【課題】液浸露光の際にレジスト膜の欠陥発生を抑制でき、さらにラインエッジラフネス及びトップ形状に優れたレジストパターンを形成できる樹脂を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物の存在下でラジカル重合して得られる樹脂は、上記目的を達成できる。
ＨＳ−Ｌ¹−Ｒ¹−Ｒ² （Ｉ）
〔式（Ｉ）中、Ｌ¹は、２価のＣ_1-10アルカンジイル基等を表す。Ｒ¹は、２価のＣ_1-12脂肪族炭化水素基、又は２価のＣ_3-12脂環式炭化水素基等を表す。Ｒ²は、全水素原子がフッ素原子で置換されているＣ_3-36飽和脂環式炭化水素基、或いは全水素原子がフッ素原子又はフッ素原子及びヒドロキシ基で置換されている直鎖状又は分枝鎖状のＣ_1-16アルキル基等を表す。但しＲ¹及びＲ²の少なくとも１つは、環状有機基を含む。〕 （もっと読む）

【課題】高い解像度を示すレジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、Ｆ又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、２価飽和炭化水素基、該基中の−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置換されていてもよい；Ｙ^１は、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基、該脂肪族炭化水素基及び脂環式炭化水素基中の−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置換されていてもよい；Ｒ^ｐ１及びＲ^ｐ２は、アルキル基；Ｒ^ｐ３及びＲ^ｐ４は、Ｈ又はアルキル基；Ｘ^ｐ１は、−［ＣＨ_２］_ｐ１−、該基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、２価脂環式炭化水素基又は２価芳香族炭化水素基で置き換わっていてもよく、該基中のＨは、水酸基又は脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい；ｐ^１は１〜８の整数；Ａは重合性基を表す。］ （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つのモノエステル、少なくとも１つのジエステルまたはトリエステル、少なくとも１つのアルコール、少なくとも１つのケトン、および場合により少なくとも１つのテルペンを含む少なくとも１つの臭気遮蔽剤を有機スルフィドに添加することによる、有機スルフィドの臭気、より具体的にはアルキルスルフィドまたはジアルキルスルフィド、とりわけジメチルスルフィドの臭気、およびまたこれらの酸化物の臭気、とりわけジメチルスルホキシドの臭気の遮蔽に関する。 （もっと読む）

本発明は、¹⁸Fにより標識するのに適する新規なシクロアルキル化合物、このような化合物の製造方法、このような化合物を含む組成物、このような化合物又は組成物を含んで成るキット、及びそのような化合物の使用、陽電子照射トモグラフィー（PET）による診断的造影のための組成物又はキット、に関する。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度、形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ−ＢＢ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、Ｆ原子又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、単結合又は−［ＣＨ_２］_ｋ−、ｋは１〜１７の整数；Ｙ^１は脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基；Ａ^１及びＡ^２は脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基か、Ａ^１とＡ^２とが一緒になって環を形成してもよい；Ａｒ^１は（ｍ_４＋１）価の芳香族炭化水素基；Ｂ^１は、単結合又はアルキレン基；Ｂ^２は、酸の作用により脱離し得ない基を表し、かつ−ＯＸ^ａ基を有する脂環式炭化水素基；Ｘ^ａはＨ原子又は酸の作用により脱離し得る基；ｍ_１及びｍ_２は０〜２、ｍ_３は１〜３、ｍ_４は１〜３の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ−ＣＣ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、Ｆ原子又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、単結合又は−［ＣＨ_２］_ｋ−、ｋは１〜１７の整数；Ｙ^１は脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基；Ａ^１及びＡ^２は脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基か、Ａ^１とＡ^２とが一緒になって環を形成してもよい；Ａｒ^１は（ｍ_４＋１）価の芳香族炭化水素基；Ｂ^１は、単結合又はアルキレン基；Ｂ^２は酸の作用により脱離し得る基；ｍ_１及びｍ_２は０〜２、ｍ_３は１〜３、ｍ_４は１〜３の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れた解像度、マスクエラーファクター及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる塩及びレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ−ＡＡ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、Ｆ原子又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、単結合又は−［ＣＨ_２］_ｋ−、ｋは１〜１７の整数；Ｙ^１は脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基；Ａ^１及びＡ^２は脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基か、Ａ^１とＡ^２とが一緒になって環を形成してもよい；Ａｒ^１は（ｍ_４＋１）価の芳香族炭化水素基；Ｂ^１は、単結合又はアルキレン基；Ｂ^２は、酸の作用により脱離し得ない基を表し、かつ置換されていてもよいラクトン環を表す；ｍ_１及びｍ_２は０〜２、ｍ_３は１〜３、ｍ_４は１〜３の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】ハロゲン化スルホニル、特にこれらのハロゲン化物が重いハロゲン化物を用いて、スルホンアミドを得るための方法を提供する。
【解決手段】スルファニリド官能基の硫黄原子により担われる炭素上のパーハロゲン化スルファニリド合成のために有用な方法、および試薬。前記パーフルオロアルカンスルホニル化方法は、求核性原子が窒素である求核性試薬と、重いスルホニルハロゲン化物、有利には塩化スルホニル、およびπ結合との共鳴を有するメタロイド原子を含む有機塩基を、連続的または同時の添加により、含む試薬とを接触させることからなる段階を含むこと、および前記スルホニルの有機部分が、硫黄により担われる炭素上に、パーハロゲン化、有利にはパーフルオロ化される。有機化学に対する中間体合成に応用可能である。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン化物イオンがフリーのスルホニウム塩の製造方法を提供する。
【解決手段】対アニオンとして、スルホン酸アニオンを有するスルホニウム化合物と、スルホンイミド塩とを接触・混合させることにより、下記一般式（５）：


で表されるスルホニウム塩を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】感度に優れ、高分子前駆体の種類を問わず、露光部と未露光部とで大きな溶解性コントラストが得られる感光性樹脂組成物及びその様な感光性樹脂組成物に利用可能な光潜在性樹脂硬化促進剤を提供する。
【解決手段】塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体、及び、下記式（１）で表わされ且つアミド結合を形成可能なＮＨ基を１つ有する２級アミン及び／又は複素環式化合物を電磁波の照射と加熱により発生する光潜在性樹脂硬化促進剤を含有する、感光性樹脂組成物である。


（各符号は、明細書中で定義したとおりである。） （もっと読む）

【課題】感度、解像力、パターン形状、ラインウィズスラフネス、ブリッジマージン、倒れマージン、残膜率に優れるレジストパターン形成方法、それに用いる現像液及びネガ型化学増幅型レジスト組成物、並びに該パターン形成方法により形成されるレジストパターンの提供。
【解決手段】架橋反応によりネガ化する、ネガ型化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成する工程（１）、該膜を露光する工程（２）、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程（４）をこの順番で有することを特徴とする、レジストパターンの形成方法、それに用いる現像液及びネガ型化学増幅型レジスト組成物、並びに該パターン形成方法により形成されるレジストパターン。 （もっと読む）

【課題】ｉ線に高光感応性でカチオン重合性化合物に高相溶性のスルホニウム塩の提供。
【解決手段】式(1)


〔R¹R⁶はアルキル，-OH，アルコキシ，アルキルカルボニル,アリールカルボニル，アルコキシカルボニル，アリールオキシカルボニル，アリールチオカルボニル，アシロキシ，アリールチオ，アルキルチオ，アリール，複素環式炭化水素，アリールオキシ，アルキルスルフィニル，アリールスルフィニル，アルキルスルホニル，アリールスルホニル，ヒドロキシ(ポリ)アルキレンオキシ，アミノ，-CN，-NO₂又はハロゲン，Xは(Rf)_bPF_6-b^-,R⁷_cBY_4-c,R⁷_cGaY_4-c^-,(R⁸SO₂)₃C（Yはハロゲン，Rfはフッ置換アルキル，R⁷は置換フェニル，R⁸はC1-20アルキル，C1-20パーフルオロアルキル，C6-20アリール，bは1-5，cは1-4）〕のスルホニウム塩。 （もっと読む）

【課題】レジスト溶剤及び樹脂に対する溶解性（相溶性）が十分高く、保存安定性が良好であり、ＰＥＤ安定性があり、焦点深度がより広く、感度が良好であり、特に解像性とパターンプロファイル形状に優れた化学増幅型レジスト材料を与える化学増幅型レジスト材料用として有効な新規スルホン酸塩と光酸発生剤及びこれを用いたレジスト材料、フォトマスクブランク、並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（２）で示されるスルホン酸塩。
Ｒ^１−ＣＯＯＣ(ＣＦ_３）_２−ＣＨ₂ＳＯ₃^-Ｍ⁺ （２）
（式中、Ｒ^１はヘテロ原子を含んでもよい炭素数１〜５０の直鎖状、分岐状又は環状の一価の炭化水素基を示す。Ｍ^＋はカチオンを示す。） （もっと読む）

【課題】例えば窒素酸化物還元用として有用な新規な尿素水を提供する。
【解決手段】キレート剤を含有し且つカルシウムイオンと亜鉛イオンと鉛イオンの合計濃度が０．００５〜０．５ｐｐｍである尿素水。本発明の好ましい態様において、キレート剤はアミノカルボン酸系化合物または重合リン酸系化合物である。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、ラインエッジラフネス性能、パターン倒れ性能、現像欠陥性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射によりノルボルニル構造を有する特定の酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）樹脂側鎖に連結基を介してラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】優れた形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができる化学増幅型フォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】２３℃における水への溶解度が０．１％以下である酸発生剤と、樹脂とを含有する液浸露光用化学増幅型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 工業的にゼオライトを製造する際の鋳型化合物として、簡便な製法を用いて容易に得られるＮ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアダマンタンアンモニウム塩を提供する。
【解決手段】 本発明のＮ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−アダマンタンアンモニウム塩は、
下記式（１）
【化１】


で表されるＮ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−アダマンタンアンモニウムメチルカーボネートである。 （もっと読む）

【課題】発生する塩基の強度が高く、エポキシ系化合物等に適用した場合には、塩基発生反応が連鎖的に行われ、反応効率に優れる塩基発生剤及び当該塩基発生剤を含有する感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
本発明の塩基発生剤は、所定のカルボン酸と、アルカリ金属またはアルカリ土類金属、アミジン類またはイミダゾール類、グアニジン類またはホスファゼン誘導体からなるカルボン酸塩であるので、光によって脱炭酸し、空気中の水の作用により強アルカリを発生する等により塩基性が高く、反応効率が優れる。また、塩基反応性化合物とともに感光性樹脂組成物を構成した場合にあっては、塩基発生剤から発生する塩基とエポキシ系化合物等との反応が連鎖的に進行し、室温レベルでも硬化が速やかに実施されて硬化が十分になされる感光性樹脂組成物となるので、例えば、高感度の光硬化材料やレジスト材料等に好適に用いることができる。 （もっと読む）

本出願は、ａ）少なくともブタノールを含有する混合物を製造するために再生可能な出発物質を発酵させ、必要に応じて精製する工程；ｂ）ブタノールを脱水してブテンを得る工程；ｃ）ブタンを転化してイソブテンを得る工程；ｄ）ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドを製造するために過酸化水素とイソブテンを反応させる工程；およびｅ）ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドを単離する工程を含む、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドを製造する方法に関する。本発明はまた、再生可能な資源の炭素原子を含有するｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、前記ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドを含有する組成物、およびさらに重合開始剤としてのこれらの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】新規重合体の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される末端修飾重合体。


（式中、Ｒ¹及びＲ²は１価の有機基を示すか、又はＲ¹とＲ²が結合して隣接する炭素原子と共に環構造を形成してもよい。Ｒ⁴は水素原子またはメチル基であり、Ｒ⁵は１価の有機基を示す。Ｒ⁶は１価の有機基を示す。Ｒは水素原子又は保護基を表す。ｌは１〜１０の数を示し、ｍは１０〜１０００の数を示し、ｎは１〜５の数を示す。） （もっと読む）