【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少なく、また、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂および
（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】末端に官能基を有するビニル系重合体を、少ない触媒量で効果的に製造する方法を提供すること。
【解決手段】原子移動ラジカル重合系に重合性の低いアルケニル基を有するオレフィン化合物（Ａ）を添加して、末端にオレフィン化合物（Ａ）が付加したビニル系重合体（Ｉ）を製造する際、還元剤（Ｂ）を併用することを特徴とする、ビニル系重合体（Ｉ）の製造方法。また、オレフィン化合物（Ａ）が官能基を有するものであり、末端にオレフィン化合物（Ａ）が付加したビニル系重合体（Ｉ）が、末端に前記官能基を有するものである、上記製造方法。 （もっと読む）

本発明の対象は、ａ）１つまたはそれ以上のエチレン系不飽和オルガノモノマーとｂ）１つまたはそれ以上のシリコーンマクロマーとのラジカルにより開始される溶液重合により得ることができる、架橋可能な反応性のシリコーンオルガノコポリマーであり、この架橋可能な反応性のシリコーンオルガノコポリマーは、ｃ）少なくとも１個の他の官能基を含有する１つまたはそれ以上のエチレン系不飽和モノマーが有機溶剤または溶剤混合物中で共重合され、こうして得られたプレポリマーのモノマー単位ｃ）が１つまたはそれ以上の他のモノマーｃ）との重合体類似の反応によって、少なくとも１個の架橋可能な反応性基がシリコーンオルガノコポリマー中に導入されるように結合されることによって特徴付けられる。 （もっと読む）

本発明の対象は、ａ）１つまたはそれ以上のエチレン系不飽和モノマー２０〜７５質量％とｂ）一般式Ｒ¹_aＲ_3-aＳｉＯ（ＳｉＲ_２Ｏ）_nＲ_3-aＲ¹_a〔式中、Ｒは同じかまたは異なり、それぞれ１〜１８個のＣ原子を有する、一価の置換されていてよい、アルキル基またはアルコキシ基を表わし、Ｒ¹は重合可能な基を表わし、ａは０または１であり、およびｎは１０〜１０００である〕で示される１つまたはそれ以上のシリコーン２５〜８０質量％とのラジカルにより開始される溶液重合により得ることができ、この場合シリコーンｂ）の８５〜１００質量％は、２個まで重合可能な基を有し、この場合１個だけの重合可能な基を有するシリコーンｂ）は、２個の重合可能な基を有するシリコーンｂ）との混合物でのみ、５０／５０以下の質量比で使用され、この場合成分ａ）〜ｂ）のための質量％での記載は、それぞれ使用されるモノマーの全質量に対するものであり、かつ１００質量％になるまで付加される、３０質量％を上廻る固体含量を有する高度に固体を含有する溶液の形の、２５質量％以上のシリコーン含量を有する高度にシリコーンを含有するシリコーンオルガノコポリマーであり、この高度にシリコーンを含有するシリコーンオルガノコポリマーは、重合が溶剤または溶剤混合物中で行なわれたものであり、この場合シリコーンｂ）は、５質量％未満の溶解性を標準条件下で有することによって特徴付けられる。 （もっと読む）

本発明は、エチレン不飽和アルコキシシリル官能性シラン（Ｓ）１００重量部とエチレン不飽和コモノマー（Ｃ）０〜１００重量部の重合によって得られるアルコキシル官能性オリゴマー（Ａ）とその加水分解物および縮合物と、表面にオリゴマー（Ａ）を有するコア・シェル粒子（ＰＡ）と、複合材料（Ｋ）を生成するための粒子（ＰＡ）の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥が改善され、液浸露光時に於いて、水に対する追随性、およびラインエッジラフネスが良好なポジ型レジスト組成物に好適に用いることができる樹脂、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物、該樹脂を含有する保護膜形成組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該保護膜形成組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】フッ素原子及び珪素原子の内の少なくともいずれか一方と、−ＣＯＮＨＳＯ₂−基とを有する樹脂、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物、該樹脂を含有する保護膜形成組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該保護膜形成組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】比較的少ない紙料への添加量で、従って、製品の地合低下やコストアップの問題を引き起こすことなく、歩留性、濾水性を飛躍的に改善することができるポリマーよりなる製紙用添加剤を提供する。
【解決手段】カチオン性モノマーと親水性ノニオン性モノマーと構造修飾剤とを必須単量体として重合させて得られる構造修飾ポリマーを含む製紙用添加剤。この構造修飾ポリマーは、構造修飾剤を用いないこと以外は、該構造修飾ポリマーと同一組成で重合させて得られる非修飾ポリマーと比べて、高い溶液粘度を示すポリマーである。この製紙用添加剤を紙料に添加する工程と、前記工程を経た紙料を脱水し、乾燥させる工程とを含む紙および板紙の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
工業的に優位な不飽和カルボン酸変性ビニルアルコール系重合体の製造方法、およびそれを用いたガスバリア性膜を提供する。
【解決手段】
ビニルアルコール系重合体と不飽和カルボン酸化合物とを反応系に可溶な酸触媒、もしくは固体酸触媒の存在下に反応させることを特徴とする、少なくとも不飽和カルボン酸変性ビニルアルコール系重合体を含む溶液の製造方法、およびそれを用いたガスバリア性膜であり、その代表的な構成としては、（１）ビニルアルコール系重合体と不飽和カルボン酸化合物（イ）とを反応系に可溶な酸触媒の存在下に反応させ不飽和カルボン酸変性ビニルアルコール系重合体（ロ）を形成させる反応工程、 （２）陰イオン交換樹脂により酸性化合物のうち少なくとも酸触媒を除去するイオン交換工程の２工程からなる、 不飽和カルボン酸変性ビニルアルコール系重合体（ロ）を含む溶液（Ａ）の製造方法が挙げられる。 （もっと読む）

【課題】塗布液の保存安定性と硬化活性を両立させながら耐擦傷性と防汚性に優れた反射防止フィルムを提供すること。更には、そのような反射防止フィルムを用いた偏光板や画像表示装置を提供すること。
【解決手段】支持体上に、以下の成分を含む塗布組成物を塗設してなる低屈折率層を有する反射防止フイルム。（Ａ）主鎖が炭素原子のみからなり、含フッ素ビニルモノマー重合単位及び水酸基含有ビニルモノマー重合単位を、それぞれ少なくとも１種含有し、かつ該水酸基含有ビニルモノマー重合単位の含有率が、２０モル％を超える含フッ素ポリマー。但し、該ポリマーは主鎖にポリシロキサン構造を有さない、（Ｂ）水酸基と反応可能な架橋剤、（Ｃ）１分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物。 （もっと読む）

【課題】 新規なビニルアルコール／芳香族ビニル−ランダム共重合体、新規なビニルアルコール／ビニルエステル／芳香族ビニル−ランダム共重合体、およびそれらの新規な製造方法を提供する。
【解決手段】 ビニルシラン／芳香族ビニルをラジカル共重合し、得られた重合体を酸化する。またビニルアルコール／芳香族ビニル−ランダム共重合体をアシル化する。 （もっと読む）

【課題】架橋性シリル基を少なくとも１個有するビニル系重合体を主成分とするシーリング材と各種基材を良好に接着させるためのプライマー組成物を提供することを目的とし、特に、シリコーン系シーリング材（先打ち）に、ビニル系重合体を主成分とするシーリング材（後打ち）を打継ぐ際に、接着性の良好なプライマー組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）架橋性シリル基を少なくとも１個有するビニル系重合体、（Ｂ）シランカップリング剤、及び（Ｃ）シラノール縮合触媒を含有してなるプライマー組成物。 （もっと読む）

【課題】容易に低コストな重合方法で製造でき、防水性及び防湿性に優れ、上塗り剤のハジキを生じないアクリル系樹脂及びその樹脂を含有する組成物を提供する。
【解決手段】（ａ１）アルキル基の炭素数が１０〜１６であるアルキルアクリル酸エステル及び（ａ２）アルキル基の炭素数が１４〜１６であるアルキルメタクリル酸エステルから選択される少なくとも１種の（Ａ）アルキル（メタ）アクリル酸エステル：０．５〜２４重量部と、（ｂ１）スチレン系誘導体及び（ｂ２）アルキル基の炭素数が８以下であるアルキル（メタ）アクリル酸エステルを含む（Ｂ）エチレン性二重結合を有する単量体：７６〜９９．５重量部とを共重合して得られるアクリル系樹脂及びその樹脂を含む組成物である。共重合は、乳化重合で行うことが好ましく、その組成物は、無機質成形部材用シーラーとして好適に用いられる。 （もっと読む）

【課 題】ポリビニルアルコール系樹脂をはじめとする各種の樹脂に含まれる不純物を連続的に洗浄することができ、なおかつ少ない洗浄液量で目標とする不純物量にまで容易に不純物量を低減可能ならしめる、ポリビニルアルコール系樹脂その他の樹脂に適用可能な樹脂の洗浄方法を提供する。
【解決手段】固体状態の樹脂の集合体もしくは固体状態の樹脂を含むスラリーを傾斜型スクリューコンベヤ１の樹脂供給口２から供給して上方へ搬送しつつ、洗浄液を該傾斜スクリューコンベヤの洗浄液注入口５から流し入れて下部近傍を経由して洗浄液排出口６から排出することにより、前記樹脂中の不純物を除去することを特徴とする樹脂の洗浄方法。 （もっと読む）

本発明は、硬化または架橋ポリシロキサンおよびフッ素化ポリマーまたはオリゴマーを含む汚れ剥離組成物に関する。本発明は、また、海水に沈められる物品への適用のための汚れ剥離塗料における該汚れ剥離組成物の使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、分子インプリントポリマー、およびこの目的のための生産方法、さらにこの分子インプリントポリマーを用いて液体中の分解が容易でない化合物及び／又は有毒な化合物を選択的に処理する方法に関する。このタイプのポリマーおよび方法は、容易に生分解しない有害物質または有毒な化合物を、たとえば汚水から選択的に除去及び／又は分解するのに必要である。したがって、分解が容易でない且つ／又は有毒な化合物の少なくとも１種の選択的処理に好適な分子インプリントポリマーであって、モノマーから構成されたポリマーネットワークを有し、所定のサイズのキャビティを有し、このキャビティが所定の間隔で配置され、分解の容易でない且つ／又は有毒な化合物に対する特異的な結合サイト及び／又は結合パターンを有する分子インプリントポリマーが提供される。 （もっと読む）

【課題】電気絶縁性に優れた新規なエポキシ基含有重合体及びその製法の提供。
【解決手段】式（ｇ）又は式（ｈ）：


｛式中、R⁹＝エチレン性不飽和基｝で表される化合物のエチレン性不飽和結合部分を重合、又は他の１種以上のエチレン性不飽和結合を持つ化合物と共重合させる。 （もっと読む）

【課題】スチレン等の各種モノマーや溶剤に対して優れた耐性を有し、且つビニルエステル樹脂の硬化遅延を引き起こさないセメントモルタル用エマルジョンを提供すること。
【解決手段】ポリビニルアルコールを乳化安定剤として、（メタ）アクリル酸エステル単量体と、不飽和二重結合を有するカップリング剤とを重合させて得られることを特徴とするセメントモルタル用エマルジョン。不飽和二重結合を有するカップリング剤は、（メタ）アクリル酸エステル単量体１００質量部に対して、０．１〜２．５質量部重合させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】誘電率、金属拡散バリア性等の膜特性に優れた絶縁膜、およびそれを用いた電子デバイスを得るための膜形成用組成物の提供。
【解決手段】下記一般式で表される化合物の重合体を含有する膜形成用組成物。


式中、Ｑは、炭素原子で形成された環構造を含む基または炭素原子で形成されたカゴ構造を含む基を表す。ｌは１〜１０の整数を表し、ｍは０〜１０の整数を表し、ｎは１〜１０の整数を表す。Ｘは任意の置換基を表す。Ｙは炭素−炭素不飽和結合を有する基を表す。ＲはＯ，Ｎ，Ｓ，Ｐ等の原子を含有する官能基を有する基を表す。 （もっと読む）

【課題】十分な粘着特性を有し、端末剥がれを抑制可能な水分散型粘着剤組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の水分散型粘着剤接着剤は、（メタ）アクリル酸アルキルエステルを主成分とし、これと共重合可能な窒素含有単量体及びシラン系単量体を含む単量体混合物を重合して得られ、かつ酸残基を実質的に含まない重合体を含有することを特徴とする。これにより、多価金属イオンによる架橋反応を回避して溶剤不溶分の割合の上昇及び低分子量成分の染みだしを抑制することで、経時での粘着特性の低下、特に端末剥がれを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な絶縁膜を形成できる絶縁膜形成用組成物、さらには該組成物を用いて得られる絶縁膜および該絶縁膜を有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】カゴ型シルセスキオキサンをコア部にもち、重合性基を分岐末端にもつデンドリマー及び／またはその重合体と塗布溶剤を含む絶縁膜形成用組成物、および該膜形成組成物を用いて得られる絶縁膜、および該絶縁膜を有する電子デバイス。 （もっと読む）