【課題】磁気記録媒体の製造方法において良好なパターン転写を行うことが可能なパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を得る。
【解決手段】２−フェノキシエチルアクリレート及びベンジルアクリレートのうち少なくとも１つ、イソボルニルアクリレート、及び重合開始剤を含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を使用する。 （もっと読む）

本発明は、ａ）０．１〜９９．９質量％の一般式（Ｉ）の少なくとも１種の（メタ）アクリレート（式中、基Ｒ¹〜Ｒ⁶並びにｍは、明細書中に示される意味を取る）及びｂ）９９．９〜０．１質量％の前記ａ）とは異なりａ）と共重合可能な１種もしくは複数種のエチレン性不飽和モノマーとを有する混合物の重合によって得られる（メタ）アクリレートポリマーであって、前記成分ａ）及びｂ）は一緒に混合物の重合可能な成分の１００質量％となり、その際、ポリマーのＭＷが１０００ｇ／モル以上から５００００ｇ／モル以下までの範囲にある前記（メタ）アクリレートポリマーを記載している。得られるポリマーは、好ましくは懸濁重合又はパール重合の経路で製造でき、好ましくは反応性希釈剤中に溶かして、ポリマーに結合された光開始剤として又は紫外線硬化性の樹脂への添加剤として様々な使用分野のために、特に印刷インキのために用いられる。
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【課題】他層とのインターミキシングを防止できる樹脂組成物層を形成できるバイオチップを製造するための樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。
【解決手段】本バイオチップを製造するための樹脂組成物は、（Ａ）末端にシアノ基を有する重合体と（Ｂ）感放射線性酸発生剤とを含有する。また、本方法は、（ａ）酸に不安定な保護基を有する第１分子からなる第１分子層を基板上に結合させる工程、（ｂ）前記第１分子層上に本樹脂組成物をコーティングして樹脂組成物層を形成する工程、（ｃ）前記樹脂組成物層を露光及び熱処理して、露光された部分に対応する前記第１分子層を構成する前記第１分子から前記保護基を除去する工程、（ｄ）前記樹脂組成物層を除去する工程、及び、（ｆ）前記保護基が除去された第１分子に第２分子を結合させる工程、を含む。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンを不溶化して硬化させる性能（硬化性能）に優れ、その後の露光処理、現像液、及びポジ型感放射線性樹脂組成物に対して十分に安定な不溶化レジストパターンとすることが可能なレジストパターンコーティング剤を提供する。
【解決手段】ヒドロキシアクリルアニリドとヒドロキシメタクリルアニリドの少なくともいずれかの単量体に由来する構造単位を含む（Ｉ）樹脂と、（ＩＩ）ラジカル発生剤と、を含有するレジストパターンコーティング剤である。 （もっと読む）

【課題】現像液中においてカスの発生を抑制でき、感度、耐刷性、及び、現像性に優れた平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表される単量体単位を有するバインダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和化合物、及び、（Ｃ）重合開始剤を含有する感光層を有することを特徴とする平版印刷版原版。式（１）中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ²は酸素原子又はＮＲ³を表し、Ｒ³は水素原子又は炭素数１〜１０の一価の炭化水素基を表し、Ｌ¹は水素原子以外の構成原子の数が２〜１０である二価の連結基を表し、Ｌ²は水素原子以外の構成原子の数が２〜５０である（ｎ＋１）価の連結基を表し、Ａ−Ｈは酸解離定数（ｐＫａ）が１１以下である残基を表し、ｎは１〜５の整数を表す。
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【課題】光の利用効率が高く、露光感度（感度、細線密着性、解像度）を向上させ、生産性に優れた感光性積層体及び感光性フィルム、並びに、プリント基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性積層体は、光重合開始剤又は該光重合開始剤及び増感色素からなり３４５ｎｍ〜３８５ｎｍの波長に感光性のピークを有する重合開始成分（Ａ−１成分）、バインダー（Ｂ−1成分）、及び、１分子中に少なくとも一つの不飽和基を含有する重合性化合物（Ｃ−１成分）を含有する感光性樹脂組成物からなる第１の感光層と、光重合開始剤又は該光重合開始剤及び増感色素からなり３８６ｎｍ〜４３５ｎｍの波長に感光性のピークを有する重合開始成分（Ａ−２成分）、バインダー（Ｂ−２成分）、及び、１分子中に少なくとも一つの不飽和基を含有する重合性化合物（Ｃ−２成分）を含有する感光性樹脂組成物からなる第２の感光層と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
流動性、及び諸耐性に優れる安定なカラーフィルタ用着色組成物、並びに、コントラスト比が高いカラーフィルタを提供すること。
【解決手段】
前記課題は、酸性顔料、片末端領域に水酸基を有するビニル系重合体の水酸基と芳香族テトラカルボン酸ニ無水物の酸無水物基とを反応して得られた分散剤（Ａ）、３級アミノ基を有するビニル系樹脂（Ｂ）、有機溶剤（Ｃ）、活性エネルギー線重合性単量体（Ｄ）、活性エネルギー線重合開始剤（Ｅ）、及び、バインダー樹脂（Ｆ）を含有してなるカラーフィルタ用着色組成物によって解決することができる。 （もっと読む）

【課題】樹脂パターンの基板への密着性がより向上した感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物を用いて形成されたカラーフィルター、及び当該カラーフィルターを有する液晶表示ディスプレイを提供する。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、ブロックイソシアネート化合物から誘導される構成単位を有するポリマー（ａ）と、光重合性モノマー（ｂ）と、光重合開始剤（ｃ）と、を含有する。上記ブロックイソシアネート化合物は、ラクタム系、オキシム系、アルコール系、又はフェノール系ブロック基によりブロック化されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の構造を有する酸分解性の繰り返し単位を有し、酸の作用によりネガ現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、重量平均分子量が１,０００以上２０,０００未満であり、反応性グループを含まないバインダー樹脂１および重量平均分子量が２０,０００以上８０,０００未満であり、反応性グループを含むバインダー樹脂２を混合させたアルカリ可溶性バインダー樹脂を使用した半透過型構造のＬＣＤに適した感光性樹脂組成物に関するものである。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、高解像度の精細なパターンの形成が可能で且つ下部基板との密着性に優れた効果がある。 （もっと読む）

酸感応性、現像剤可溶性の下層反射防止膜組成物、その組成物の使用方法、および組成物から形成されるマイクロエレクトロニクス構造を提供する。組成物は好ましくは、溶剤系に溶解または分散された架橋可能なポリマーを含む。ポリマーは好ましくはアダマンチル基を有する繰り返しモノマー単位を含む。また組成物は、好ましくは、ポリマーと共に溶剤系中に分散または溶解しているビニルエーテル架橋剤のような架橋剤を含む。いくつかの実施態様では、組成物は光酸発生剤（ＰＡＧ）および／または消光剤を含むこともある。下層反射防止膜組成物は、熱的に架橋可能であるが、酸の存在下では脱架橋し、現像剤可溶性にさせることができる。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、ラインエッジラフネス性能、パターン倒れ性能、現像欠陥性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射によりノルボルニル構造を有する特定の酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）樹脂側鎖に連結基を介してラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、アルデヒド、特に、２−エチル−２−ヘキセナールの含有量を低減させたポリビニルアセタール及びこれを用いた熱現像性感光材料を提供することを課題とする。
【解決手段】
２−エチル−２−ヘキセナールの含有量が８０ｐｐｍ以下のポリビニルアセタール。このポリビニルアセタールは、例えば、酸触媒下で、３−ヒドロキシ−２−エチルヘキサナールの含有量が２０００ｐｐｍ以下のアルデヒドとポリビニルアルコールとをアセタール化反応させることで得られる。３−ヒドロキシ−２−エチルヘキサナールの含有量が２０００ｐｐｍ以下のアルデヒドは、蒸留によって高沸点成分を除去することにより得ることができる。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン形成性およびエッチング耐性を有するインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される重合性単量体（Ａｘ）と光重合開始剤を含有するインプリント用硬化性組成物。


（一般式（Ｉ）中、Ｒ¹は水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を表し、Ｚは芳香族基を含有する分子量１００以上の基を表す。但し、重合性単量体（Ａｘ）が２５℃において液体であるとき、２５℃における粘度が５００ｍＰａ・ｓ以下である。） （もっと読む）

本発明はパターンの複製方法に関し、前記方法は（ａ）複数の窪みまたは突起領域がその中に形成されているパターン付きテンプレート表面を備えたパターン付きテンプレートを準備する工程；（ｂ）（ペル）フルオロポリオキシアルキレン鎖〔鎖（Ｒ_ｆ）：鎖Ｒ_ｆの分子量は１０００を超え、３５００未満である〕および少なくとも２個の不飽和部分を含む少なくとも１種類の官能性ペルフルオロポリエーテル化合物（化合物（Ｅ））と、少なくとも１種類の光開始剤とを含むある体積量の硬化性ペルフルオロポリエーテル組成物（組成物（Ｃ））を、前記パターン付きテンプレート表面に接触させる工程；（ｃ）前記組成物（Ｃ）を紫外線に曝してパターン付きモールド表面を備えたモールドを形成させ、前記モールドを前記パターン付きテンプレートから分離する工程；（ｄ）前記パターン付きモールド表面を（プレ）ポリマー組成物（組成物（Ｐ））と接触させる工程；および（ｅ）前記組成物（Ｐ）を加工してパターン形成された表面を有する物品を形成させ、前記物品を前記モールドから分離する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光更には液浸露光によるパターニングにおいても、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）ラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び（Ｄ）酸の作用により脱離する基を有する低分子化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】パターン膜を形成する現像工程において、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても平坦性、光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れた高解像度のパターン膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、下記の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）からなり、各成分の構成割合が（Ａ）１００質量部に対して（Ｂ）５〜５０質量部及び（Ｃ）１〜４０質量部に設定されている。成分（Ａ）：フマル酸ジエステル単量体から誘導される構成単位（ａ１）、芳香族ビニル単量体から誘導される構成単位（ａ２）、α，β−不飽和カルボン酸単量体から誘導される構成単位（ａ３）及び（メタ）アクリル酸エステル単量体から誘導される構成単位（ａ４）からなる共重合体。成分（Ｂ）：キノンジアジド基を有する感光剤。成分（Ｃ）：２個以上のエポキシ基を有する硬化剤。 （もっと読む）

【課題】光硬化後に基板等から容易に除去することができ、かつ、光硬化物の強度や感度が良好な光インプリントリソグラフィによる樹脂パターン形成用光硬化性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】光重合性基を１分子中に１個のみ有する光重合性化合物の少なくとも１種からなる光重合性化合物（Ａ）と光重合開始剤（Ｂ）とを含有し、前記光硬化性組成物中に含まれる光重合性化合物の総量に対する前記光重合性化合物（Ａ）の割合が９９質量％以上であり、かつ下記式（１）により算出したガラス転移温度Ｔｇが３１３Ｋ以上である樹脂パターン形成用光硬化性組成物とする。
【数１】


Ｔｇ_ｉ；光重合性化合物（Ａ）として用いる光重合性基を１分子中に１個のみ有する光重合性化合物ｉのホモポリマーのガラス転移温度（Ｋ）
Ｗ_ｉ；光重合性化合物ｉの光重合性化合物（Ａ）に対する質量分率（％）
ｎ；光重合性化合物（Ａ）として用いる光重合性基を１分子中に１個のみ有する光重合性化合物の種類の数であり、１以上の整数 （もっと読む）

【課題】広い露光ラチチュード、広いデフォーカスラチチュード、良好なパターン形状を得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）、(II)及び(III)により表される各繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、及び（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有してなり、成分（Ｂ）の化合物として、少なくともカルボン酸を発生する非イオン性化合物を含む２種以上の化合物を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。
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【課題】 超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、およびアウトガス低減を同時に満足するポジ型レジスト組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解し、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大する構造を有する繰り返し単位（Ｂ）を有する樹脂（Ｐ）、および、製膜により膜表面に偏在し保護膜を形成する化合物（Ｕ）を含有することを特徴とする、感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）