【課題】研磨剤由来の研磨粒子残渣の除去性や絶縁膜上の金属残渣の除去性に優れかつ、タングステン配線のタングステン腐食抑制性能に優れたタングステンおよびタングステン合金配線半導体用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】有機アミン（Ａ）、第4級アンモニウムヒドロキシド（Ｂ）、キレート剤（Ｃ）および水（Ｗ）を必須成分とし、ｐHが７．０〜１４．０であることを特徴とするタングステンおよびタングステン合金配線半導体用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

本発明は１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンとトランス−１，２−ジクロロエチレンとを含む液体組成物であって、１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンおよびトランス−１，２−ジクロロエチレンが組成物の少なくとも９９重量％である液体組成物の、固体表面の洗浄での使用に関するものである。本発明はさらに１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンと、トランス−１，２−ジクロロエチレンとを含む液体組成物であって、１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンおよびトランス−１，２−ジクロロエチレンが液体組成物の少なくとも９９重量％であり、トランス−１，２−ジクロロエチレンに対する１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンの重量比が５７：４３〜６５：３５の間、好ましくは５８：４２〜６３：３７の間、特に好ましくは５９：４１〜６１：３９の間にある液体組成物に関するものである。 （もっと読む）

本発明は、数多くの用途における有用性を有する共沸混合物様の組成物、方法、及びシステム、特に有効量の、以下の構造（Ｉ）：
【化１】


を有する化合物：シス−１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブテン（Ｚ−ＨＦＯ−１３３６ｍｚｚｍ）、及び水、フルオロケトン、アルコール、ヒドロクロロフルオロオレフィン、及びこれらの２以上の組合せからなる群から選択される他の材料を含む共沸混合物様の組成物に関する使用に関する。これらの組成物は、発泡剤、冷媒、加熱剤、動力サイクル薬剤、洗浄剤、エアゾール噴射剤、滅菌剤、潤滑剤、香味料及び香料抽出剤、燃焼性減少剤、及び炎抑制剤のような広範囲の用途において用いることができる。要約はこのプログラムにコピーされない構造（図）を含むことに留意されたい。完全な要約に関しては電子ファイルを検討されたい。 （もっと読む）

【課題】シリコーン系ハードコート付き樹脂基板に付着した水垢を、そのシリコーン系ハードコートを損傷することなく除去する洗浄剤を提供する。
【解決手段】界面活性剤と、酸性フッ化アンモニウムと、水とを含有し、上記酸性フッ化アンモニウムの含有量が、全体量の０．５〜３．０質量％である。 （もっと読む）

【課題】疎水性表面を有するシリコンウェハの洗浄方法、洗浄液を提供する。
【解決手段】洗浄液として、ＨＦが０．０１〜０．０５重量％と、かつオゾンが含有されている洗浄液を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】種々の汚れ、特に金属加工油の種類に関わりなく、汚れを含んだ洗浄液から、汚れを効果的に分離除去し、洗浄液中の汚れ濃度を洗浄液の洗浄力が低下する濃度レベル以下に抑えること。
【解決手段】２０℃における蒸気圧が１．３３×１０³Ｐａ未満の成分を含有する溶剤（ａ）と、２０℃における蒸気圧が１．３３×１０³Ｐａ以上の成分を含有する溶剤（ｂ）とを、質量比（ａ）／（ｂ）＝２９／７１〜９０／１０で含む洗浄液を用いて、被洗物の汚れを洗浄した後に、該汚れを含んだ洗浄液の溶剤（ａ）と溶剤（ｂ）の質量比を（ａ）／（ｂ）＝１０／９０〜２９／７１にすることで、汚れを含んだ洗浄液から、汚れを分離除去する方法。 （もっと読む）

【課題】 アルミニウム、チタン、コバルト及び銅からなる群より選ばれる金属材料にダメージを与えることなく、エッチング残渣やレジスト残渣等の洗浄性能に優れた電子デバイスの洗浄用組成物及びそれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ_１、Ｒ_２は各々独立して水素原子、メチル基又はエチル基を示し、Ｒ_１及びＲ_２が共に水素原子になることはない。）
で表されるアミン類、フッ化物、及び水を含む洗浄用組成物を用い、アルミニウム、チタン、コバルト及び銅からなる群より選ばれる金属材料を含有する電子デバイスの製造プロセスにおいて発生する有機物及び／又は無機物を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出装置の導体パターン形成用インクの流路における汚れ、液滴吐出ヘッドの目詰まりを好適に解消できる洗浄液、このような洗浄液を用いた液滴吐出装置を提供すること。
【解決手段】本発明の洗浄液は、液滴吐出方式による導体パターンの形成に用いられ、金属粒子が水系分散媒に分散した導体パターン形成用インクを吐出する液滴吐出装置を洗浄するための洗浄液であって、セラミックス粒子と、前記セラミックス粒子が分散する水系分散媒とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】インクジェット記録ヘッドのクリーニング性に優れ、連続出射を行っても優れた吐出安定性が実現できるヘッドクリーニング液及びそれを用いたクリーニング方法を提供する。
【解決手段】水溶性染料を含有する水系インクジェットインクを吐出するインクジェット記録ヘッドのノズル面をクリーニングするのに用いるヘッドクリーニング液において、キレート剤を０．０１質量％以上、１．０質量％以下含有することを特徴とするヘッドクリーニング液。 （もっと読む）

【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた洗浄方法及び半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｃ）塩基性有機化合物、並びに、（成分ｄ）有機酸、を含み、ｐＨが７〜９であることを特徴とする、半導体用基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた洗浄方法及び半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】引火性が無く危険物に該当しない安全で取扱性の良好なものであって、保管上又は使用上において、様々な法的規制の適用から免れることができ、非常に簡単かつ便利に使用することが可能であると共に、発錆や排水の問題もなく、しかもこれまでにない優れた洗浄力を発揮し得る洗浄用溶剤組成物を提供する。
【解決手段】ドデシルベンゼンスルホン酸を０．１重量％〜６０重量％、及びノルマルプロピルブロマイドを４０重量％〜９９．９重量％、含有するものである。又は、ドデシルベンゼンスルホン酸を０．１重量％〜６０重量％、ノルマルプロピルブロマイドを４０重量％〜９９．９重量％、並びに、１種又は２種以上の有機溶剤からなる引火点２０℃以上の希釈剤を０重量％〜８９．９重量％、含有するものである。 （もっと読む）

【課題】本発明はバルクフォトレジスト、ポストエッチ及びポストアッシュ残渣、Ａｌバックエンド工程相互接続構造からの残渣、並びに混入物を除去するための水系配合物及びそれを使用する方法に関する。
【解決手段】この配合物は、ヒドロキシルアミン；アルキルジヒドロキシベンゼンとヒドロキシキノリンとの混合物を含む腐食防止剤；アルカノールアミン、水溶性溶媒又はこれら２つの組み合わせ；及び少なくとも５０重量％の水を含む。 （もっと読む）

【課題】物品表面に付着した含フッ素ポリマーまたはその架橋物の除去方法を提供する。
【解決手段】含フッ素ポリマーまたはその架橋物が表面に付着した物品を、芳香族系炭化水素および含フッ素エーテルを含有する不燃性混合液に接触させて膨潤または溶解させ、その後物品表面から含フッ素ポリマーまたはその架橋物を除去する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、研磨工程由来の有機残渣除去性能、銅配線の腐食抑制効果（銅腐食抑制効果）に優れ、かつ腐食防止剤が残留しない銅配線半導体用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 有機アミン、４級アンモニウム化合物、ウレア基またはチオウレア基を含有する化合物、および水を必須成分とし、ｐＨが７〜１２であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】 洗浄力、乾燥性、安全性、経済性、有害性等の要求項目を満たす洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 ジエチレングリコールジエチルエーテル及び３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノールからなる洗浄剤組成物、特にジエチレングリコールジエチルエーテルの含有量が１０〜９０容量％、３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノールの含有量が９０〜１０容量％からなる洗浄剤組成物は、自動車、機械、精密機器、電気、電子等の各種工業分野において扱われる部品等に付着する加工油類に対する洗浄力に優れ、特に水溶性加工油等の水及び油分が複合した汚れの洗浄に適しており、沸点が１７０℃以上であるため揮発性が低く、ＶＯＣ排出抑制に効果があり、且つ良好な乾燥性を有する。 （もっと読む）

【課題】 クーラント由来の残渣に対して優れた洗浄性を有するとともに適度なエッチング性を有することで基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、優れたパーティクルの除去性を実現可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 下記一般式（１）で示され、ｍ/(ｎ＋ｍ＋ｋ)が０．２０〜０．５５であるノニオン界面活性剤（Ａ）と脂肪族アルカノールアミン（Ｂ）を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。
ＨＯ−（ＥＯ）n−（ＰＯ）m−（ＥＯ)ｋ−Ｈ （１）
［式中、ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基を表し、（ＥＯ）n、（ＰＯ）m、（ＥＯ)ｋは、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドがブロック状で付加している。ｎ、ｍ、ｋはそれぞれ２０以上の数を表し、ｎ＋ｍ＋ｋは６０〜２００である。］ （もっと読む）

【課題】酸化セリウム等の研磨材に由来する微粒子汚れに対する洗浄性に優れる洗浄剤組成物、およびガラス製ハードディスク基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】酸化セリウムを含む研磨材で研磨したガラス製ハードディスク基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物において、（Ａ）成分：ホスホン酸系キレート剤を１〜５０質量％、（Ｂ）成分：ヒドロキシカルボン酸および／またはその塩を１〜２０質量％含有し、かつ、前記（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比が、（Ａ）成分／（Ｂ）成分＝５０／５０〜９０／１０であり、界面活性剤の含有量が１質量％未満であり、純水で２質量％に希釈した希釈液の２５℃におけるｐＨが５．０以下であることを特徴とする洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】インクジェットプリンタのノズル口内周辺に析出した金属塩を十分に洗浄することが可能で、且つインクを凝集させにくい、上記ノズルの洗浄方法を提供すること。
【解決手段】インクジェットプリンタのノズルを洗浄する方法であって、水と、５〜２５質量％の水溶性極性溶媒と、を含有する洗浄液でノズルを洗浄する工程を含む、洗浄方法。 （もっと読む）

１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロ−３−メトキシ−４−（トリフルオロメチル）−ペンタンとトランス−１，２−ジクロロエチレンと第三構成成分とから本質的になる配合物を含む組成物が提供される。第三構成成分は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔ−ブタノール及び１−プロパノールから選択される。この配合物は、三元共沸混合物を形成する。提供される組成物は、コーティング溶媒構成成分として、伝熱流体として、並びに、潤滑剤として、電子部品を洗浄するのに有用であり得る。 （もっと読む）

【課題】アルミナ等の研磨材に由来する微粒子汚れに対する洗浄性に優れるハードディスク基板用洗浄剤組成物、およびハードディスク基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：アルカリ金属の水酸化物を０．０１〜５．００質量％、（Ｂ）成分：１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸および／またはその塩を０．１０〜２０．００質量％、（Ｃ）成分：下記一般式（１）で表されるポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩を０．０５〜１０．００質量％含有し、界面活性剤の含有量が１．００質量％未満であることを特徴するハードディスク基板用洗浄剤組成物。
Ｃ_ｍＨ_２ｍ＋１Ｏ（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎＳＯ_３Ｍ ・・・（１） （もっと読む）