【課題】湿度の高い雰囲気中におかれても、レンズ基材の局所的変形を起こさず、優れた
耐擦傷性を持つプラスチックレンズ、およびそのような特性をレンズ基材に付与する多層
反射防止層を提供すること。
【解決手段】多層反射防止層３は、高屈折率層（３Ｈ１、３Ｈ２、３Ｈ３）と低屈折率層
（３Ｌ１、３Ｌ２、３Ｌ３、３Ｌ４）とを積層してなり、高屈折率層（３Ｈ１、３Ｈ２、
３Ｈ３）が粒界を有する。プラスチックレンズ１０は、レンズ基材１の上に多層反射防止
層３を備える。 （もっと読む）

【課題】 ボンドコート表面の微細構造を改良することにより耐久性を向上させたサーマルバリアコーティングおよびその適用方法を提供する。
【解決手段】 物品上にコーティングを適用する方法が、物品を用意し（ステップ１０）、この物品の少なくとも一つの表面上にボンドコート層を適用し（ステップ１２）、このボンドコート層上で少なくとも一つの金属を酸化させて（ステップ１４）、ボンドコート層の露出表面上に熱成長酸化物層を形成させ（ステップ１６）、このボンドコート層の上にサーマルバリアコーティング層を適用する（ステップ１８）ステップを備える。これにより熱膨張係数などの基体特性が改善され、優れた耐久性を持つコーティングが提供される。 （もっと読む）

【課題】摺動材において、相手材との摩擦を更に抑制して、耐摩耗性と密着性とをより向上させることである。
【解決手段】基材１２に積層され、基材１２と密着される金属層１４と、金属層１４に積層され、金属と炭素との組成比を、積層方向に対して、順次、炭素が多くなるようにして変えることにより、金属と炭素との組成比を傾斜させて形成される金属と炭素とが混合した第１層１６と、第１層１６に積層され、金属と炭素とを所定の組成比として形成することにより金属と炭素とが混合した第２層１８とを有する摺動材であって、第１層１６と第２層１８は、密度が２．２ｇ/ｃｍ^３から２．４ｇ/ｃｍ^３一定で形成される。金属は、Ｔｉ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｍｏ、ＷまたはＳｉであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】離型性と耐久性が高いコーティング膜を提供する
【解決手段】成膜対象物４ａ、４ｂの表面にクロムを注入し、クロム膜を形成した後、クロム膜の表面に白金イオンを注入し、その表面に白金薄膜を形成し、その表面に白金イオンを注入する。本発明ではクロムイオンと白金イオンの注入は、トリガ電圧によって注入装置３２₁、３２₂内でトリガ放電を発生させ、アーク放電を誘起させ、カソード電極からクロムや白金のイオンを放出させると共に、成膜対象物４ａ、４ｂにはアーク放電と同期して負のバイアス電圧をパルス的に印加する。注入層と薄膜との間の密着性が向上する。 （もっと読む）

【課題】生産性を高めることが可能な二層記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１１上に非磁性基板１１と平行な面内に磁化容易軸を有する軟磁性層１２を堆積する軟磁性層堆積段階と、軟磁性層１２上に非磁性基板１１に垂直な磁化容易軸を有する記録磁性層１３を堆積する記録磁性層堆積段階とを含む二層記録媒体の製造方法であって、軟磁性層堆積段階が、軟磁性層１２の比透磁率がイオンアシストのない状態の１．２倍以上となるイオンアシストありのスパッタリングにより軟磁性層１２を堆積する。 （もっと読む）

【課題】複数枚の非導電性の基板に対してバイアススパッタによる成膜を行う枚葉式の成膜装置において、生産性を維持したままで、良好にＤＣバイアスを印加することができるようにする。
【解決手段】非導電性の基板１を保持する基台６と、バイアス印加用端子１３を基板１上に成膜された導電性膜に接触させることによってこの導電性膜にバイアス電圧を印加するバイアス印加手段とを備える。バイアス印加用端子１３は、形状記憶合金等、温度に応じて形状が変化する部材によって形成されており、温度変化による変形によって、基台６上に保持された基板１に接離する。 （もっと読む）

【課題】樹脂基板上に高い密着性と緻密性を有する光学薄膜を成膜する。
【解決手段】成膜基板２３を基板ドーム２２に配置する。ＳｉＯからなる蒸着材料３４に電子銃３６から電子ビームを照射してこれを加熱し蒸発させると共に負極性の矩形直流電圧を基板ドームに印加した状態で３００ｎｍ以上の膜厚のＳｉＯ_Ｘ膜を形成する。続いて、ＺｒＯ_２等の蒸着材料を電子ビームで加熱すると共にイオンソース４０からイオンを供給することによりイオンアシスト効果を付与しＺｒＯ_２膜を形成する。以後、同様の工程で、必要な膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】切削寿命が長い切削工具およびその製造方法の提供
【解決手段】超硬材料で構成される金属焼結体表面に軟質粒子噴射による表面洗浄および表面形状加工処理を施した後、ドライコーテイング手法により硬質保護膜層を形成させる。硬質保護膜層は、金属炭化物、金属窒化物、金属酸化物またはこれらの複合化合物を主体とする被覆層であるのがよい。この切削工具は、例えば、ネジ切削用チェザーとして用いることができる。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高速で成膜でき、かつバッチ処理プロセスなしで透明薄膜を得ることができるスパッタ成膜方法を提供し、該スパッタ成膜方法により得られる反射防止膜を提供する。
【解決手段】ＣＯ_２及び／又はＣＯの反応性ガスの存在下で金属ターゲットをスパッタガスによりスパッタリングし、当該スパッタリング中の反応モードを酸化モードとして基板上に前記金属の酸化物からなる透明薄膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】多層薄膜付き積層体の製造において、実質的に単独の蒸発源による１回の蒸着により長尺基材表面に多層の薄膜が形成可能であり、また特にディスプレイ前面電磁波シールドフィルムとして好適かつ生産性の高い、多層薄膜付き積層体の製造方法および製造装置を提供すること。
【解決手段】真空中にて長尺の基材を走行させて金属および金属化合物からなる多層薄膜付き積層体を製造するに際し、蒸発源と冷却ドラムの間の空間に仕切板を設けて基材走行方向に複数の蒸着領域を形成し、蒸着領域のうち少なくとも一つの領域に反応性ガスを供給する。また、仕切板の位置を調整することにより多層薄膜の構造を制御する。 （もっと読む）

【課題】ＰＶＤによって皮膜を形成した摺動材料において、耐摩耗性および耐疲労性を損なうことなく、初期なじみ性および異物埋収性を向上させる。
【解決手段】摺動材料には、融点が３５０℃以上および３５０℃未満の互いに相分離する２種以上の金属を基材３上にＰＶＤにより被着して皮膜５が形成されている。この皮膜５上に固体潤滑剤板状結晶粒子９を積層して被覆層６を形成する。この場合、被覆層６を構成する固体潤滑剤板状結晶粒子９は、（００ｌ）面が皮膜５の表面と平行で、当該（００ｌ）面の配向指数が９０％以上となるように積層する。 （もっと読む）

【課題】基材に対し、蒸着薄膜より擦傷性が強く、一方でＤＭＳ薄膜より膜硬度が低く、かつ蒸着法より膜硬度が高い薄膜を、マグネトロン・スパッタ法により成膜し、輝点が非常に少ない反射防止積層体、該反射防止積層体を有する光学機能性フィルタおよび光学表示装置を提供するを目的とする。
【解決手段】基材上に、反射防止層を有する反射防止積層体であって、
該反射防止層の物理膜厚が１００ｎｍ以上であり、かつ反射防止積層体の押し込み硬度が、押し込み深さ１００ｎｍの押し込み試験に対し、１１ＧＰａ以上〜１５ＧＰａ以下であることを特徴とする反射防止積層体とする。 （もっと読む）

【課題】水分や酸素や炭酸ガスなどによる劣化、またはアルカリ金属やアルカリ土類金属などの不純物の拡散による劣化を抑えることが可能なバリア性の高い薄膜であり、且つ、安全衛生上問題なく、透光性の高い薄膜の成膜装置およびその成膜装置で薄膜がコーティングされた製品の提供を課題とする。加えて、環境に優しい生分解性材料を使用可能な製品範囲を広げるとともに品質保持期間も延長させることも課題とする。
【解決手段】包装フィルム１０５の内面にＡｌＮ_ＸＯ_Ｙ膜１０６、またはＡｌ_ＸＮ_Ｙ膜の単層またはこれらの積層を形成（コーティング）することを特徴とする。これらの単層または積層は、透光性が高く、水分や酸素や炭酸ガスのバリア性向上、耐熱性、及び機械的強度を向上させることができる。また、生分解性材料を包装フィルムとして用いた場合、使用可能な製品範囲を広げるとともに品質保持期間も延長させることができる。 （もっと読む）

本発明の対象は、コンポーネントを摩耗から防護する層物質、コンポーネントの摩耗防護コーティングのための新たな種類の方法、ならびに、この層物質を本発明の方法によりコンポーネント表面へ塗布することを可能にする装置である。この層物質は、低い摩擦係数と、滑り摩擦に対する非常に高い耐性とを有する、硬質物質化合物と遊離メタロイドからなる多相材料である。この方法は、化合物の両方の成分が物理的な蒸発源によって生成される、多相材料の反応性の析出である。方法を実施するために必要な設備は、特別な仕方で配置された少なくとも２つの物理的な蒸発源と、特別な回転テーブルとを含んでいる。
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【課題】成膜の良好なモニタリングが可能な真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置は、真空槽３０と、基板が設置された基板ドーム２２と、蒸着材料が設置された坩堝と、基板ドーム２２に設置されたモニター部２１と、を備える。モニター部２１は、モニターガラス４１と、モニター窓４２と、投光部４３と、ミラー４４と、受光部４７等から構成されており、モニター窓４２を介してモニターガラス４１に形成された膜の厚さを投光部４３から光を照射し、各波長における吸収率光の強度の変化量を測定することにより計測する。モニター窓４２は、断面形状が台形状に形成されているため、開口４２ａ内にイオン、蒸着材料が導かれやすい。従って、モニターガラス４１は良好に成膜される。モニターガラス４１へ良好に成膜が生じることにより、基板ドームに設置された基板の成膜の良好なモニタリングが可能となる。 （もっと読む）

基板支持部材に収容される基板上に薄膜を成長させるためのヒータが、複数の発熱体を有する。基板を収容する基板支持部材は、複数の発熱体によって少なくとも部分的に囲まれている。複数の発熱体のうちの少なくとも２が、基板支持部材に外部からのアクセスを与えるように、互いに移動可能である。発熱体のうちの１つ又は別の酸素ポケット部材に酸素ポケットが形成されており、この酸素ポケットを基板上でフィルムを酸化させるために使用する。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ法を使用してイリジウム下地上に直径１インチ（２.５ｃｍ）以上の大面積化された高品質のダイヤモンドをエピタキシャル成長させることができるエピタキシャルダイヤモンド膜下地基板およびその製造方法並びにこのエピタキシャルダイヤモンド膜下地基板により製造されるエピタキシャルダイヤモンド膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】単結晶酸化マグネシウム（ＭｇＯ）または単結晶サファイア（α-Ａl₂Ｏ₃）基板上に、真空蒸着法またはスパッタリング法によりイリジウム（Ｉｒ）膜をエピタキシャル成長により成膜し、この成膜されたイリジウム（Ｉｒ）下地の表面へ、イオンを含む直流プラズマを暴露することによりエピタキシャルダイヤモンド核を形成するバイアス核発生処理を施す。 （もっと読む）

【課題】被処理体の表面を高精度かつ確実に処理することができ、処理能力を高めることができる表面処理装置及びそれによって表面処理される光学素子成形用型を提供すること。
【解決手段】表面処理装置１は、真空チャンバ（真空容器）２と、筒状の絶縁物を介してトリガー電極と接続されたターゲットと、ターゲットの周囲にアーク放電を誘起させるアーク電極とを有し、アーク放電によって生じるターゲットイオンを含むプラズマ８をターゲットの先端方向に放出する蒸着源１０と、光学素子成形用型母材（被処理体）１１を載置する支持台１２と、蒸着源１０から放出されるプラズマ８の進行方向が、支持台１２の近傍にて中心軸線Ｃ方向となるように偏向させる偏向部１３と、蒸着源１０と支持台１２との間に配され、偏向部１３によって偏向されたプラズマ８の輸送経路上のみに開口部２０Ａが形成された遮蔽板２０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法により形成される膜のウエハ面内の膜厚分布の均一性を向上させることのできる技術を提供する。
【解決手段】コリメータ１１５の本体１１６を中央部から周辺部にかけて徐徐に薄くして、本体１１６に設けられる多数個の制御孔１１７のアスペクト比をコリメータ１１５の中央から外側にかけて連続的に小さくする。このコリメータ１１５をウエハとターゲットとの間に設置し、３００℃以上に加熱されたウエハの上に膜厚１０ｎｍ程度のコバルト膜を堆積し、続いてコバルト膜の上に窒化シリコン膜を堆積した後、シリサイド反応によりコバルトダイシリサイド層を形成する。 （もっと読む）

【課題】基板への蒸着粒子堆積量のずれを補正可能な補正機構の、蒸発源とのマッチング性や取り扱い利便性を改善させた真空蒸着装置および基板蒸着方法を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置１００は、内部１０ｅを減圧可能な真空槽１０と、真空槽１０内に配置され、蒸着粒子を基板に向けて飛散させる蒸発源１１ａ、１１ｂと、真空槽１０内の基板１２を回転可能な基板回転機構２２と、蒸発源１１ａ、１１ｂの蒸発ポイントＰと基板１２との間の偏倚量に相関する、基板１２への蒸着粒子堆積量のずれを補正する補正部材３１を有する補正機構３０と、を備え、蒸着粒子が蒸発ポイントＰから基板１２に向けて飛散する間、補正部材３１は、蒸着粒子が通過する気流領域Ａ、Ｂ内を揺動する装置である。 （もっと読む）