【課題】
熱可塑性高分子成形体に充分な耐久性のある帯電防止性を付与でき、同時に熱可塑性高分子成形体等の再利用性、熱可塑性高分子成形体への塗布性、熱可塑性高分子成形体からの非転写性、熱可塑性高分子成形体同士の耐ブロッキング性及び熱可塑性高分子成形体の非タック性等、望まれる優れた特性を有する熱可塑性高分子用帯電防止剤、これを用いる熱可塑性高分子成形体の帯電防止方法、これを用いた帯電防止性熱可塑性高分子成形体を提供する。
【解決手段】
熱可塑性高分子用帯電防止剤として、分子中に、第四級アンモニウム塩基を有する特定の単量体から形成された構成単位と特定の架橋性単量体から形成された構成単位とを所定割合で有する、所定の数平均分子量のビニル共重合体を用いた。 （もっと読む）

【課題】 優れた解像性を有するとともに、発生する酸の強度が弱い酸発生剤を用いても良好にレジストパターンを解像できるポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（II）で表される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物。
【化１】


（式中、Ｒ^１は水素原子又は低級アルキル基である。Ｒ^３は炭素原子数１〜１５のアルキル基又は脂肪族環式基であって、エーテル結合、水酸基、カルボニル基、エステル基、およびアミノ基からなる群から選ばれる１種以上の置換基を有していてもよい。ｎ_２は０又は１〜３の整数を表す。） （もっと読む）

真空紫外領域における透明性に優れ、フォトレジスト用として、特にＦ２レジスト用として超微細パターンを形成することができる含フッ素重合体であって、炭素数２または３のエチレン性単量体であって少なくとも１個のフッ素原子を有する含フッ素エチレン性単量体（ｍ１）に由来する繰り返し単位（Ｍ１）および／または重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得るフッ素原子を含んでいてもよい単量体（ｍ２）に由来する繰り返し単位（Ｍ２）を有し、かつ重合体中に酸で反応する酸反応性基Ｙ^１または酸反応性基Ｙ^１に変換可能な基Ｙ^２を有する含フッ素重合体を得るに当たり、該含フッ素エチレン性単量体（ｍ１）および／または該重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体（ｍ２）をフッ素原子を有する重合開始剤を用いてラジカル重合することを特徴とする真空紫外光の透明性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】 式（１）及び（２）で示される繰り返し単位をそれぞれ１種以上含む重量平均分子量１，０００〜５０，０００の高分子化合物。
【化１】


［Ｒ¹、Ｒ³はＨ又はＣＨ₃、Ｒ⁴はアルキレン基、Ｒ²は式（Ｒ²−１）〜（Ｒ²−４）から選ばれるラクトン構造を有する置換基。
【化２】


（ＹはＣＨ₂又はＯ、ＹがＣＨ₂の場合、Ｒ⁵はＣＯ₂Ｒ⁷、ＹがＯの場合、Ｒ⁵はＨ又はＣＯ₂Ｒ⁷、Ｒ⁶はＨ又はアルキル基、Ｒ⁷はアルキル基又は該アルキル基の炭素−炭素結合間に酸素原子が挿入された基。）］
【効果】 本発明の高分子化合物は、レジスト材料、特に化学増幅型ポジ型レジスト材料のベース樹脂として使用されて、高い感度、解像性、ドライエッチング耐性を与えると共に、基板密着性が良好で、パターン側壁の荒れが防止されたレジストパターンを与える。 （もっと読む）

【課題】 優れた解像性を有し、かつ発生する酸の強度が弱い酸発生剤を用いても良好にレジストパターンを解像できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を製造するのに好適な化合物、該高分子化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される化合物。下記一般式（１１）で表される構成単位（ａ１）を含むことを特徴とする高分子化合物。該高分子化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物。該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。
【化１】
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金属含有溶液をスカベンジャー担体と接触させ、スカベンジャー担体を少なくとも幾分かの溶液中金属と結合させ、溶液中金属の量を減少させる溶液から金属を除去する方法において、スカベンジャー担体が、1,3-ケトエステル又は1,3-ケトアミド又はこれらの混合物から選択される担体に結合しているペンダント基を含み、多数のペンダント基はアミンと反応する、官能性化担体を含むことを特徴とする方法が提供される。式（1）（式中R¹は場合によっては置換されているヒドロカルビル基、過ハロゲン化ヒドロカルビル基又はヘテロシクリル基であり；XはO又はNR²であり（式中、O又はNR²の自由原子価は場合によってはリンカーを介して担体に結合している）；R²は水素、場合によっては置換されているヒドロカルビル基又はヘテロシクリル基である）の1,3--ケトエステルペンダント基又は1,3-ケトアミドペンダント基を含む官能性化担体を含有し、多数のペンダント基がアミンと反応するスカベンジャー担体も提供される。好ましいスカベンジャー担体としては、式（3）又は（4）（式中、R¹は場合によっては置換されているヒドロカルビル基、過ハロゲン化ヒドロカルビル基又はヘテロシクリル基であり；XはO又はNR²であり、ここでO又はNR²の自由原子価は場合によってはリンカーを介して結合しており；R²は水素、場合によっては置換されているヒドロカルビル基又はヘテロシクリル基であり；R⁴は置換基であり；R⁵は水素又は置換基であるか、又はR⁴及びR⁵は場合によっては置換されている複素環を形成するような態様で場合によっては結合している）又は互変異性体又はこれらの塩の3--イミノエステルペンダント基、3-イミノアミドペンダント基、2,3-エナミノエステルペンダント基又は2,3-エナミノアミドペンダント基を含むスカベンジャー担体を挙げることができる。
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【課題】重合性ナフトピラン誘導体、及び、この誘導体から得られるポリマー材料の提供。
【解決手段】本発明は、式（Ｉ）の新規化合物に関する：
【化１】


（式中、
・Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、同一又は異なって独立して次を表す：
− 水素
− ハロゲン
− ヒドロキシ又はヒドロキシアルキル基
− アルキル基
ａ、ｂ及びｃは独立して０〜５である、
・Ｒ_４は１、２又は３位で−ＣＨ_２−Ｏ−結合によりナフタレンユニットに結合していて、以下を表す：
− モノマーと（共）重合可能な２価の基、
− モノマーと（共）重合可能な１価の基、
・Ｒ_５は１、２又は３位でナフタレンユニットに結合していて、以下を表す：
− 水素
− ハロゲン
− ヒドロキシアルキル基
− アルキル基
ｅは０〜２の整数であり、ｄ＋ｅ＝３である）。
また、本発明は、これらの化合物の合成方法、及び、光色素性又は感光性ポリマーの製造におけるその使用にも関する。 （もっと読む）

求核性末端基を実質的に含まないポリヒドロキシ硬化性フルオロエラストマーを、少なくとも１つの側基を有するモノフェノールでグラフト化する。得られたグラフト化したフルオロエラストマーは、更なる改変、架橋のために、またはフルオロエラストマーの物理的諸特性（例えば、Ｔ_ｇ）を変更するために使用可能な側基を組み込みながら、優れた早期加硫特性を含めて元のエラストマーの特性の大半を保持する。 （もっと読む）

少なくとも１つの重合性基、例えば（メタ）アクリレートを有するマクロ環状オリゴマーの組成物。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも３つの型のモノマー単位を含むコポリマーに関し、この３つの型のモノマー単位は、温度感受性単位、親水性単位及び少なくとも１つのｐＨ感受性部分を含む疎水性単位からなり、疎水性モノマー単位は共重合可能な不飽和脂肪酸に由来する。
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重合性フッ素化ポリエーテルは、反応性フッ素化ポリエーテルのポリ（メタ）アクリル化合物へのマイケル型付加によって形成される。重合性フッ素化ポリエーテルは、複合物品の形成に使用され得る。 （もっと読む）

少なくとも１個の末端ペルフルオロポリエーテル基と少なくとも２基の（メタ）アクリル基を含む、フルオロポリエーテルポリ（メタ）アクリル化合物。好適なペルフルオロポリエーテル基には、Ｆ（ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ）_aＣＦ（ＣＦ₃）−基（ここでａは平均して１〜１５である）および少なくとも２基の（メタ）アクリル基を含む。 （もっと読む）

本発明は、ある種の硫黄含有基をポリマー、特にＲＡＦＴ重合方法によって作製されたものから除去するための方法を提供する。 （もっと読む）

本発明は、潤滑油組成物中での温度を低減するためのポリアルキルエステルの使用に関し、その際、ポリアルキルエステルはクロロホルム中２５℃で測定して５〜３０ｍｌ／ｇの比粘度η_sp/cを有する。 （もっと読む）

本発明の液状の未架橋UV硬化性マイケル付加樹脂および混合物は、これらを非常に有効な被覆物質にする性能特性を示し、これらの特性は、組成物に応じて大きく変性することができる。マイケル供与体および受容体は、I型および/またはII型光開始剤から構築することができ、並外れた光反応性および特性を有するUV硬化性被覆をつくるために開示された被覆組成物に含有させることができる。金属、プラスチック、木、紙およびガラスに対する優れた接着性を示す樹脂を製造することができる。これらは、広範囲の硬度、強靭性、可撓性、引張り強度、耐汚染性、耐スクラッチ性、耐衝撃性、耐溶剤性などを示す。ほとんどいかなる所望の被覆性能パラメータも原材料の構成単位の適正な選択によって達成することができる。 （もっと読む）

本発明は、硬化した際に少なくとも５０℃のガラス転移温度を有するフォトクロミック物品を形成する重合可能な組成物に関し、この組成物は：
（ａ）モノマー成分を含有する重合可能な組成物と、
（ｃ）フォトクロミック部分と、硬化時にモノマー成分と反応する少なくとも１つの基を有する少なくとも１つのオリゴマー基とを含むフォトクロミック染料モノマーとを含有し、ここで、オリゴマー基はアルキレンオキシおよびハロアルキレンオキシから選択される少なくとも７個のポリエーテルモノマーユニットを含む。 （もっと読む）

本発明は、生理学的に許容可能な媒体中に、光学的性質をもつ少なくとも1種の新規なモノマー化合物を含む少なくとも1種のポリマーを含む化粧品組成物又は医薬組成物に関する。本発明はまた、このような化粧品組成物をケラチン質(例えば、体若しくは顔の皮膚、唇、爪、睫毛、眉毛及び／又は毛髪)に適用することを含む、ケラチン質をメイクアップ又は治療する化粧方法にも関する。光学的性質をもつ新規なモノマー化合物、それらを含むポリマー及び組成物に光学的性質（特に蛍光性質)をもたせるために組成物にそれらのポリマーを使用することも開示されている。 （もっと読む）

本発明は、生理学的に許容可能な媒体中に、光学的特性を呈する少なくとも１種の新規なモノマー化合物を含む少なくとも１種のポリマーを含む化粧品組成物又は医薬組成物に関する。本発明はまた、前記化粧品組成物をケラチン質、特に、体若しくは顔の皮膚、唇、爪、睫毛、眉毛、及び／又は毛髪などに適用することを含む、ケラチン質をメイクアップ又はケアする化粧方法にも関する。光学的特性を呈する新規なモノマー化合物、前記化合物を含むポリマー、及び組成物に光学的特性、特に、蛍光又は蛍光増白特性をもたせるための組成物中におけるそれらの使用も開示している。 （もっと読む）

本発明は、電子ビーム（ＥＢ）加工によって処理可能な物質、例えば、軟包装用物質に関する。該物質は支持体、該支持体の少なくとも一部分上に存在するインク配合物及び該インク配合物の少なくとも一部分上に存在するラッカーを具有し、該インク配合物はインク並びにアクリレートエステル、ビニルエーテル、脂環式ジエポキシド及びポリオールから選択される少なくとも１種のモノマーを含有し、また、ラッカーはアクリレートエステル、ビニルエーテル、脂環式ジエポキシド及びポリオールから選択される少なくとも１種のモノマーを含有する。該物質をＥＢ処理するための加工装置は低電圧（例えば、１２５キロボルト以下）で作動させる。 （もっと読む）

本発明は、ａ）式（Ｉ）及び（ＩＩ）［式中、Ｒ^１は相互に無関係にそれぞれ、水素又はメチル基を表し、Ｒ^２は相互に無関係にそれぞれ、直鎖又は分枝鎖の脂肪族又は環式脂肪族基又は置換又は非置換の芳香族又はヘテロ芳香族基を表し、ｍ及びｎは相互に無関係にそれぞれ０以上の整数であり、ｍ＋ｎは＞０である］の化合物、ｂ）ポリメタクリレート及びアルキルジチオール又はポリチオール、有利にはＨＳ−Ｒ^３−ＳＨ（ＩＩＩ）［式中、Ｒ^３はＲ^２と同じ又は異なり、Ｒ^２に記載のものを表すことができる］の化合物から製造されるプレポリマー及びｃ）芳香族ビニル化合物を包含している、透明プラスチック製造用の混合物に関する。
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