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【課題】耐熱性に優れたスチレン系樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】クマリン系化合物単位25〜58.4質量%および芳香族ビニル化合物単位41.6〜75質量%からなり、数平均分子量が5000〜3000000であるクマリン系化合物−芳香族ビニル化合物共重合体の製造方法であって、クマリン系化合物および芳香族ビニル化合物を、ハロゲン化アルキルアルミニウム化合物などのルイス酸の存在下でラジカル重合する共重合するクマリン系化合物−芳香族ビニル化合物共重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示すレジスト材料用高分子化合物及び該高分子化合物をベース樹脂とする超LSI製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料として好適な化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が1,000〜500,000の範囲である高分子化合物。


(式中、R1は水素原子、フッ素原子、又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基又はフッ素化アルキル基であり、Xはメチレン基、酸素原子又は硫黄原子である。R2は水素原子又は酸不安定基を示す。mは1〜3の整数、nは1又は2であり、m+n=4、a=1である。) (もっと読む)


【課題】パターン画像を形成した場合に、該パターン画像上面の撥水性及び撥インク性を保持しつつ、該パターン画像と該パターン画像が形成される基板との密着性を良好に保つことができる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】含フッ素化合物と、開始剤と、エチレン性不飽和化合物とを少なくとも含む感光性樹脂組成物において、前記含フッ素化合物を(1)(a)少なくとも1つのトリフルオロメチル基を有し、フッ素原子の総数が7つ以上である繰り返し単位と、(b)アルコキシシリル基を有する繰り返し単位とを含む含フッ素化合物とする。 (もっと読む)


【課題】メタクリル酸メチル−スチレン共重合体の優れた機械的特性および光学的特性を損なうことなく、耐候性および低吸水性に優れた光学用透明樹脂を提供する。
【解決手段】MMA等のメタクリル酸アルキルエステル系単量体単位とスチレン等の芳香族ビニル系単量体単位とのモル比が45:55〜55:45であり、数平均分子量が5000〜300万であり、メタクリル酸アルキルエステル−芳香族ビニルの連鎖が90%以上であるメタクリル酸アルキルエステル−芳香族ビニル交互共重合体からなる光学用透明材料。 (もっと読む)


【課題】上層反射防止膜形成用樹脂及び上層反射防止膜形成用組成物並びにレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本上層反射防止膜形成用樹脂は、下式(1)及び下式(2)の繰り返し単位のうちの少なくとも一方を含み、且つアルカリ現像液に可溶である。
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【課題】リソグラフィーにおいて、定在波効果及びブロッブ欠陥を十分に低減することができ、且つアルカリ現像液に対する溶解性に優れた上層反射防止膜形成用組成物及びレジストパターン形成方法を提供する
【解決手段】本発明の上層反射防止膜形成用組成物は、アルカリ現像液に可溶であり、且つ芳香族基を有する重合体(A)と、感放射線性酸発生剤(B)及びスルホン酸残基を有する化合物(C)のうちの少なくとも一方と、を含有する。 (もっと読む)


【課題】形成したパターン画像上面の撥水性及び撥インク性を保持しつつ、該パターン画像と基板との密着性を良好に保つことができる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】1)開始剤と2)バインダーと3)エチレン性不飽和化合物とを含む樹脂組成物であって、(a)フッ素原子を3つ以上有する繰り返し単位と(b)下記一般式(B)で表される繰り返し単位とを有する含フッ素化合物とを更に含む樹脂組成物とする。


一般式(B)中、R21、R22はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表し、L21は単結合又は2価の有機連結基を表し、Xは塩素原子、臭素原子又は沃素原子を表し、Yはアリーレン基、2価のヘテロ環残基又はカルボニル基を表す。 (もっと読む)


【課題】シリカ及びカーボンブラックとの相互作用を高め、破壊特性、耐摩耗性、低発熱性を向上させ、かつ、良好な作業性を発揮し得るシリカ及び/又はカーボンブラック配合のゴム組成物及びそれを用いたタイヤを与えること。
【解決手段】有機金属型の活性部位を分子中に有する重合体の該活性部位にヒドロカルビルオキシシラン化合物を反応させて得られた変性重合体に、配合時に縮合促進剤を添加してなるゴム組成物であって、該ヒドロカルビルオキシシラン化合物が特定のものからなることを特徴とするゴム組成物及びそれを用いたタイヤである。 (もっと読む)


【課題】無機微粒子が樹脂マトリックス中に均一に分散され、離型性が良好で、優れた透明性と高い屈折率を有する有機無機複合材料を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)−(SiR12−O−)n−のシロキサン単位[R1、R2はアルキル基、パーフルオロアルキル基またはアリール基、nは5以上の整数を表す。]、一般式(2)−(−CF2−)m−フルオロアルキレン単位[mは1以上の整数を表す。]、一般式(3)−(CH2q−CH3[qは上の整数を表す。]のいずれかで表される単位構造を少なくとも一種有する熱可塑性樹脂中に数平均粒子サイズが1〜15nmの無機微粒子が分散している有機無機複合材料。 (もっと読む)


【課題】 水量が少ない場合においても良好な再汚染防止性能を有する洗浄剤用ビルダーおよび洗浄剤を提供することである。
【解決手段】 カルボキシル基含有単量体(a)を必須構成単量体とするポリマー(A)と塩基性窒素原子を有する複素環式化合物(B)との塩を含有する洗浄剤用ビルダー;該ビルダーと非イオン性界面活性剤(C)からなる洗浄剤。 (もっと読む)


【課題】短波長の露光光に対する反射率が低く、酸素プラズマやフッ化炭素系ガス等に対するエッチング耐性にも優れた下層膜を形成するための下層膜用組成物、及びこの下層膜用組成物を用いた多層レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト膜の下層に下層膜を形成するために用いられる下層膜用組成物に、下記一般式(1)で表される構成単位(A1)と、下記一般式(2)で表される構成単位(A2)とを含む共重合体を含有させる。


[式中、R、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rはナフチレン基又はアントリレン基を表す。] (もっと読む)


【課題】 特に50℃以上の高温保存や0℃以下の低温保存を繰り返し行う温度変化(ヒートショック試験)条件でのバインダーの密着性に優れたカーボンバインダーを提供すること。
【解決手段】 共役ジエン系化合物(a)と芳香族ビニル系化合物(b)とエチレン性不飽和カルボン酸系化合物(c)とを含有する重合性単量体類を、重合して得られるポリマー(I)と、酸化防止剤(II)とを含有したカーボンバインダーであって、前記ポリマー(I)が前記重合性単量体類の固形分に対して、乳化剤を0.5重量%以下使用して乳化重合させることで、高温保存と低温保存を繰り返して行う温度変化(ヒートショック試験)条件でのバインダーの電極への密着性を向上させることを特徴とするカーボンバインダー。 (もっと読む)


【課題】薄膜であってもイオン遮断性及びレジストの耐破壊性に優れ、基板上に反射防止膜が形成されていない場合にも、良好な感度及び解像度を有し、良好なパターンの形状、及びパターン変動幅の小さいレジスト膜を形成可能なイオンインプランテーション用感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】波長200nm以下のレーザーを用いたリソグラフィーに用いられ、アリール基を有さない(メタ)アクリル酸エステル類に由来する第一の繰り返し単位及び置換または非置換のアリール基を有する重合性単量体に由来する第二の繰り返し単位を有するとともに、酸解離性基を含み、酸解離性基の解離によりアルカリ可溶性となる樹脂(A)と、光酸発生剤(B)と、を含むイオンインプランテーション用感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


組成物は、アニオン開始剤の存在下での少なくとも一種の共役ジエンの重合に由来するベール化可能な重合体を含む。ベール化可能な重合体は、重合反応を停止させるための二酸化炭素の付加に由来するカルボキシラート停止部分を有する。該重合体は、35より大きなムーニーML1+4粘度と、X(ここで、Xは75cPより大きい)の溶液粘度とを有する。該重合体を含む組成物にイオノライザーを加えることで、該重合体の溶液粘度をXからY(ここで、Yは約0.3X〜約0.58Xである)に低下させる。ベール化可能な重合体は、耐衝撃性改質プラスチックとブレンドされ、向上したアイゾッド値及び光学的特性をもたらす。また、重合体、組成物及びイオノライザーの製造方法及び利用方法を記載する。 (もっと読む)


【課題】ハイパーブランチポリマーを簡便かつ安定的に大量合成すること。
【解決手段】金属触媒存在下、リビングラジカル重合可能なモノマーを重合することによりハイパーブランチポリマーの合成に際して、リビングラジカル重合によって合成されたハイパーブランチポリマーを含む反応溶液に溶解度パラメータが10.5以上である溶媒を混合して沈殿物を生成する沈殿物生成工程を行うようにした。これによって、吸着剤を用いることなく金属触媒、モノマーおよび副生物のオリゴマーなどの不純物を簡便に除去できるため、ハイパーブランチポリマーを簡便かつ安定的に大量合成することができる。 (もっと読む)


【課題】高感度、高解像度であり、焦点深度余裕が広く、光線透過率が高く、ディフェクトが少なく、十分なドライエッチング耐性を有するレジスト膜を形成できるレジスト組成物、レジスト用重合体および該レジスト組成物を用いる微細パターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式(1−1)で表される構成単位(A1)を有するレジスト用重合体を用いる。
[化1]

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本発明は、逆浸透を利用した新規の水の浄化方法及びシステムを提供する。本発明は特に、逆浸透処理システムへと供給される水を前処理するためのイオン交換樹脂及び吸収媒体を使用する方法及び水の浄化システムを提供する。前記前処理は膜表面及び経路での汚染、もしくは堆積または化学攻撃を減少させる。特に、平均細孔径1,000から500,000オングストローム及び破砕強度またはチャティロン値少なくとも24g/ビーズ(710μmビーズ径)を有するマクロ多孔性樹脂を使用する。
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【課題】レジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、焦点深度が広く、光線透過率が高く、現像時のディフェクトが少なく、レジスト膜の薄膜化に耐え得るドライエッチング耐性を有するレジスト用重合体を提供する。
【解決手段】式(1−1)で表される酸脱離性基が結合しているナフタレン骨格を有する構成単位A1を含むレジスト用重合体。なお、Yが酸脱離性基である。
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【課題】狭い分子量分布およびよく定義された特にテイラードポリマー構成を有し、このことは、熱硬化性組成物の増強された架橋密度および分散性を提供すること。
【解決手段】水性媒体中に分散された樹脂製相を含む熱硬化性組成物であって、該樹脂製相が、成分(a)少なくとも1つのラジカル移動可能な基を有する開始剤の存在下で、原子移動ラジカル重合によって調製された、オニウム塩の基を含有する非ゲル化活性水素基含有ポリマーと、(b)(a)の該活性水素基と反応性である少なくとも2つの官能基を有する硬化剤とを含有する、組成物が開示される。熱硬化性組成物の活性水素基含有ポリマー(これは、原子移動ラジカル重合によって調製される)は、このような組成物を提供し得る。本発明の熱硬化性組成物を使用する導電性基板をエレクトロコーティングする方法、およびこの方法によってコーティングされる基板がまた提供される。 (もっと読む)


【課題】成膜性や他のモノマーとの相溶性にも優れ、高密度な架橋膜形成が可能であり、高密度な架橋膜形成時にも優れた電荷輸送性を示すアクリル酸エステル化合物を提供する。
【解決手段】式(1)で表される連鎖重合性化合物。Z、Zは連鎖重合性基を表す。
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