【課題】通流する流体を濾過するフィルタをプラズマにより洗浄又は滅菌するフィルタ処理装置を提供する。
【解決手段】通流する流体を濾過するフィルタに隣接してフィルタ処理装置１を配設し、このフィルタ処理装置１で発生したプラズマでフィルタを洗浄及び／又は滅菌するようにしているので、空気調和機、滅菌装置等の本体装置からフィルタを取外すことなく機器内部設置した状態でフィルタ自体を確実に洗浄及び／又は滅菌できる。 （もっと読む）

【課題】本発明のプラズマスクラバーは、電力消耗を減らしながら、反応炉内に高い温度雰囲気を形成して、難分解性気体を効果的に分解除去する。
【解決手段】本発明のプラズマスクラバーは、難分解性気体が供給される第１反応炉１０、前記第１反応炉１０内に設置され、前記難分解性気体の流れ方向に突出形成され、前記第１反応炉１０との放電によって前記第１反応炉１０との間に供給される前記難分解性気体にプラズマを発生させる電極４０、前記第１反応炉１０に連結装着され、前記プラズマが前記電極４０に付着して（anchoring）連続的なアークジェットを形成する第２反応炉２０、及び前記第２反応炉２０に連結装着され、前記第２反応炉２０で電子及び反応性の高い化学種を含む高温の反応部を形成して、滞留時間増加及び反応性を高め、前記難分解性気体を分解する第３反応炉３０とを含む。 （もっと読む）

本発明は、広くは、ガス流れ内の粒子状物質の量を低減するための非熱プラズマベースのシステム、ならびに、そのようなシステムを使用するための方法を対象とする。本発明は、具体的には、自己洗浄表面を有する、そのような非熱プラズマベースの粒子状物質低減システムを対象とする。具体的には、システムにおける非熱プラズマ産生の低減を引き起こす可能性が高い粒子状物質蓄積を低減する自己洗浄表面、したがって、そのようなシステムがガス流れ内の粒子状物質の量を低減する能力が検討される。
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【課題】環境負荷が小さくかつ効率の良い窒化処理法（材料を窒化する方法）を提供する。
【解決手段】窒素を少なくとも含む原料ガス４０を用いて発生させた大気圧プラズマジェット２を材料（ＴｉＯ₂膜３２が表面に形成されたガラス基板３０）に照射する。大気圧プラズマジェット２内部では、高電圧パルス放電により、窒素分子が電離されるだけでなく効率よく解離されて、高濃度の窒素原子が生成される。窒素を少なくとも含む原料ガス（空気でも良い）４０を用いる大気圧プラズマジェット２を材料表面に照射させると、プラズマフレームに含まれている高密度の窒素原子が材料表面を短時間のうちに窒化する。 （もっと読む）

【課題】大気圧・窒素中の放電が容易で、長時間のストリーマ放電に耐え、広範囲で均一な処理ができ、対象物に低ダメージの処理ができ、処理時間が短縮されたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】一辺に刃部を設けた複数の板状のアノード埋込ブレード１１_l-1〜１１_l-6を、互いの主面を対向させて並列配置した分割型アノード電極と、アノード埋込ブレード１１_l-1〜１１_l-6のそれぞれの刃部に対向して配置されたカソードとを備える。アノード埋込ブレードのは、板状のアノード誘電体と、このアノード誘電体の内部に埋め込まれたアノードメタルからなる。複数のアノード埋込ブレードは、長手方向の両端部において、スペーサブロック７１₁〜７１₆，７３₁〜７３₆，７２₁〜７２₆，７４₁〜７４₆を挟む。 （もっと読む）

【課題】反応速度を瞬時に制御できるとともに、二酸化炭素吸収剤全体の温度を上げることなく反応を促進して反応促進に要するエネルギーが大幅に低減でき、さらに反応装置の断熱処理を不要として装置の容積とコストを大幅に低減しえる二酸化炭素吸排出装置を提供することを課題とする。
【解決手段】二酸化炭素吸収剤２と、この二酸化炭素吸収剤２を挟むように配置された第１・第２の電極１ａ，１ｂと、これらの電極１ａ，１ｂに交流電圧またはパルス電圧を印加する電源３を備え、前記電極１ａ，１ｂに交流電圧もしくはパルス電圧を印加することにより、前記二酸化炭素吸収剤２の表面もしくは内部に放電プラズマ４を発生させる構成であることを特徴とする二酸化炭素吸排出装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、大掛りな装置を必要とせず、目的とする触媒粒子の性状を変化させずに誘電体表面に容易に結合・固定化すると共にプラズマ放電場の特性を最大限に生かすための触媒粒子を、誘電体のプラズマ放電性能を阻害することなく誘電体表面に容易に結合・固定化する誘電積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】誘電体表面にポリシラザン類含有溶液層を形成し、該溶液層が固化する前に溶液層に触媒粒子を散布して触媒粒子層を形成した後、該溶液層を固化して、誘電体表面に触媒粒子層を結合・固定化することを特徴とする誘電積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】特定の層構成を有する積層体とプラズマを利用した食材などの保冷機能向上システム、及び該システムを組み込んだ安価な保冷庫の提供。
【解決手段】（１）薄い基材上に螺旋状に形成した一組の薄層状コイルを重ね合わせると共に、該コイルの外周端部同士を接続し、該接続したコイルに通電したときの電磁場が、ＮＳＳＮ又はＳＮＮＳとなるようにしたペーパーコイルと、一種類の元素を含む螺旋状の薄層を表面に設けた薄膜が、元素の種類を変えて複数積層された層（積層元素層）と、色料層とをこの順に積層した積層体Ａ、並びにプラズマ発生装置を備えた保冷機能向上システム。
（２）壁面をアルミニウムで被覆した保冷室、（１）記載の積層体Ａ及びプラズマ発生装置を備えた保冷庫。 （もっと読む）

【課題】誘導電流が形成されるのを防止するトロイダル・プラズマ・チャンバを提供する。
【解決手段】トロイダル低電場プラズマソースとともに用いられ得る金属製プラズマチャンバ１００は、第１の誘電体領域１０８および第２の誘電体領域１１０を含む。誘電体領域１０８および１１０は、プラズマチャンバ１００を、第１の領域１１２および第２の領域１１４に電気的に分離する。第１の領域１１２および第２の領域１１４の各々は、高度真空シールにより誘電体領域１０８、１１０に接続されることにより、プラズマチャンバ１００を形成している。誘電体領域１０８、１１０は、プラズマチャンバ１００の組み合わせ面１１６を分離する誘電体スペーサを有してなっていてもよい。 （もっと読む）

【課題】使用電力量を削減する。安定したガス処理能力と高いガス処理能力を得る。コストダウンを図る。
【解決手段】ダクト１の入口から出口へ向かう方向に沿ってハニカム構造体４を間隔を設けて配置する。このハニカム構造体４のうち最も上流に配置されるハニカム構造体４−１の上流側に上流側電極８を配置し、最も下流に配置されるハニカム構造体４−４の下流側に下流側電極９を配置し、上流側電極８と下流側電極９との間に休止期間を設けて断続的に高電圧Ｖを印加し、ハニカム構造体４の貫通孔４ａとハニカム構造体４間の空間ギャップ１２にプラズマを発生させる。 （もっと読む）

【課題】ガス流れを等方的にすることによって被処理基板の表面処理の均一性を高めることができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空処理装置は、真空室とこの真空室に連接された真空排気装置と、ガス供給装置と、上記真空室内にあって、被処理基板を載置する基板保持台などからなり、真空室、ガス吹き出し穴の配置、基板保持台、自動圧力調整機構の弁体、排気口、メインの真空ポンプの中心軸が被処理基板の中心軸と同心上にあり、この軸に対してこれらすべての形状が対称な状態で表面処理を行う。 （もっと読む）

【課題】ハニカム構造体と金属電極との組合せを容易にし、製造効率を向上した排気ガスのプラズマ処理装置の製造方法を提供する。
【解決手段】セラミックを材料として形成されたハニカム構造体２の内部に、複数の貫通孔２ａ、及び貫通孔２ａを画定する隔壁２ｂが形成されている。ハニカム構造体２の外周部を金属電極３ａが覆っており、金属電極３ａが貫通孔２ａに沿って延在している。ハニカム構造体２の隔壁２ｂ内には金属電極３ｂ〜３ｅが埋め込まれており、金属電極３ｂ〜３ｅが貫通孔２ａに沿って延在している。ハニカム構造体２を押出し成形する際に、金属電極３ａ〜３ｅはハニカム構造体２の押出し成形に用いる金型の内部に配置される。したがって、ハニカム構造体２を押出し成形する際に、ハニカム構造体２と金属電極３ａ〜３ｅとが一体となる。 （もっと読む）

放射線支援化学処理に有用な放射線に対し透明な壁の第１面によって少なくとも一部が画成された流体経路と、透明壁の第１面に対向する第２面によって少なくとも一部が画成され、放射線支援化学処理に有用な放射線を生成するよう構成されたガス放電チャンバー又はプラズマ・チャンバーとを有する放射線支援化学処理を行うための装置の開示である。関連する光触媒反応装置の作製方法が、とりわけ流体経路をウォッシュコートして光触媒材料を堆積させるステップであって、光触媒材料を非円形断面経路の第１部分に堆積させ、透明材料から成る壁の第1面の少なくとも一部を含む非円形断面経路の第２部分には堆積させず、又は第２部分から光触媒材料を除去することを含むステップを有している。
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【課題】部品の組立及び取り外しの簡便性に優れたものとすることができ、量産性を向上させるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】電極はセラミック層により包囲され、ベース部の下層に設けられた第１と第２の導電性部材によって、突き上げ機構の基板を昇降させる突き上げピンの昇降空間と、伝熱ガスを基板保持台に設けられた複数の穴に供給するガス溜まり空間とを包囲し、かつ、第１と第２の導電性部材を接地することで解決できる。 （もっと読む）

【課題】大気圧・窒素中の放電が容易で、広範囲で均一な処理ができ、対象物に低ダメージの処理ができ、処理時間が短縮されたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】第１系列アノードセグメントの周期的配置からなる第１系列アノードユニット（１１_a，１１_b，…，１１_e）、第１系列アノードセグメントの周期的配置と１／２周期ずれた位置に交互に挿入された第２系列アノードセグメントの周期的配置からなる第２系列アノードユニット（１２_a，１２_b，…，１２_e）を有する複系列分割型アノード電極と、複系列分割型アノード電極に対向して配置されたカソード２４とを備える。複系列分割型アノード電極とカソード２４間に処理ガスを導入し、第１系列アノードユニットと第２系列アノードユニットのそれぞれに、同一繰り返し周波数で互いに位相の異なるパルスを印加して、複系列分割型アノード電極とカソード２４間にプラズマを生成する。 （もっと読む）

【課題】割れやすい誘電体材料によって複雑な形状を有するプラズマ電極を容易に製作することを可能とするとともに、製作された電極において部材の割れを抑制することのできるプラズマ電極の製作方法を提供することを課題とする。
【解決手段】プラズマ電極１２の製作方法は、第１電極本体２、第２電極本体３２及び誘電体７を有するプラズマ電極１２において、ディップコーティングによってガラスを第１電極本体２に被覆して誘電体７を形成するものである。よって、プラズマ電極１２は、第１電極本体２にガラスを被覆し、ガラスが被覆された第１電極本体２の貫通空間部２ｂに、スチールウール３２ａからなる第２電極本体３２を挿入することによって、容易に製作されることが可能である。 （もっと読む）

【課題】 稼動時の熱に起因する熱応力が印加されてクラックが発生しにくいプラズマ発生体を提供することにある。また、このようなプラズマ発生体をもちいたプラズマ発生装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
本発明のプラズマ発生体は、第１電極１及び第１電極１を支持する第１絶縁部３と、第１電極１上に対向して配置される第２電極２及び第２電極２を支持する第２絶縁部４と、第１絶縁部３と第２絶縁部４のそれぞれの一方端が接合される第１側部５とを備え、第１絶縁部３と第１側部５とにより構成される内部空間Ｓの角を第１絶縁部３と第１側部５との接合部に沿って結んだ第１の線分が、非直線部を有している。 （もっと読む）

【課題】木質バイオマスに新しい機能を持たせて、資源としての有効利用を促進させることを実現する、木質バイオマスへの金属担持方法を提供する。
【解決手段】木質バイオマスに対して、酸素プラズマを照射する第１のプラズマ照射工程と、金属元素を含有するプラズマを照射する第２のプラズマ照射工程とを行って、第２のプラズマ照射工程で照射したプラズマの金属元素を木質バイオマスに担持させる。 （もっと読む）

【課題】中央部の放電空間における温度上昇を抑制することができるプラズマ発生体を提供する。
【解決手段】一方向に配列された複数の誘電体３と、該各誘電体３の内部に配設された導電体５とを有し、導電体５間に電圧を印加することにより誘電体３間の放電空間にプラズマを発生可能なプラズマ発生体であって、誘電体３が４つ以上であり、誘電体３の配列方向における中央部の放電空間を挟んで対向する導電体５間の対向面積は、誘電体３の配列方向における端部の放電空間を挟んで対向する導電体５間の対向面積よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】電極間のギャップをμｍオーダーとし、大気圧中でのパッシェンミニマム付近で作動することで、消費電力を低減するとともに、印加電圧の低減化、流体の流通性を向上させることができるプラズマ電極を提供する。
【解決手段】複数の貫通孔１１，１２を有する金属基板１３，１４、２枚を、貫通孔同士の位置が一致するように平行に配設したプラズマ電極１０であって、金属基板の対向する少なくとも一方の表面にはポーラスな誘電体膜１６が露出して形成されている。
プラズマ電極は、金属基板２枚が、その周縁に非導電体スペーサ１５を介在させて平行に配設した態様もある。 （もっと読む）