二酸化炭素を非熱プラズマ雰囲気中で炭素と酸素に分解する二酸化炭素のプラズマ分解装置及び方法が開示されており、当該装置は、二酸化炭素の流入口及び炭素と酸素の排出口を有する二酸化炭素分解反応器と；前記反応器内に配置されて長さ方向に伸長する棒状の複数の陽極と；前記反応器内の複数の陽極内に配置されて長さ方向に伸長する棒状の複数の陰極と；前記複数の陽極と前記複数の陰極との間に所定の電圧を印加する電源と、を含む。 （もっと読む）

【課題】パルス方式の電子ビームによる非平衡プラズマにより高密度ラジカルが生成でき、プラズマ反応におけるエネルギー損失が小さく、かつ、小型、高効率なプラズマ反応装置を提供する。
【解決手段】高電圧パルス形成部に接続されたパルス電子ビーム発生部１２と、内部が常温・常圧状態に保持された照射容器１３とを備えたプラズマ反応器において、該パルス電子ビーム発生部と該照射容器との間に電子ビーム透過膜１８を設け、パルス電子ビーム発生部から照射容器内にパルス電子ビーム２１を打込むことによりガス分子の電子衝突解離エネルギー閾値以上の高エネルギー電子を大量に有する大気圧非平衡プラズマを生成する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ均一性を改善したプラズマリアクタを提供する。
【解決手段】ＲＦ接地リターン電流は、バイパス電流路を提供することにより、リアクタチャンバの非対称なフィーチャーからは迂回されている。１つのバイパス電流路は、チャンバ床のポンピングポート１６２を排除するものであり、側壁から接地台座ベースまで延在する導電性の対称グリル２００を含んでいる。他のバイパス電流路は、ウェハスリットバルブを排除するものであり、スリットバルブ１２８の占める側壁部分を橋架けする列をなす導電性ストラップを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】プラズマを利用してガスの処理を行うガス処理装置において、汎用性が高く、特に芳香族化合物など処理が困難な成分を含有する大量のガスを速やかに処理することができるガス処理装置を提供する。
【解決手段】ガスの流路上に直列配置された複数のガス処理ユニット２０Ａ，２０Ｂからなるプラズマ装置列と、プラズマ装置列の各プラズマ装置２０Ａ，２０Ｂの動作を制御する制御部１０とを備える。各プラズマ装置２０Ａ，２０Ｂは、ガスの流路に連通する導電体からなるキャビティ２２Ａ，２２Ｂと、このキャビティ２２Ａ，２２Ｂ内にプラズマを発生させるプラズマ発生器２３Ａ，２３Ｂと、このプラズマ始動部２３Ａ，２３Ｂの発生するプラズマにマイクロ波を照射するマイクロ波照射器２４Ａ，２４Ｂとを有する。制御手段１０は、稼働するプラズマ装置２０Ａ，２０Ｂの数を、導入されるガスの成分に応じて選択する。 （もっと読む）

【課題】レシプロエンジン、ロータリーエンジン、ジェットエンジンやガスタービンなどの熱機関等からの酸素を含む排気ガス中の粒子状物質を、高効率、かつ、低コストで、また、アンモニアや尿素を使用しない乾式により、触媒を使用しない場合であっても低温で処理を行うことができ、装置構成が小型化された排ガスの物質浄化装置を提供する。また、排ガス中のＮＯｘ及び煤や炭化水素の同時除去も可能とする。
【解決手段】排気通路から排ガスが導入されるキャビティ７と、マイクロ波吸収体材料４を添加した耐熱性材料で形成されキャビティ７内に収納された微粒子捕集用フィルタ２と、ＧＨｚ帯域の周波数の電磁波を出力するパルス電磁放射供給源９と、パルス電磁放射供給源９からの電磁波を供給されキャビティ７内にマイクロ波を放射するマイクロ波アンテナ８とを備え、キャビティ７は、マイクロ波アンテナ８から放射されるマイクロ波を共振させ閉じこめる。 （もっと読む）

【課題】電流増加と放電の安定性が得られ、排ガスを長時間プラズマに通過させる筒型回転ストリーマ発生装置の提供。
【解決手段】外筒２の中央に金属細線からなるストリーマ発生素子１を取り付けた回転内筒を配置する。ストリーマ発生素子１にプラス電圧を印可電圧投入口５より印可し、金属プレート１８を巻いた外筒２にマイナス電圧を印可するとストリーマ放電１５が発生する。回転内筒はモータ１３で駆動し、排ガスはファン１４によって吸引する。 （もっと読む）

【課題】空間内を通過する流体のプラズマ反応を高めることができるとともに、構造体の破損を抑制することができる構造体およびこれを用いた装置を提供する。
【解決手段】平板状の第１電極３を有する第１電極部１と、平板状の第２電極４を有するとともに、主面が第１電極部１に対向して配設される第２電極部２と、第１電極部１と第２電極部２との間に空間８が形成されるように、第１電極部１と第２電極部２とを保持するスペーサ部７とを備え、空間８に流体が流れるとともに、第１電極部１は、スペーサ７部の流体の流れの上流側における側面１ａよりもさらに上流側に突出している突出領域９を備えている。 （もっと読む）

【課題】プラズマ生成用ガスを有効利用する。
【解決手段】電極基板４に形成された複数の貫通孔６を介して被処理物２の表面にプラズマ生成用ガスを直接供給する。これにより、被処理物２の表面処理に必要な量だけのプラズマ生成用ガスを供給することにより、プラズマ生成用ガスを有効利用し、プラズマ生成用ガスの消費量を低減することができる。 （もっと読む）

前駆体ガスからＩＶ族半導体ナノ粒子の組を生成するためのプラズマ処理装置が開示される。この装置は、外側チューブ内面と外側チューブ外面とを含み、外側チューブ内面は外側チューブ内面エッチング速度を有する、外側誘電体チューブを含む。この装置はまた、内側チューブ外面を含み、外側チューブ内面及び内側チューブ外面は環状チャネルを定め、さらに内側チューブ外面は内側チューブ外面エッチング速度を有する、内側誘電体チューブも含む。この装置は、外側チューブ外面上に配置された第１の外側電極内面を有する、第１の外側電極をさらに含む。この装置はまた、内側誘電体チューブの内部に配置され、第１のＲＦエネルギー源が第１の外側電極及び第１の中央電極の一方に加えられたとき、第１の外側電極に結合されるようにさらに構成された第１の中央電極と、第１の外側電極と第１の中央電極との間に定められた第１の反応域とを含む。 （もっと読む）

【課題】処理対象ガスに含有される水分を効率的に除去でき、かつ、広範囲に安定して放電することができるプラズマリアクタを提供する。
【解決手段】ガス導入口１Ｃから導入される空気に含まれた水分は、筒状陰極２の内周面およびその全面に多重の螺旋状に配列された複数の貫通穴２Ａによる複数の凹部に衝突して水滴化され、各凹部に捕捉された水滴が順次流下することにより、導入される空気に含まれた水分が効率的に除去される。このため、筒状陰極２の内周面に水分が局所的に付着することに起因する電界の集中による異常放電が防止されると共に、棒状陽極３から筒状陰極２の内周面の全面に設けられている複数の凹部の開口縁部の円環状の突起２Ｂに向けて広範囲に安定してコロナ放電される。その結果、円筒容器１内には高密度のプラズマ（低温プラズマ）が発生し、高濃度のオゾンが効率良く生成される。 （もっと読む）

【課題】より広いガス条件でプラズマ放電できるプラズマ生成装置を提供すると共に、ＰＦＣなどの有害成分の除去効率を向上させるプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】ガス導入口１ａとガス導出口１ｂを有する円筒状反応容器１に螺旋コイル２を巻回し、この螺旋コイルの２箇所に形成した電極５、６に高周波電源３からの高周波電力を印加して筒状反応容器内でプラズマを発生させ、ガス導入口から導入したガス中の有害成分を分解するプラズマ生成装置であって、螺旋コイルの全巻数が、螺旋コイルの２箇所の電極間の巻数よりも多くされる。ガス導入口側の電極の外側に存在するコイルの巻数をＬとし、２つの電極間のコイルの巻数をＭとしたとき、Ｌ／Ｍが０．３以上である。ガス導出口側の電極の外側に存在するコイルの巻数をＮとし、２つの電極間のコイルの巻数をＭとしたとき、Ｎ／Ｍが０．５以上である。 （もっと読む）

粒子生産システムにおいて流体を再循環させるための方法及びシステムを提供する。反応器は、反応粒子混合気体を生成する。急冷チャンバは、調整流体を反応粒子混合気体と混合し、複数の前駆体物質粒子及び出力流体を含む冷却粒子混合気体を生成する。フィルタエレメントは、出力流体をフィルタリングし、フィルタ処理出力を生成する。温度調整モジュールは、フィルタ処理出力の温度を調整し、温度が制御されたフィルタ処理出力を生成する。含有率制御モジュールは、温度が制御されたフィルタ処理出力の含有率を調整し、温度が制御され、含有率調整フィルタ処理出力を生成する。チャンネルエレメントは、反応粒子混合気体を冷却する際に使用するための調整流体として、温度が制御され、含有率調整フィルタ処理出力を急冷チャンバの流体インレットに供給する。
（もっと読む）

【課題】プラズマエネルギーにより光触媒活性を有するアパタイトを活性化させ、該光触媒活性を有するアパタイトの作用と、プラズマエネルギーの作用との相乗効果により、有害成分の分解除去を簡便かつ効果的に行なうことが可能な光触媒能を有するプラズマ電極、光触媒アパタイトの活性方法、該活性方法を用いたガス浄化方法、及びガス浄化装置の提供。
【解決手段】本発明のプラズマ電極は、電圧の印加により大気圧プラズマを発生する放電部を少なくとも備え、該放電部の放電面の少なくとも一部に複数の突起部を有し、該突起部間に光触媒活性を有するアパタイトを、該突起部の高さよりも低くなるよう担持させたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電極から離れたところに確実にかつ簡便にプラズマを発生させる装置及び方法を提供する。
【解決手段】枝分かれした枝管１１を有する細管１０の一方の開口部に第１の電極３０の先端を差し込み、細管１０の他方の開口部はジョイント部７０を介してガス流発生部材８０と連結する。ガス流発生部材８０からは細管１０内にガスが吹き込まれて細管１０内にガス流を発生させており、ガス流は第１の電極３０にまで達している。細管１０の下には第２の電極２０が置かれており、第１の電極３０に電源４０により交流電圧またはパルス電圧が印加される。これにより、第１の電極３０の先端にプラズマが発生し、そのプラズマはガス流の上流方向に遡っていき、細管１０内にプラズマが生成する。 （もっと読む）

【目的】 基材に施す塗膜の焼成処理をプラズマを用いて低温処理する場合に、焼成膜の脆性化を生じず良好な膜質の成膜処理を行うことのできる進行プラズマ成膜方法及びプラズマ成膜装置を提供することである。
【構成】本発明に係るプラズマ成膜は、成膜材により基材面に表面膜Ｌを形成した基材Ｗをプラズマ形成用電極（高圧電極及び低圧電極）に挟まれない位置に設置し、表面膜Ｌの膜面に向けて進行する進行プラズマＰを流通させ、照射することにより表面膜Ｌを焼成する進行プラズマ成膜方法に基づき行われる。 （もっと読む）

【課題】液滴微粒子含有被処理気体の処理方法及び処理装置を提供する。
【解決手段】処理方法は、低温プラズマ処理室に、液滴微粒子を含有する被処理気体を通過させて前記液滴微粒子を凝集させ、こうして形成された凝集体含有気体を凝集体捕捉フィルタに通過させて前記凝集体を捕集して除去することを特徴とする。処理装置は、
（１）液滴微粒子を含有する被処理気体Ｇ_１を取り入れる取入口５１、
（２）前記取入口から取り入れた液滴微粒子含有被処理気体を低温プラズマで処理して前記液滴微粒子を凝集させる低温プラズマ処理室１０、
（３）前記液滴微粒子の凝集体を含む気体から前記凝集体を捕集して除去することのできる凝集体捕捉フィルタ２０、及び
（４）前記凝集体捕捉フィルタを通過した処理済気体Ｇ_５を放出する放出口５２
を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】処理むらを大幅に低減させることができる、特に処理むらが生じ易いフッ素樹脂の表面改質処理においても処理むらを低減させることができるプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】被処理物が配置された処理空間内を、所定のガスで処理空間外より高く、かつプラズマを発生させる圧力雰囲気にして、処理空間内で、被処理物の表面をプラズマ処理するプラズマ処理方法。前記圧力雰囲気にする方法は、処理空間の空気を所定のガスに置換した後に、処理空間内の圧力が処理空間外より高く、かつプラズマを発生させる圧力になるまで、所定のガスを処理空間に注入して行うプラズマ処理方法。所定のガスに置換する方法は、処理空間を真空引きした後に、所定のガスを処理空間に注入して行うプラズマ処理方法。 （もっと読む）

【課題】常温において反応性及び反応効率に優れ、反応を安全に実施可能であるマイクロ流体デバイス、反応装置、並びに、反応方法を提供すること。
【解決手段】気体放電を用いるプラズマ生成機構を備えた気体用微小流路、液体用微小流路、並びに、気体用微小流路及び液体用微小流路が合流して形成される気液混相用微小流路を少なくとも有することを特徴とするマイクロ流体デバイス、前記マイクロ流体デバイスを用いた反応装置。また、前記反応装置を準備する工程、前記気体用微小流路に気体を供給する工程、前記液体用微小流路に被反応物を含む液体を供給する工程、前記プラズマ生成機構により前記気体由来のラジカルを発生させる工程、前記気液混相用微小流路において、被反応物を含む前記液体とラジカルを含む前記気体との気泡流又はスラグ流を形成する工程、並びに、前記被反応物と前記ラジカルとを反応させる工程を含む反応方法。 （もっと読む）

【課題】有機溶液を分解して無害化する有機溶液分解装置と有機溶液分解方法の提供。
【解決手段】本発明は、有機溶液が供給される反応容器（１１）と、前記反応容器内に配設された複数の導電体ブロック（１２１）で構成され、各導電体ブロックには金属塩が付けられたブロック群と、前記導電体ブロック間にマイクロ波放電を生じさせるようマイクロ波を照射するマイクロ波照射手段（１３）とを備え、金属プラズマにより有機溶液を揮発分解させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】窒素を作動ガスとして使用する大気圧プラズマを用いて、窒素酸化物を副生することなく処理対象ガスを熱分解することのできるガス処理装置を提供する。
【解決手段】大気圧プラズマＰおよび大気圧プラズマＰに向けて供給される処理対象ガスＦを囲繞し、その内部にて処理対象ガスＦの熱分解を行う反応器２２を有し、窒素ガスを作動ガスＧとして使用するプラズマ分解機１２に対して、プラズマ分解機１２から排出された処理対象ガスＦと作動ガスＧとを含む排ガスＲに酸素および水分が混入しない状態で、排ガスＲを少なくとも窒素酸化物が生成しない温度まで冷却する冷却部１３を設けることにより、上記課題を解決したガス処理装置１０とすることができる。 （もっと読む）