化装置（１０４）のプラズマゾーン（１１４）に一定量の酸化剤を導入する工程を有する。一定量の酸化剤は、化学量論的に過剰の酸素量から成る。本発明の方法は、更に、滑走型電気アーク酸化装置（１０４）のプラズマゾーン（１１４）内の電極間に放電を発生させて可燃性物質を酸化する工程を有する。
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【課題】気体中において安定してオゾンやラジカル等を生成し、その生成されたオゾンやラジカル等をこれらが消滅する前に微細な気泡として液体中へ拡散させるプラズマ発生装置と洗浄浄化装置等を提供する。
【解決手段】ケース部材３の内側に多孔質セラミックス部材６が配設されている。ケース部材３と多孔質セラミックス部材６との間の領域１５には液体３０が導入される。多孔質セラミックス部材６の内側の領域１４には、線状電極２１と円筒状電極２２が配設されて、少なくとも酸素を含むガスが供給される。線状電極２１と円筒状電極２２との間に所定の電圧を印加することで放電が生じ、ガスがプラズマ化されてオゾンや各種のラジカルが生成される。生成されたオゾンやラジカルを含んだガスは内側の領域１４から微細孔を経て、微細な気泡として液体３０中へ拡散される。 （もっと読む）

【課題】液体に含まれる被処理物質の処理を効率よく行うことができる液中プラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】液中プラズマ処理装置１１は、洗浄水Ｗを導入可能な容器１２と、超音波発生装置１３と、マイクロ波発生装置１４と、減圧装置１５とを備える。減圧装置１５は、容器１２内の気体を排出してその容器１２内を減圧状態にする。超音波発生装置１３は、容器１２内の洗浄水Ｗ中に超音波を照射してキャビテーションを多発的に生じさせ、マイクロ波発生装置１４は、洗浄水Ｗ中のキャビテーション発生領域にマイクロ波を照射して放電プラズマＰを発生させる。この放電プラズマＰによって、紫外線を放つ液中光源Ｌを発生させ、その紫外線を洗浄水Ｗの有害物質に直接照射することで有害物質を分解して無害化する。 （もっと読む）

【課題】レーザ照射手段のような大掛かりな装置を必要とせず、ＰＦＣ系ガスを用いずに、十分な処理効果を奏するプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法、ガス発生装置及びガス発生方法、並びに、フッ素含有高分子廃棄物処理方法を提供する。
【解決手段】プラズマを発生させる放電空間４に配置されたフッ素含有高分子原料１と、プラズマ中において上記フッ素含有高分子原料と反応することによって、フッ素含有化学反応種を発生させるガスを供給するガス供給手段８とを備え、プラズマ中にフッ素含有化学反応種を発生させ、該フッ素含有化学反応種により被処理物を処理するプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法、ガス発生装置及びガス発生方法である。フッ素含有高分子廃棄物にプラズマ又はプラズマ中を通過したガスを照射することにより、当該フッ素含有高分子廃棄物のフッ素を回収するフッ素含有高分子廃棄物処理方法である。 （もっと読む）

【課題】混合ガスに残留するメタンの処理方法の提供。
【解決手段】２００℃〜５００℃の範囲にある温度を有し、少なくとも、５０ｐｐｍ〜２５００ｐｐｍの範囲にある濃度のメタンと、体積にして０．５％〜１２％の範囲にある濃度の酸素とを含む混合ガス中の残留メタンを処理する方法。プラズマ反応器10の内部電極16と外部電極12との間に高電圧の電気信号を印加することによりプラズマ反応器10内に発生させた、１５Ｊ／Ｌ〜１００Ｊ／Ｌの範囲にあるエネルギー密度を有するプラズマによって、残留メタンが処理される。外部電極12は、その形状が円筒状であり、内部電極16を囲んでいる。前記電極から選ばれる少なくとも１つが、混合ガス中に誘電体バリア放電を発生させ、かつ残留メタンの一部を一酸化炭素に変換するために、誘電体材料により被覆されている。 （もっと読む）

【課題】真空容器内部がマイクロ波の波長に比べて十分に広い空間になっていたとしても、そのマイクロ波を用いて、その真空容器内部でプラズマを効率良くかつ容易に発生できる装置、或いは、その真空容器内部で効率良くかつ容易にプラズマを発生させて高品質な薄膜の形成ができる装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波を発生する発振器（６）と、マイクロ波を伝播させる導波管（１）と、マイクロ波のインピーダンスを調整する整合器（７）と、真空容器（８）と、前記導波管（１）と前記真空容器（８）とを分離する誘電体（２）と、前記誘電体（２）に接しているアース電極（３）と、前記アース電極（３）と垂直に設置され前記真空容器（８）にガスを導入するガスパイプ（４）とを備えることを特徴とするマイクロ波プラズマ発生装置。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な構成で、ワークの処理面の形状に拘わらず、その形状に対応してプラズマ処理を施すことができるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、第１の電極２と、ワーク設置部２１の第１の電極２の対向側に位置し、外周面が前記ワーク設置部２１に設置されたワーク１０の処理面１１に対面するように設置され、中心軸を回動軸として回転可能な円筒状の第２の電極３とを有し、発生したプラズマにより処理面１１を処理するものであり、第２の電極３は、その外周面に、周方向に沿って、有効電極領域３１ａの幅が変化している部分を有し、この第２の電極３を、その中心軸を回動軸として回転させることにより、処理面１１と対面する有効電極領域３１ａの幅が変化するよう構成され、ガス供給手段５により、有効電極領域３１ａの幅の大きさに応じて、処理ガスを供給する幅も変化するよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、概して、プラズマリアクタにおいて、大面積基板に必要な容量性デカップリングを提供する装置及び方法を提供する。
【解決課題】本発明の一実施形態は、プラズマリアクタにおいて用いるための基板サポートを提供する。プラズマリアクタは、大面積基板の裏面と接触するための複数の隆起領域のある上面を備えた導電性本体を有している。複数の隆起領域は、上面の表面積の約５０％未満を占める。 （もっと読む）

【課題】プラズマ生成を低電圧で安定して行うことのできるプラズマ生成装置、およびこのプラズマ生成装置を用いた表面処理装置、表示装置、流体改質装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成装置１０は、導体線４と絶縁層５からなる第１絶縁被覆線１と、導体線６と絶縁層７からなる第２絶縁被覆線２とを撚り合わせた撚線構造からなるプラズマ生成部８を設け、両絶縁被覆線１，２間に交流電圧を印加することで、両絶縁被覆線間１，２に生じる微小な隙間においてプラズマＰを生成する。 （もっと読む）

【課題】高機能性薄膜を、大面積へ均一に、生産性高く、且つ、高性能に形成する薄膜形成方法、該薄膜を有する物品、光学フィルム、および、それを達成するための誘電体被覆電極およびプラズマ放電処理装置を提供する。
【解決手段】導電性母材を誘電体で被覆した角柱型の誘電体被覆電極であって、前記誘電体の空隙率が１０体積％以下であることを特徴とする誘電体被覆電極 （もっと読む）

【課題】内部でプラズマが発生する反応管の開口近傍の内壁を保護し、メンテナンスを容易に行うことができる技術を提供する。
【解決手段】センターリング１は、真空を保持して２つの配管の中心軸を位置合わせして接続するために、Ｏリング装着用溝５を外周面に有した第１円環部２と、第１円環部２の円環の中心軸方向両側にそれぞれ隣接した２つの第２円環部３とを有し、第１円環部２に隣接する一方の第２円環部３ｂは、外径が他方の第２円環部３ａと等しく、かつ、内径が他方の第２円環部３ａより小さく形成されると共に、内周面の全周縁に、円環の中心軸に平行な方向に突起部４を備える。 （もっと読む）

【課題】 電子及びイオンを生成するためのシステム及び方法を提供する。
【解決手段】 １つの実施形態は、放電チャンバを有した外側電極と、上記放電チャンバの内側において上記放電チャンバの上方部分及び上記放電チャンバの下方部分を形成する位置に配置された内側電極と、上記放電チャンバの上記下方部分に配置されたガス入口と、を備え、上記放電チャンバの上記下方部分内に形成されるプラズマにより、上記放電チャンバの上記上方部分にプラズマを形成するのに使用できる始動粒子が与えられる。 （もっと読む）

【課題】放電空間を形成する部材の耐久性を向上できるプラズマ発生体を提供する。
【解決手段】プラズマ発生体１は、放電空間５を有し、一体的に形成された誘電体としての基体３と、基体３に固定され、放電空間５内でプラズマを発生させる電極１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】温度制御が可能で且つ小型化が可能なプラズマ発生体、反応装置及び光源装置を提供する。
【解決手段】プラズマ発生体１は、放電空間５Ａ，５Ｂ，５Ｃにプラズマを発生させる電極１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄと、電極１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄが固定され、電極１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄに沿って流体を流動させ、プラズマ発生体１の温度制御を可能ならしめる流路１７を有し、一体的に形成された誘電体としての基体３とを備える。 （もっと読む）

【課題】マスク表面に亘るエッチング速度の極めて均一な分布を実現するプラズマリアクタを提供する。
【解決手段】プラズマリアクタは、円筒形側壁と、側壁の上にある天井と、側壁の上端上に支持され、天井を支持し、外面と内面とを備えたリングとを備えた真空チャンバを含む。複数の通路が外面から内面へとリング内を半径方向に延び、リングの円周に沿って間隔をあけて配置されている。チャンバ外部に在る外部ガス流導管装置はチャンバの円周に沿って延び、処理ガス供給源に結合されている。チャンバ外部に在る複数のガス流バルブは導管に沿って間隔をあけて配置された各々の位置でもって外部導管に結合され、その各々は（ａ）リングの外面の複数の通路の各々に結合された制御されたガス出口ポートと、（ｂ）バルブ制御入口とを有する。ガスバルブ構成コントローラは各バルブのバルブ制御入口を制御する。 （もっと読む）

マイクロ流体デバイス又はナノ流体デバイスなどの微細加工デバイス又はその部品であって、プラズマ処理などのイオン化もしくは活性化技術によって表面上に形成された、均一の非湿潤性もしくは非吸収性コーティングもしくは表面改質体を有し、表面エネルギー値を１５ｍＮｍ^−１未満としている、微細加工デバイス又はその部品。処理は使用の間にデバイスを通した液体の易流動性を向上させる。 （もっと読む）

【課題】放電プラズマにより励起された処理対象ガスを大量で且つ容易に分解・合成・改質可能とし、さらにドライ洗浄装置やオゾン発生装置として使用可能にしたスマートタイプの大気圧プラズマ素子を使用した有害ガス処理装置を提供する。
【解決手段】大気圧雰囲気中で処理対象ガスを流通可能とした筒状部材の外周壁に誘電体層を付設してなる外部電極と、該筒状部材の内部に配され、互いに連設された大気圧プラズマ素子となる内部電極とを備え、処理対象ガスと酸素を筒状部材内で剪断力を受けて分割および合流を繰り返すことにより両者が攪拌混合されると同時に筒状部材の内周壁および後方となる端部の開放部へ搬送することにより両電極間に高周波を印加させて放電プラズマを誘起させ、筒状部材内部の処理対象ガスを分解・合成・改質可能としたことを特徴とする大気圧プラズマ素子を使用した有害ガス処理装置。 （もっと読む）

【課題】設置スペースの縮小及び装置コストの低減を図ることのできる大気圧プラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】対向配置された一対の電極（４０）と、一対の電極（４０）に接続された電源（５）と、被処理基材（Ｋ）を保持する保持手段（７，６３ａ）とを備え、一対の電極（４０）の少なくとも一方には、機能物質を含む含機能物質部材（４２）が着脱自在に設けられ、電源（５）は、一対の電極（４０）間の領域に大気圧雰囲気下でプラズマが励起し且つ含機能物質部材（４２）から機能物質がスパッタリングする電力を当該一対の電極（４０）に印加する構成とされ、保持手段（７，６３ａ）は、スパッタリングした機能物質が被処理基材（Ｋ）に到達する位置となるように被処理基材（Ｋ）を保持する構成とされたことを特徴とする。 （もっと読む）