【課題】液浸露光プロセスにおいて、ホトレジストからの溶出成分による露光装置へのダメージが小さく、廃液処理が簡便で、液浸媒体との置換効率が高く、半導体製造のスループットに支障をきたさず、清浄性能に優れる洗浄液および洗浄方法を提供する。
【解決手段】液浸露光プロセスにおいて露光装置の洗浄に使用される洗浄液であって、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基、およびポリグリセリン基の中から選ばれる少なくとも１種を含む非イオン系界面活性剤を５質量％以上と、水を含有することを特徴とする洗浄液、およびこれを用いた洗浄方法。 （もっと読む）

食器洗浄器洗浄剤組成物の複数の単位使用量要素を含み、上記組成物が、実質的に粘性の塊であり、少なくとも20質量％のメチルグリシン二酢酸および/またはその塩および/またはグルタミン酸二酢酸および/またはその塩を含むことを特徴とする食器洗浄器洗浄剤送出しカートリッジ。そのような組成物は、多数回使用用途において優れた安定性および/または性能を有することを見出した。
（もっと読む）

粘土および植物由来のポリフェノール化合物の汚れを除去するために、汚れ懸濁ポリマーと併用して陰イオン修飾カテコールを利用する洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】ポストアッシュ及び／又はポストエッチフォトレジストに限定されないが、これらのような残渣を基材から除去するための水系組成物、及びそれを含む方法を提供すること。
【解決手段】ある態様における、残渣を除去するための組成物は、（ａ）水、（ｂ）ヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミン塩化合物及びこれらの混合物から選択される少なくとも１種のもの、並びに（ｃ）水溶性有機酸を含まないという条件付の腐食防止剤を含み、添加された有機溶剤を実質的に含まない。 （もっと読む）

ポストプラズマエッチング残渣および／またはハードマスク材料を、上記残渣を上に有するマイクロ電子デバイスから洗浄するための、酸化性水性洗浄組成物および方法。本発明の酸化性水性洗浄組成物は、少なくとも１種類の酸化剤と、第１級アミン、第２級アミン、第３級アミン、およびアミン−Ｎ−オキシドからなる群より選択されるアミン種を含む少なくとも１種類の酸化剤安定剤と、必要に応じて少なくとも１種類の共溶媒と、必要に応じて少なくとも１種類の金属キレート剤と、必要に応じて少なくとも１種類の緩衝性化学種と、水とを含む。本発明の組成物は、マイクロ電子デバイスから残渣材料を非常に効果的に洗浄しながら、同時に、同じくデバイス上に存在する層間絶縁および金属相互接続材料は損傷しない。
（もっと読む）

【課題】従来の印象用トレー洗浄剤よりアルギン酸塩印象材の除去効果が優れ、繰返しの使用においても洗浄効果が持続し、金属製の印象用トレーの腐食も起こし難い印象用トレー洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】それぞれ金属イオンと水中にてキレート化合物を形成する、アミノカルボン酸系キレート剤，ポリリン酸系キレート剤，ヒドロキシカルボン酸，ヒドロキシカルボン酸塩より選ばれる１種又は２種以上の化合物１〜６０重量％と水とを主成分とし、更にホスホン酸化合物を０.１〜３０重量％含有させて印象用トレー洗浄剤組成物とする。ホスホン酸化合物は、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、アミノトリエチレンホスホン酸、Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−テトラキス（ホスホノメチル）エチレンジアミンなどのホスホン酸及びそのアルカリ金属塩のいずれかが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ポリマー性物質を基体から効率的に除去し、かつ銅、特に酸化銅の制御された除去を提供する除去剤、特にプラズマエッチング後ポリマー除去剤に対する継続的な必要性が存在する。
【解決手段】ポリマー性物質および酸化銅を、基体、例えば、電子デバイスから除去する上で有用な組成物およびプロセスが提供される。これらの組成物およびプロセスは、プラズマエッチングプロセスの後にポリマー性残滓を電子デバイスから除去するのに特に好適である。 （もっと読む）

液体洗剤組成物を安定化する方法において、（Ａ）モノエチレン性の不飽和モノカルボン酸、ジカルボン酸、および無水ジカルボン酸の群から成る、少なくとも１のモノマー２０〜８０質量％、および（Ｂ）脂肪族モノオレフィンまたは芳香族モノオレフィンの群から成る、少なくとも１のモノマー２０〜８０質量％のラジカル共重合によって得られるコポリマーを、液体洗剤組成物に添加することを特徴とする方法。 （もっと読む）

本発明は保存安定性を改良した少なくとも一つの中性金属プロテアーゼ酵素を含む方法及び組成物を提供する。ある実施の態様においては、中性金属プロテアーゼは洗浄及び他の用途に用いられる。特に好ましい実施の態様においては、本発明はバチルス（Bacillus）種から得られる中性金属プロテアーゼを含む方法及び組成物を提供する。ある更に好ましい実施の態様においては、中性金属プロテアーゼはバチルス アミロリケファシエンス（Bacillus amylloliquefaciens）から得られる。より更に好ましい実施の態様においては、中性金属プロテアーゼはバチルス アミロリケファシエンス中性金属プロテアーゼの変異体である。更なる実施の態様においては、中性金属プロテアーゼはバチルス アミロリケファシエンス中性金属プロテアーゼの同族体（ホモログ）である。本発明は、特に洗浄、漂白及び殺菌を含む用途に特に応用されるがこれに限定されるものではない。 （もっと読む）

揮発性物質などの有益剤を長期間にわたって安定して保持でき、芳香剤などをカプセル封入するのにも好適であるマイクロカプセル。かかるカプセルは、揮発性物質と、前記揮発性物質よりも高い融点を有し、前記揮発性物質と相互に溶解できる添加物とを含む混合物をカプセル封入し、ここで前記混合物は融点範囲を示し、前記融点範囲の一部又は全ては−２０℃〜６０℃の範囲内にある。本発明はまた、かかるマイクロカプセルを含む洗浄及び／又は処理組成物を含む消費者製品、並びにそれらの製造及び使用方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】インキや用紙からのカルシウムの溶出を促進せずに、且つ良好なカルシウム封鎖効果を発揮し、印刷機のインキロール上へのカルシウム塩などの析出を防止するとともに、炭酸カルシウムなどの無機顔料粒子の付着、堆積を防止することによって、インキロール上のインキ剥げ（ローラーストリップ現象）の発生を抑制し、良好な印刷適性を示す平版印刷用湿し水組成物を提供する。
【解決手段】特定のカルシウム封鎖剤、硝酸又は硝酸塩、及び特定のエチレンジアミンのエチレンオキサイド/プロピレンオキサイド付加物を含有する平版印刷用湿し水組成物。 （もっと読む）

【課題】ＮＴＡ誘導体でありながら、銀イオンに対してＥＤＴＡを凌ぐキレート能を有し、生分解性を有するアミノポリカルボン酸誘導体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表されることを特徴とするキレート剤。


（例えば、Ｎ，Ｎ−ビスカルボキシメチル−Ｓ−カルボキシメチル−Ｌ−システイン。） （もっと読む）

【課題】分散または結晶成長の改質により、炭酸カルシウムスケールを最小にできるポリマーの提供等。
【解決手段】抗スケール剤および分散剤として使用される改質多糖ポリマー。ポリマーは水性システムで使用される組成物に有用である。改質多糖はまた、洗浄剤配合物、水処理、分散剤、および油田用途で、かつガラス繊維結合剤としても有用である。かかる用途には、１モルの多糖ＡＳＵ当たり最大約７0モル％のカルボキシル基と１モルの多糖ＡＳＵ当たり最大約２０モル％のアルデヒド基とを有する改質多糖がある。用途はまた、改質多糖と他の合成ポリマーとの混合物を含む。 （もっと読む）

ａ） 次式１


［式中、ＲはＣ₈〜Ｃ₁₁アルキルを意味する］
で表されるヒドロキシ安息香酸誘導体、及び
ｂ） テトラアセチルエチレンジアミン及び／または１，５−ジアセチル−２，４−ジオキソ−１，３，５−ヘキサヒドロトリアジン
から本質的になり、バインダーは含まない顆粒状漂白活性化剤混合物が特許請求される。
（もっと読む）

【課題】アルカリ領域で作用し、キシログリカン分解活性を有し、且つ結晶性セルロース分解活性を有する洗剤用酵素として有用な酵素及びその遺伝子の提供。
【解決手段】次の酵素学的性質を有するアルカリキシラナーゼ；１）作用：キシランのβ１，４−グリコシド結合を加水分解する、２）基質特異性：キシラン及び結晶性セルロースを分解し、特にキシランをよく分解する、３）最適反応ｐＨ：キシランを基質として４０℃で反応させた場合、最適反応ｐＨは約８．５、４）ｐＨ安定性：キシランを基質として５℃で２０時間処理した場合、ｐＨ４．０〜１０．５で未処理の８０％以上の残存活性を示し安定である、５）最適反応温度：キシランを基質としてｐＨ９．０で２０分間反応させた場合、最適反応温度は約５０℃、６）熱安定性：キシランを基質としてｐＨ７．０で２０分間処理した場合、５０℃までは未処理の９０％以上の残存活性を示し安定ある、７）分子量：ＳＤＳ−ポリアクリルアミドゲル電気泳動による分子量は約４０ｋＤａである。 （もっと読む）

本発明は、成分として
ａ） 次のものから成るコポリマー１〜２０質量％
ａ１） アクリル酸及び／又はアクリル酸の水溶性塩５０〜９３モル％、
ａ２） メタクリル酸及び／又はメタクリル酸の水溶性塩５〜３０モル％、及び
ａ３） 式Ｉの少なくとも１種の非イオン性モノマー２〜２０モル％、
ｂ） グリシン−Ｎ，Ｎ−二酢酸誘導体及びグルタミン酸−Ｎ，Ｎ−二酢酸及びその塩からなる群から選択される錯化剤１〜５０質量％、
ｃ） 弱く発泡性の非イオン性界面活性剤１〜１５質量％、
ｄ） 漂白剤及び場合により漂白活性剤０〜３０質量％、
ｅ） 他のビルダー０〜６０質量％、
ｆ） 酵素０〜８質量％、
ｇ） １種又は数種の更なる添加剤、例えばアニオン性又は両性イオン性界面活性剤、漂白触媒、アルカリキャリア、腐食防止剤、消泡剤、着色剤、香料、充填剤、有機溶剤及び水０〜５０質量％、その際、成分ａ）からｇ）の合計は１００質量％になる、
を含有する機械式食器洗浄のためのリン酸塩不含の洗浄調製物に関する。 （もっと読む）

【課題】 保湿感や抗酸化効果を有し、しかも保存時の色調の経時変化が小さく安定性に優れた固形石鹸を提供する。
【解決手段】 エチドロン酸及び／又はその塩と、ペンテト酸及び／又はその塩と、キイチゴ果汁及び／又はヒマワリ種子エキスとを含有して固形石鹸を調製する。保湿感や抗酸化効果を与えるキイチゴ果汁やヒマワリ種子エキスを含有する固形石鹸において、ＢＨＴやＢＨＡを配合する必要なく、保存時の色調の経時変化が小さく安定性に優れた固形石鹸を得ることができる。 （もっと読む）

本発明は、ａ）１〜２０質量％のコポリマー、この場合、このコポリマーは、ａ１）５０〜９９．５モル％のモノエチレン性不飽和モノカルボン酸および／またはその塩、ａ２）０．５〜２０モル％の式（Ｉ）［式中、可変部は以下の意味を有する：Ｒ^１は水素またはメチルであり；Ｒ^２は−（ＣＨ_２）_ｘ−Ｏ−、−ＣＨ_２−ＮＲ^５−、−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＲ^６Ｒ^７−ＣＨ_２−Ｏ−または−ＣＯＮＨ−であり；Ｒ^３は同一または異なってＣ_２〜Ｃ_４−アルキレン基、この場合、これはブロック様またはランダムに配置されていてもよく、その際、エチレン基の割合は少なくとも５０モル％であり；Ｒ^４は水素、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル、−ＳＯ_３Ｍまたは−ＰＯ_３Ｍ_２であり；Ｒ^５は水素または−ＣＨ_２−ＣＲ^１＝ＣＨ_２であり；Ｒ^６は−Ｏ−［Ｒ^３−Ｏ］_ｎ−Ｒ^４であり、その際、基−［Ｒ^３−Ｏ］_ｎ−は、式Ｉに含まれる基−［Ｒ^３−Ｏ］_ｎとは異なっていてもよく；Ｒ^７は水素またはエチルであり；Ｍはアルカリ金属または水素であり；ｎは４〜２５０であり；ｘは０または１である］のアルコキシル化モノエチレン性不飽和モノマー、ａ３）０〜５０モル％のモノエチレン性不飽和ジカルボン酸、その無水物および／またはその塩、ａ４）０〜２０モル％の他の共重合可能なモノエチレン性不飽和モノマー、から成り、その際、コポリマーは、平均分子量Ｍｗ３００００〜５０００００ｇ／モルおよびＫ値４０〜１５０を示し、この場合、これは、２５℃で１質量％濃度の水性溶液中で、ｐＨ値７で測定されたものであり、ｂ）１〜５０質量％の錯形成剤、この場合、この錯形成剤は、ニトリロ三酢酸、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸およびグリシン−Ｎ，Ｎ−二酢酸誘導体、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−二酢酸、イミノジスクシネート、ヒドロキシイミノジスクシネート、Ｓ，Ｓ−エチレンジアミンジスクシネートおよびアスパラギン酸二酢酸ならびに前記物質の塩から成る群から選択されており、ｃ）１〜１５質量％の弱発泡性の非イオン性界面活性剤、ｄ）０．１〜３０質量％の漂白剤および場合によっては漂白活性化剤、ｅ）０〜６０質量％の他のビルダー、ｆ）０〜８質量％の酵素、ｇ）０〜５０質量％の１種またはそれ以上の他の添加剤、たとえばアニオンまたは両イオン性界面活性剤、漂白触媒、アルカリ捕捉剤、腐食防止剤、消泡剤、染料、芳香剤、充填剤、有機溶剤および水、を含有し、その際、成分ａ）〜ｇ）の合計は１００質量％である、機械式食器洗浄のためのリン酸塩不含の洗剤調製物。 （もっと読む）

家庭内及びその周辺に使用するための拭取り布。本発明は、アレルゲンを低減させること及び制御することに役立つ、家庭用具に使用するための使い捨て拭取り布に関する。拭取り布は、アレルゲン制御剤を含む。拭取り布は、湿潤されていてもよい。拭取り布は、家庭内及びその周辺の布系表面のような表面を処理するために用いられ得る。本発明はまた、本発明の使い捨て拭取り布を利用して家庭内及びその周辺の表面を処理する方法に関する。
（もっと読む）

【課題】
製品表面の清浄化を行うとともに、被膜を形成して製品表面を保護する清浄コート剤において、被膜自体を汚れにくくするとともに、何時でも何処でも手軽に使用できるようにすること。
【解決手段】
変性シリコーンオイルと溶剤とを含有し、当該清浄コート剤１１が塗布される塗布面１２を清浄化するとともに、該塗布面１２上に被膜１４を形成する清浄コート剤１１であって、上記被膜の電荷平均を０にする、又は０に近づける荷電化剤を含有した清浄コート剤１１。 （もっと読む）