【課題】２００〜５００ｎｍの波長の光を感光して効率よく触媒活性の高い塩基を発生させることができる光塩基発生剤の提供。
【解決手段】例えばＮ−（Ｎ’−（（１−（４，５−ジメトキシ−２−ニトロフェニル）エトキシ）カルボニル）アミノプロピル）−Ｎ−メチルアセトアミドあるいはＮ−（Ｎ’−（４，５−ジメトキシ−２−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノプロピル）−６−ヘプタンラクタムの様な特定のジアミン誘導体であって、光照射によりアミジンを発生させる。 （もっと読む）

【課題】優れた光学分割性能を有する光学異性体用分離剤を提供することを課題とする。
【解決手段】多孔質担体に光学活性な多孔性金属−有機構造体を担持した光学異性体用分離剤により課題を解決する。また、上記光学活性な多孔性金属−有機構造体は、特定のビナフタレンジカルボン酸を配位子として含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】現像性が高い光酸発生剤及び硬化性が高いカチオン重合開始剤を提供することにあり、また、これらを用いたレジスト組成物及びカチオン重合性組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される芳香族スルホニウム塩化合物を光酸発生剤又はカチオン重合開始剤として用いる。


（式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰は、無置換の若しくは置換基を有する炭素原子数１〜１８のアルキル基等を表し、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁷は、無置換の若しくは置換基を有する炭素原子数１〜１８のアルキル基等を表し、Ｒ¹⁸は、無置換の若しくは置換基を有する炭素原子数１〜１８のアルキル基等を表し、Ｘ₁^-は１価の陰イオンを表す。） （もっと読む）

本発明は、固相ペプチド合成により製造されるペプチドを精製するために用いることができる化合物に関する。さらに、本発明は、本発明による化合物を用いて固相ペプチド合成により製造されるペプチドを精製する方法に関する。
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【課題】フォトリソグラフィー法での加熱硬化の際にパターンが球面化せず、平坦なパターンを製造できるポジ型感光性組成物を提供すること。
【解決手段】バインダー樹脂、キノンジアジド化合物、硬化剤、式（Ｉ）で表される熱酸発生剤、色素及び溶剤を含有するポジ型感光性組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹⁰¹〜Ｒ¹⁰³は、互いに独立に、Ｃ_1-10炭化水素基を示す。但しＲ¹⁰¹〜Ｒ¹⁰³のうち少なくとも１つは、Ｃ_6-10アリール基である。
Ｘ^-は、１価のアニオンを表す。
前記炭化水素基およびアリール基は、置換基を有していてもよい。なお前記炭化水素基及びアリール基の炭素数には、置換基の炭素数は含まれない。］ （もっと読む）

【課題】発生する塩基の強度が高く、エポキシ系化合物等に適用した場合には、塩基発生反応が連鎖的に行われ、反応効率に優れる新規な化合物、塩基発生剤及び当該塩基発生剤を含有する感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
本発明の塩基発生剤は、所定のカルボン酸と、アルカリ金属またはアルカリ土類金属、イミダゾール類、グアニジン類またはホスファゼン誘導体からなるカルボン酸塩であるので、光によって脱炭酸し、空気中の水の作用により強アルカリを発生する等により塩基性が高く、反応効率が優れる。また、塩基反応性化合物とともに感光性樹脂組成物を構成した場合にあっては、塩基発生剤から発生する塩基とエポキシ系化合物等との反応が連鎖的に進行し、室温レベルでも硬化が速やかに実施されて硬化が十分になされる感光性樹脂組成物となるので、例えば、高感度の光硬化材料やレジスト材料等に好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】低い蒸気圧を有する、高粘度の又は固体の有機金属前駆体のＤＬＩのための、改良された組成物の開発に関して、継続した必要性が未だ存在している。
【解決手段】次の（ａ）及び（ｂ）を含有する配合物：（ａ）一以上の配位子が、β−ジケトナート、β−ケトイミナート、β−ジケトエステラート、β−ジイミナート、アルキル、カルボニル、アルキルカルボニル、シクロペンタジエニル、ピロリル、アルコキシド、アミジナート、イミダゾリル、及びこれらの混合物からなる群より選択される金属−配位子錯体であって、その金属が元素周期表の２族〜１６族の元素から選択される、少なくとも一つの金属−配位子錯体；及び（ｂ）Ｒ^１Ｒ^２ＮＲ^３ＯＲ^４ＮＲ^５Ｒ^６、Ｒ^１ＯＲ^４ＮＲ^５Ｒ^６、Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２）_２ＮＲ^１、Ｒ^１Ｒ^２ＮＲ^３Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２）_２Ｏ、Ｒ^１Ｒ^２ＮＲ^３ＯＲ^４Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２）_２Ｏ、Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２）_２ＮＲ^１ＯＲ^２Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２）_２Ｏ及びこれらの混合からなる構造から選択されるアミノエーテルであって、Ｒ^１〜６は、Ｃ_１〜１０直鎖アルキル、Ｃ_１〜１０分岐鎖アルキル、Ｃ_１〜１０環状アルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１０芳香族、Ｃ_１〜１０アルキルアミン、Ｃ_１〜１０アルキルアミノアルキル、Ｃ_１〜１０エーテル、Ｃ_４〜Ｃ_１０環状エーテル、Ｃ_４〜Ｃ_１０環状アミノエーテル及びこれらの混合物からなる群より個々に選択されるアミノエーテル。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）：


（式中、Ｒは水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基である。）
で表されるアルコール性水酸基含有化合物。
【効果】本発明のアルコール性水酸基含有化合物は、有機樹脂やシリコーン樹脂を変性するための出発原料として有用であり、また、その製造方法によりかかるアルコール性水酸基含有化合物を収率よく製造することができる。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス、デプスオブフォーカスの性能が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】プロトンアクセプター性官能基を有し、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解してプロトンアクセプター性が低下、消失、又はプロトンアクセプター性から酸性に変化した化合物を発生する化合物（ＰＡ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記化合物（ＰＡ）のアセトニトリル溶媒中で測定した波長１９３ｎｍにおけるモル吸光係数εが、５５０００以下である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】優れた露光裕度を有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｃ１）で表される化合物をレジスト組成物中で使用すれば、広い露光裕度を達成できる［式（Ｃ１）中、Ｒ^c1は、式（１）で表される基であり；Ｒ^c3及びＲ^c4は、それぞれ独立に、水素原子又は脂肪族炭化水素基を表し；Ｒ^c5は、２価の有機基を表す。Ｒ^c2は、置換基を有していてもよいＣ_7-20アラルキル基を表す。］。
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【課題】高い光電変換効率を有し、かつ耐久性を有する有機光電変換素子、低温かつ大気圧下でｐ−ｉ−ｎ積層構造を有するバルクへテロジャンクション型の有機光電変換素子の製造方法、この有機光電変換素子を用いた太陽電池及び光アレイセンサを提供することにある。
【解決手段】陰極、陽極、及びｐ型半導体材料とｎ型半導体材料が混合されたバルクへテロジャンクション層を有する有機光電変換素子であって、前記陰極と陽極の間に、２座以上で金属と配位可能な配位子部分を分子内に２以上有する化合物（ａ）と、２価以上の金属イオン（ｂ）とを含有し、前記化合物（ａ）と金属イオン（ｂ）の配位によって形成された架橋構造を有する有機層を有することを特徴とする有機光電変換素子。 （もっと読む）

【課題】耐熱性の高い新規なアルコールとその好適な製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）で示される


（式（１）において、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基またはハロゲン基を示す。）ビシクロヘキシル構造を有する脂環式アルコール、および特定構造の芳香族アルデヒドを水素化することを特徴とする脂環式アルコールの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い解像度、良好な形状及び良好なラインエッジラフネスを示すレジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ−ＢＢ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれＦ又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、単結合又は２価の飽和炭化水素基、該基中のメチレン基は−Ｏ−、−ＣＯ−で置換されていてもよい；Ｙ^１は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基、かつこれらの基中のメチレン基は−Ｏ−、−ＣＯ−で置換されていてもよい；Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基等を表すかＡ^１とＡ^２とが一緒になって置換基を有していてもよい環を形成し；Ａｒ^１は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基；ｍ_１及びｍ_２は０〜２；ｍ_３は１〜３；ｍ_４は１〜３の整数、ただしｍ_１＋ｍ_２＋ｍ_３＝３を表す。］ （もっと読む）

【課題】解像度およびマスクエラーエンハンスメントファクターに優れた化学増幅型レジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ａ１）で表される塩を酸発生剤としてレジスト組成物に使用すれば、上記目的を達成できる［式（Ａ１）中、Ｚ⁺は有機カチオンを表す。Ｑ¹及びＱ²はフッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。Ｒ^a1は２価の環式の脂肪族炭化水素基等を表す。Ｒ^a2は式（ＩＩ−１）又は式（ＩＩ−２）で表される脱離基である。式（ＩＩ−１）及び式（ＩＩ−２）中、Ｒ^a3及びＲ^a4は水素原子又は脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ^a5は脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ^a6は２価の脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ^a7は脂肪族炭化水素基を表す。］。
（もっと読む）

【課題】良好な解像度を示すリソグラフィ用レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩の提供。
【解決手段】式（Ｉ−Ｂ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、Ｆ又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、単結合又は置換基を有していてもよい飽和炭化水素基；Ｙ^１は、２価の脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基等、該基に含まれるメチレン基はＯで置き換わっていてもよい；Ｙ^Ａは、置換基を有していてもよいビニル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基；Ｒ^ｅ１〜Ｒ^ｅ１３は、互いに独立に、Ｈ、ハロゲン原子又は置換基、ビニル基、（メタ）アクリロイル基を含まない；Ｚは単結合または２価の連結基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたパターンの解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる化合物及びそれを用いたレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ−Ｐｂ）で表される化合物。


［式中、Ｘ^Ｐｂは、単結合又は−Ｏ−；Ｒ^Ｐｂは、単結合、２価の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基、該脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子またはカルボニル基で置換されていてもよい；Ｙ^Ｐｂは重合性基；Ｚ^Ｐｂは有機基；Ｘ^Ｐｃは、単結合又はアルキレン基；Ｒ^Ｐｃは、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子またはカルボニル基で置換されていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】高い感度及び良好なラインエッジラフネスを示すフォトレジスト組成物を製造。
【解決手段】式（Ｉ−Ｐ）で表される塩。


［式（Ｉ−Ｐ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、独立して、Ｆ又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、単結合又は置換基を有していてもよい飽和炭化水素基表す。該基に含まれる−CH₂−基は-O-又は-CO-基で置換されていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により一般式（II）で表される酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（各符号は本明細書及び特許請求の範囲に記載の意味を有する。）
【化１】
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【課題】波長３６５ｎｍや４０５ｎｍの光に対する感度が高く、膜内部硬化性に優れた硬化膜を形成可能な重合性組成物を提供する。
【解決手段】芳香環および複素芳香環から選択される単環構造と、カルボニル基と直接結合したオキシム基を含んでなる脂肪族単環構造と、から形成された縮環構造を有するオキシム系重合開始剤、および、（Ｂ）重合性化合物を含有する重合性組成物である。 （もっと読む）

【課題】極微細パターンを形成可能なＥＵＶリソグラフィーにおいて、ＬＥＲ及びＬＷＲの低減が可能な分子性材料を基盤材料として含有するレジスト組成物であって、ＥＵＶ露光時でのアウトガスが低く、またエッチング耐性の高いレジスト膜を与えるレジスト組成物、およびこれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の置換基を特定の箇所に有するフラーレン誘導体、露光により酸を発生する酸発生剤、含窒素有機化合物、及び有機溶媒を含有するＥＵＶ（極紫外線）光露光用レジスト組成物、酸発生剤としてはオニウム塩系のものが好ましい。 （もっと読む）