【課題】比重が高く、かつ、淡色であるα−ＳＦ塩を効率的に得られる製造方法。
【解決手段】脂肪酸アルキルエステルにスルホン化ガスを接触させるスルホン化工程と、前記スルホン化工程で得られた生成物にアルカリ性物質を添加しｐＨ１．５〜４．０に調整して一次中和物を得る第一中和工程と、前記一次中和物を漂白して漂白物を得る漂白工程と、前記漂白物にアルカリ性物質を添加しｐＨ４．０〜７．０に調整して二次中和物を得る第二中和工程とを設けることよりなる。 （もっと読む）

【課題】工業的規模での製造に適した含フッ素アルキルスルホニルアミノエチル α−置換アクリレート類の製造方法およびその原料の含フッ素アルキルスルホニルアミノエタノールの製造方法を提供する。
【解決手段】アミノエタノールと含フッ素アルキルスルホン酸無水物を反応させ、含フッ素アルキルスルホニルアミノエタノールを得る（第１工程：スルホニルアミド化工程）。得られたフッ素アルキルスルホニルアミノエタノールを、α−置換アクリレート誘導体によりエステル化し、目的とする含フッ素アルキルスルホニルアミノエチル α−置換アクリレート類を得る（第２工程：エステル化工程）。本発明によれば、従来技術に比較して、高収率、高純度で、しかも操作性よく目的とする含フッ素アルキルスルホニルアミノエチル α−置換アクリレート類を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】医薬品、農薬、液晶及び高分子の原料として有用なモノスルホン酸エステルの製造方法の提供。
【解決手段】１，２−エタンジオール誘導体を、リチウム、ベリリウム、ホウ素、マグネシウム、アルミニウム、ケイ素、リン、カルシウム、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、ストロンチウム、イットリウム、ジルコニウム及びモリブデン等からなる群から選ばれる少なくとも一種の金属を含む金属触媒及び塩基の存在下、有機溶媒中で、一般式：Ｒ^２ＳＯ_２Ｘで表されるスルホン酸ハライドと反応させる、下記一般式（ＩＩ）：


で表されるモノスルホン酸エステルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】副生するジ塩及び無機硫酸塩の含有量が少ないα−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩含有組成物の製造に適したα−スルホ脂肪酸アルキルエステル含有組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記式（Ｉ）で表される脂肪酸アルキルエステルとスルホン化ガスとを接触させることにより脂肪酸アルキルエステルをスルホン化するスルホン化工程と、（Ｂ）該スルホン化工程の反応生成物を熟成する熟成工程とを含むα−スルホ脂肪酸アルキルエステル含有組成物の製造方法において、
（Ｃ）下記式（ＩＩ）で表されるアルキルベンゼン、下記式（ＩＩＩ）で表されるＣ１０−１８アルコール及び該Ｃ１０−１８アルコールのエチレンオキシド１〜１０モル付加物からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する添加液を、該スルホン化工程の反応生成物と該添加液との比が質量比にして１００／０．５〜１００／８の範囲になるように、（Ｂ）熟成工程前に該スルホン化工程の反応生成物に添加する工程を含むことを特徴とする、前記α−スルホ脂肪酸アルキルエステル含有組成物の製造方法。
ＲＣＨ₂ＣＯＯＲ' （Ｉ）
（式中Ｒは、炭素数４〜２０の直鎖ないし分岐アルキル基又はアルケニル基であり、Ｒ'は炭素数１〜６の直鎖ないし分岐アルキル基である。）
Ｒ^１−Ｃ₆Ｈ₅ （ＩＩ）
（式中Ｒ^１は、炭素数１〜２０の直鎖ないしは分岐のアルキル基である。）
Ｒ^２−ＯＨ （ＩＩＩ）
（式中Ｒ^２は、炭素数１０〜１８の直鎖又は分枝鎖のアルキル又はアルケニル基である。） （もっと読む）

【課題】医薬品、農薬、液晶及び高分子の原料として有用なモノスルホン酸エステルの製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）：
Ｒ^１−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２ＯＨ[式中、Ｒ^１は置換基を有していてもよいアリール基である。]で表される１，２−エタンジオール誘導体を、塩基及びスズ化合物存在下、炭化水素系溶媒中で、一般式：Ｒ^２ＳＯ_２Ｘ［式中、Ｒ^２は、置換基を有していてもよいアルキル基又はアリール基であり、Ｘはハロゲン原子である。］で表されるスルホン酸ハライドと反応させることを含む、下記一般式（ＩＩ）モノスルホン酸エステルの製造方法。
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【課題】ポリウレタン原料として有用なスルホン酸ジオールの製造方法の提供。
【解決手段】アルコール溶媒中、タウリンとオキシラン化合物とをアルカリ金属水酸化物存在下で反応させることを特徴とするスルホン酸ジオール化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン形状を形成することができるフォトレジスト組成物を与える化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［Ｙは、置換基を有していてもよい炭素数６〜１４のｎ価の芳香族炭化水素基を表す。Ｚは、炭素数１〜２０のハロゲン化脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１４のハロゲン化芳香族炭化水素基、ニトリル基、−ＣＸ_２−Ｒ^１基又は−ＣＸ_２−ＳＯ_２−Ｒ^１基を表す。Ｗは、カルボニルオキシ基、メチレンオキシ基又はメチレンオキシカルボニル基を表す。Ｒ^１は、炭素数１〜３０の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基、炭素数４〜１０のへテロ芳香族炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基を有する炭素数１〜２０のアルキル基または炭素数４〜１０のへテロ芳香族炭化水素基を有する炭素数１〜２０のアルキル基を表す。ｎは、１〜６の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】簡便な方法で収率が高く、フッ素含有量の少ないペルフルオロアルキルスルホン酸塩の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式ＲｆＳＯ_３・Ｍ（Ｒｆは炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基、Ｍは、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）で表されるペルフルオロアルキルスルホン酸塩類から選択された少なくとも１種の化合物に当該化合物を溶解可能な有機溶媒を加えて溶解液を生成し、前記溶解液にフッ素イオンの吸着能を有する吸着剤を添加することを特徴とするペルフルオロアルキルスルホン酸塩の製造方法を採用する。 （もっと読む）

本発明は、直鎖状アミン官能化ポリ（トリメチレンエーテル）組成物、およびこれらの組成物を製造する方法に関する。 （もっと読む）

（ｉ）硫化水素含有ガス流を、圧縮機で圧縮する工程、（ｉｉ）ジアルキルポリスルフィド、ジアルキルジスルフィド、及び少なくとも１つのアミンを含む混合物で、圧縮機を洗浄する工程を有する、硫化水素含有ガス流の圧縮方法；硫化水素含有ガス流の反応を含む、アルキルメルカプタン、ジアルキルジスルフィド、及びアルカンスルホン酸から成る群から選択される硫黄化合物の製造方法であって、前記硫化水素含有ガス流を、前記工程（ｉ）及び（ｉｉ）を含む方法により圧縮する前記製造方法；並びにジアルキルポリスルフィド、ジアルキルジスルフィド、及び少なくとも１つのアミンを含む混合物を、硫化水素含有ガス流の圧縮時に生じる硫黄堆積物の除去に用いる使用。
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光学活性化合物の調製のための接触法、および所望の製剤原料へのそれらのその後の変換。特に、この方法は、不斉接触還元および水素移動反応を使用する（Ｓ）−３−（１−ジメチルアミノ−エチル）−フェノールの調製に関するものであり、それによってリバスチグミンおよびリバスチグミン酒石酸水素塩などの製剤原料を形成する改良された経路を提供する。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^５は水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の有機基であり、Ｑ^５は単結合又は２価の連結基である。］で表される基をカチオン部に有する化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】半導体素子などの製造工程における微細加工技術、特にフォトリソグラフィーに適した化学増幅レジスト材料の一部である、光酸発生剤及びその中間体として有用な、アルコキシカルボニルフルオロアルカンスルホン酸塩類を、穏和な条件および簡便な操作で、収率良く、しかも高純度で提供する。
【解決手段】ハロフルオロアルカン酸エステル類を出発原料に用いて、これをアミンの存在下でスルフィン化（第１工程）した後、酸化（第２工程）することによって目的とするアルコキシカルボニルフルオロアルカンスルホン酸塩類を得る。さらにはこれを塩交換（第３工程）することによって、光酸発生剤として有用なアルコキシカルボニルフルオロアルカンスルホン酸オニウム塩類を得る。 （もっと読む）

【課題】解像性を向上させることができるレジスト組成物に関わる技術を提供する。
【解決手段】一般式（Ｋ−１）で示されることを特徴とする化合物；テトラシクロドデセンアルコールに、塩基触媒下、Ｒ^５−ＳＯ_２−Ｃｌ（Ｒ^５は炭素数１〜５のアルキル基、または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基である。）を反応させ、一般式（Ｋ−１）で示される化合物を得ることを特徴とする化合物の製造方法；前記化合物を構成単位として含む高分子化合物［式中、Ｒ^３〜Ｒ^４はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基を示し、Ｒ^５は炭素数１〜５のアルキル基、又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基をし、ａは１を示し、ｔは０又は１〜３の整数を示す。］。
[化１]
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【課題】環状化合物の生成を抑制でき、収率を上げることができ、併せて、低コストでスルホンアミド化合物を得ることができるスルホンアミド化合物の製造方法の提供。
【解決手段】スルホニルハライド基を有する有機化合物にアルカリ金属ヘキサメチルジシラザンを反応させる工程を備えるスルホンアミド化合物の製造方法。この場合、スルホニルハライド基を有する有機化合物の炭素数は１以上３以下が好ましく、反応温度は−１００℃以上０℃以下が好ましい。これにより、高収率でスルホンアミド化合物が得られる。 （もっと読む）

【課題】異性化等が起こらず、目的の構造の化合物を廉価に製造することが可能なエーテル構造を有するペルフルオロスルホン酸（ペルフルオロアルコキシペルフルオロアルキルスルホン酸）及びその誘導体並びにその原料化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】フッ化水素酸にＲ_Ｈ^２ＯＲ_Ｈ^１ＳＯ_２Ｆを加えて濃厚溶液（水素結合錯体）とし、そのまま、Ｆ_２ガスを用いる液相反応系に供給するか、Ｒ_Ｈ^２ＯＲ_Ｈ^１ＳＯ_２Ｃｌをフッ化水素酸に加えて、ＨＣｌを放出させることでＲ_Ｈ^１ＯＲ_Ｈ^２ＳＯ_２Ｆに変換し、これをそのまま、Ｆ_２ガスを用いる液相反応系に供給することによって、安全にフッ素化を行うことができ、異性化等が起こらず、目的の構造の化合物を廉価に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】取扱いに注意を要する塩素ガスを用いることなく、チオカーバメート化合物から芳香族スルホニルクロリドを製造する方法を提供する。
【解決手段】式（１）


で示されるチオカーバメート化合物とＮ−クロロスクシンイミドとを反応させ、式（２）


で示される芳香族スルホニルクロリドの製造方法。 （もっと読む）

本発明は一般式（Ｉ）：


（上式中、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びｎは、特許請求の範囲に規定されるとおりである）の置換スルホンアミドフェノキシベンズアミド化合物、上記化合物を含む医薬組成物及びコンビネーション、上記化合物の調製方法、ならびに、上記化合物又は組成物の過剰増殖性疾患及び／又は血管新生性疾患の治療のための単独剤としての、又は、他の活性成分との組み合わせでの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】オキシプロピレン基を含む硫酸エステル塩について、色相及び／又は匂いが大幅に改善された反応生成物を低コストで得ることができる硫酸エステル塩の製造方法を提供する。
【解決手段】オキシプロピレン基を含む特定の原料化合物を、温度制御流体を流通させることが可能な２つ以上の温度制御できるジャケット内に配置された反応管の内壁を流下させながら供給して該反応管の内壁に原料化合物の薄膜を形成させるとともに、該反応管内にＳＯ₃ガスを供給して原料化合物とＳＯ₃ガスとを反応させて硫酸化物を得る工程と、当該で得られた硫酸化物を中和する工程とを有する、特定の硫酸エステル塩の製造方法であって、前記２つ以上のジャケットが、原料化合物の流下方向の上流に配置された上流ジャケットと下流に配置された下流のジャケットを含み、これらを特定の条件で用いる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、入手が容易で製造しやすい原料を用い、高収率で−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＳＯ_２Ｆ基を有する化合物を得ることである。
【解決手段】−ＯＣＦ_２ＣＨＦＳＯ_２Ｆ基を有する化合物（２）を液相中でフッ素と反応させて、−ＯＣＦ_２ＣＨＦＳＯ_２Ｆ基が−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＳＯ_２Ｆ基にフッ素化された化合物を得ることを特徴とする、−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＳＯ_２Ｆ基を有する化合物（１）の製造方法。 （もっと読む）