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Fターム[4K024DA09]の内容

電気メッキ方法、物品 (25,708) | 前処理 (1,140) | ストライクメッキ (88)

Fターム[4K024DA09]に分類される特許

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【課題】銅めっき皮膜のエッチングファクターを向上させることにより、ファインピッチの微細回路を形成することが可能な銅張り積層板と銅張り積層板に成膜する銅めっき皮膜の成膜方法を提供する
【解決手段】1槽の銅めっき槽28または複数の銅めっき槽12、13、14中の銅めっき液に、PEGとSPSとJGBおよびクエン酸塩等のように、めっきされる銅に炭素および酸素を共析させる添加剤を添加し、該銅めっき液に樹脂フィルム1浸漬させることにより、樹脂フィルム1の少なくとも表面に、上流側の上記銅めっき層から下流側の上記めっき層に向けて、段階的または漸次、上記炭素および酸素の共析量が多くなる1層の銅めっき層8または複数層の銅めっき層4、5、6を形成する。 (もっと読む)


【課題】表面の曇りがなく、高温環境に放置された後の接触抵抗値上昇抑制及び変色抑制が図れ、耐熱性及びはんだ濡れ性に優れたSn被覆銅又は銅合金、及び効率のよいSn被覆銅又は銅合金の製造方法の提供。
【解決手段】最表面に存在する酸素原子(O)の存在形態をESCA(X線光電子分光装置)で分析した際に、酸素原子(O)の1s軌道の結合エネルギーのピークのトップが531eV以上532eV以下にあり、Sn層の厚みが0.4μm以上2.0μm以下であるSn被覆銅又は銅合金とする。 (もっと読む)


【課題】半導体基板の一方の面側にめっき処理をおこなう際に、めっき液の汚染を防ぎ、他方の面側に不均一なめっき層が析出するのを防ぎながら、一方の面側に低いコストで安定しためっき層を形成する。
【解決手段】半導体基板に上の一方の面に電極を形成し、他方の面に電極を形成し、他方の面の電極上に硬化型樹脂を塗布し、硬化型樹脂上にフィルムを貼り付けて硬化型樹脂を硬化させる。そのあと一方の面の電極上にめっき処理行い、めっき処理後、フィルムを硬化型樹脂とともに剥離する。 (もっと読む)


【課題】亜鉛含有金属又はマグネシウム含有金属素材に対して、安定して密着性の良いストライク銅めっき皮膜を形成できる銅めっき液であって、さらに人体や環境に対する悪影響が少ない銅めっき液を提供する。
【解決手段】
下記(1)及び(2)に示す成分を含有し、pHが10.5〜13の範囲内にあることを特徴とする、亜鉛含有金属又はマグネシウム含有金属用のストライク銅めっき液:
(1)酸化銅、水酸化銅、炭酸銅、蟻酸銅及び酢酸銅からなる群から選ばれた少なくとも一種の2価の銅化合物
(2)下記式:


[式中、M及びMは同一又は異なって、それぞれ水素又はアルカリ金属である。]で表される基を2個以上有する有機ホスホン酸類。 (もっと読む)


【課題】高温の加工温度に耐える剥離層上にピンホールの少ない極薄銅箔をめっきで設けてなるキャリア付き極薄銅箔と、該キャリア付き極薄銅箔を使用したプリント配線基板を提供する。
【解決手段】本発明のキャリア付き極薄銅箔の製造方法は、表面粗さRzが0.1μm〜5μmのキャリア箔表面に剥離層を製膜し、この剥離層上にキャリア箔側の表面粗さRzが0.1μm〜5μmとなるように極薄銅箔を形成し、形成した極薄銅箔のキャリア箔側表面凹凸の凸部より極薄銅箔側に、極薄銅箔の表面粗さRzに0.1μm〜0.2μmを加えた位置において、少なくとも剥離層表面の90%以上の面積が銅層で覆われるようにPを含有するCuまたはCu合金めっき浴にてストライクめっき層を製膜し、このストライクめっき層上に銅層を所定の厚さの極薄銅箔として形成する。 (もっと読む)


【課題】多極化の小型端子に適し、微摺動磨耗による電気接触抵抗の上昇を抑えることができ、高い電気接続信頼性を有する端子・コネクタ用導電材料及び嵌合型接続端子を提供する。
【解決手段】導電性を有する基材2と、基材2の上に形成されたSn又はSn合金からなるSnメッキ層5とを備えた端子・コネクタ用導電材料であって、Snメッキ層5の積層方向厚さが、0.1〜15.0μmの範囲内とされており、Snメッキ層5の表面には、Ag−Sn微粒子が凝集したAg−Sn合金層6が形成されており、Ag−Sn合金層6の平均厚さが0.002〜1.0μmの範囲内に設定されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】配線のエレクトロマイグレーション耐性を向上させる。
【解決手段】めっき法を用いてCu配線20を形成する際、まず第1の電流密度の条件で第1の平均粒径を有する第1の金属膜を形成し、次いで、第1の電流密度よりも高い第2の電流密度の条件で第1の平均粒径よりも大きい第2の平均粒径を有する第2の金属膜を形成する。その後、第1,第2の金属膜の上部に所定元素を導入し、導入後、第1,第2の金属膜上にキャップ膜を形成する。
【選択図】図5
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【課題】微粒子がめっき膜中に均一に分散されるとともに、ピンホール、ボイド、及びノジュールの発生が抑制される複合めっき膜の形成方法、並びに、ワイピング耐性、耐インク性、及び吐出安定性に優れたインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】高圧流体と、微粒子を含むめっき液とを混合して攪拌した混合流体に、めっきを施すべき被めっき体を接触させて複合めっき膜を形成する。インクジェット記録ヘッドを製造する場合、ノズルプレート11のインク吐出側とは反対側の面にめっき用保護膜14を形成し、好ましくは、超臨界二酸化炭素と、撥液性微粒子及び界面活性剤を含むめっき液とを混合して攪拌した混合流体にノズルプレートを接触させてインク吐出側の面に複合めっき膜16を形成する。めっき後、ノズルプレートからめっき用保護膜を除去する。 (もっと読む)


【課題】 多色射出成形等により得られた複合成形体の樹脂部分がめっきされており、めっきに起因する損傷がない複合成形体とその製造方法の提供。
【解決手段】 熱可塑性樹脂を含む熱可塑性樹脂組成物からなる成形体と熱可塑性エラストマーからなる成形体を有する、多色射出成形等により得られた複合成形体であって、前記熱可塑性樹脂組成物からなる成形体の露出面が、クロム酸浴によるエッチングを使用しないめっき法でめっきされているものである、めっき面を有する複合成形体。 (もっと読む)


【課題】銅を主成分とする部材の被覆表面の組成を工夫してウィスカの発生を防止できるようにすると共に、高信頼度のフレキシブル配線接続用の端子部品等を構成できるようにする。
【解決手段】銅を主成分とする端子母材1と、端子母材1に電解めっきされたAg組成濃度3乃至7wt%、Cu組成濃度0.3乃至0.7wt%及び残Sn組成のSn−Ag−Cu合金のめっき皮膜3とを備え、めっき皮膜3は、所定の熱処理によって当該めっき皮膜3の表面に析出されたAg又は当該Agを主成分とする化合物を有するものである。この構成によって、FPCコネクタ端子10の表面に析出されるAg又はAgを主成分とする化合物が、例えば、当該FPCコネクタ端子10の全面積の2%以上を占有するものである。従って、Ag又は当該Agを主成分とする化合物がバリアとなってウィスカの発生を防止できるようになる。 (もっと読む)


【課題】ロジウムめっき物と同等の硬度、接触抵抗、色調などの特性を有するめっき物を、ロジウムめっき物よりも経済的に提供することを目的とする。
【解決手段】基材上に、電気めっきにより形成されてなるルテニウムとパラジウムとの合金のめっき膜を有するルテニウム−パラジウム合金めっき物であって、該めっき膜がルテニウムが35重量%以上、65重量%以下、残部がパラジウムからなることを特徴とするルテニウム−パラジウム合金めっき物。 (もっと読む)


【課題】 無接着剤フレキシブルラミネートの密着力の指標である初期密着力を低下させることなく加熱エージング後(150°C、大気中に168時間放置された後)の密着力を高めることを課題とする。
【解決手段】ポリイミド樹脂フィルムの両面又は片面に無電解ニッケルめっき層を形成し、その表層に無電解銅めっき又は電気銅めっきにより導電性皮膜を形成する金属被覆ポリイミド樹脂基板の製造方法において、上記無電解ニッケルめっきに先立って、ポリイミド樹脂基板に紫外線を照射した後、酸性溶液に浸漬する処理、触媒付与処理を施し、その後、無電解ニッケルめっき層を形成することを特徴とする金属被覆ポリイミド樹脂基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】燃料電池用セパレータの製造方法において、耐食性をより向上させることである。
【解決手段】隣設する燃料電池用セル10を分離する燃料電池用セパレータ22の製造方法であって、金属材料で構成されたセパレータ基体24に金ストライクめっきを施し、これによって厚み10nm〜200nmの第1金めっき層を形成する。また、金ストライクめっきによる第1金めっき層上に、さらに金めっきを施し、第2金めっき層を形成することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】マグネシウム合金素材の表面にめっきを施すにあたり、その前処理において表面の汚れ等の介在物を完全に除去した状態でめっき処理に臨むため、めっき皮膜の密着性が良好となりめっき膨れを確実に防止できるマグネシウム合金素材のめっき方法及びそのめっき製品を提供する。
【解決手段】めっき工程の前において、マグネシウム合金素材に前処理とともに施す陽極酸化工程に続いて、その陽極酸化皮膜を除去するエッチング工程と、それに後続するデスマット工程と、それに後続する金属置換工程とからなるめっき前処理工程を施すことを特徴とする。
【効果】マグネシウム合金素材の表面にめっきを施す場合に、その前処理において表面の汚れないし介在物を完全に除去した状態でめっき処理に臨むため、めっき皮膜の密着性が良好となりめっき膨れを防止できる。 (もっと読む)


【課題】プレス加工時等の加工性を良好に保ちつつ、接点の繰り返し開閉動作においても銀被覆層が剥離せず、かつ長期間の使用においても接触抵抗の上昇が抑えられて長寿命の可動接点が得られ、さらに製品の歩留まりの飛躍的な向上を図ることができる、可動接点用銀被覆複合材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】可動接点用銀被覆複合材料100は、鉄またはニッケルを主成分とする合金からなる基材110と基材110の表面の少なくとも一部に形成されたニッケル、コバルト、ニッケル合金およびコバルト合金の何れか1つからなる下地層120と、下地層120の上に形成された銅または銅合金からなる中間層130と、中間層130の上に形成された銀または銀合金からなる最表層140とを備え、下地層120と中間層130との密着性を高めるために、両者の界面に凹凸150が形成されている。 (もっと読む)


【課題】プレス加工時等の加工性を良好に保ちつつ、接点の繰り返し開閉動作においても銀被覆層が剥離せず、かつ長期間の使用においても接触抵抗の上昇が抑えられて長寿命の可動接点が得られる、可動接点用銀被覆複合材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】可動接点用銀被覆複合材料100は、鉄またはニッケルを主成分とする合金からなる基材110と、基材110の表面の少なくとも一部に形成されたニッケル、コバルト、ニッケル合金およびコバルト合金の何れか1つからなる下地層120と、下地層120の上に形成された銅または銅合金からなる中間層130と、中間層130の上に形成された銀または銀合金からなる最表層140とを備え、下地層120が厚さ0.04μm以下となっている。 (もっと読む)


【課題】マスクベルトのようなマスク部材を使用して被めっき材の一部にめっきを施す場合にめっき膜厚の均一性を向上させることができる、めっき方法およびその装置を提供する。
【解決手段】搬送される被めっき材としての帯板状の条材20の両面のめっきを施さない部分(非めっき領域)に一対の無端環状マスクベルト22を順次密着させて覆いながら、連続的に条材20に向けてめっき液を流して、条材20の一部にめっきを施す際に、条材20の搬送方向と逆方向に所定の角度だけ傾けて、好ましくは条材の搬送方向と逆方向から15°〜50°だけ傾けて、条材20に向けてめっき液を流す。 (もっと読む)


【課題】 オゾン、空気中の水分に対して優れた耐久性を有し、画像形成装置の耐用期間全般にわたって、感光体ドラム表面を安定的に帯電させることができ、しかも製造コストの低いコロナ電極を備える帯電装置を提供する。
【解決手段】 帯電装置24に用いられるグリッド電極56であって、表面に金めっき層を設け、その金めっき層に加圧ローラによる加圧加工を施す。 (もっと読む)


【課題】ランニングにおいて析出効率の低下がなく、金皮膜が硬質で金純度が99.9%以上である金皮膜が得られる電解金めっき液を提供することである。また、上記電解金めっき液を用いることにより、ワイヤーボンディングパッド及びコンタクト接合部が同一の金皮膜である電子部品を提供すること。
【解決手段】シアン化金塩を金源とし、下記式(1)で示されるアミン化合物及び下記式(3)で示される複素環式化合物を含有していることを特徴とする電解金めっき液。
N−(R−NH)−H (1)
[式(1)中、Rは置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキレン基、アリーレン基若しくはアルキレンアリーレン基を示し、nは1以上の自然数である。]


[式(3)中、Nを含む環は、環中にNを2個以上有する複素環を示し、該複素環中の炭素原子には置換基が結合していてもよい。] (もっと読む)


【課題】金属めっきにより、該めっき金属結晶粒が一方向に長く伸び、かつ耐熱耐酸化性金属基材表面と垂直な方向にほぼ(100)面の方向に配向させた耐熱耐酸化性金属−金属めっき複合基材及びその製造法を提供する。
【解決手段】耐熱耐酸化性金属基材1の表面に金属めっき層2が設けられ、金属めっき層2の結晶粒が一方向に長く伸び、かつ耐熱耐酸化性金属基材表面と垂直な方向にほぼ[100]方向に配向している金属めっき複合基材。 (もっと読む)


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