【課題】膜中の鉛量を低減することで、高湿中の駆動耐久性を得ることができる圧電体膜、圧電素子および液体吐出装置を提供する。
【解決手段】多数の柱状結晶からなる柱状結晶構造を有し、下記式（Ｐ）で表されるペロブスカイト型酸化物を主成分とすることを特徴とする圧電体膜。
Ｐｂ_ａＡ_ｂ［（Ｚｒ_ｃＴｉ_１−ｃ）_１−ｄＢ_ｄ］Ｏ_ｅ・・・（Ｐ）
（式中Ｐｂ、ＡはＡサイト元素であり、Ｚｒ、ＴｉおよびＢはＢサイト元素である。ａ：鉛量、ｂ：Ａサイトドープ量、ｃ：Ｚｒ／Ｔｉ比、ｄ：Ｂサイトドープ量、ｅ：酸素量であり、ａ＜１、ａ＋ｂ＞１、０＜ｄ＜ｂである。ｅ＝３が標準であるが、ペロブスカイト構造を取り得る範囲内で基準値からずれてもよい。） （もっと読む）

【課題】本発明は、圧電体を用いた素子の特性と信頼性を向上させるものである。
【解決手段】本発明は、真空チャンバ内に一対のターゲットを対向させることで対向空間を設け、前記ターゲットの対向方向に対して略直交するように基板と鉛供給源を設置し、前記対向方向に沿って磁界を発生させるとともに、前記ターゲットに電圧を印加することでプラズマを発生させて前記基板に圧電体膜を形成するものであって、前記圧電体膜を形成する際、前記鉛供給源から鉛蒸気を前記対向空間に供給するとともに、前記真空チャンバ内の圧力を０．１３Ｐａ以下とすることを特徴とする圧電体膜の製造方法であり、圧電体素子の強誘電特性、圧電特性、焦電特性と信頼性を向上させるものである。 （もっと読む）

【課題】水蒸気透過率等が低く、ガスバリア性が良好な無機化合物膜（ガスバリア膜）及びその無機化合物膜を有するガスバリアフィルムを提供するとともに、その無機化合物膜を得るための蒸着源材料及びその蒸発源材料を用いた成膜方法を提供する。
【解決手段】エネルギーを受けて蒸発する成膜原料と、その成膜原料の蒸発を促進させる陽イオンを孔内に保持する多孔質材料とを有し、成膜原料が無機化合物である蒸着源材料により上記課題を解決した。このとき、イオンがナトリウムイオン、カリウムイオン等のアルカリ金属イオン及びアンモニウムイオン等の一価の陽イオンであり、多孔質材料がＭｅ_２／ｘＯ・Ａｌ_２Ｏ_３・ｍＳｉＯ_２・ｎＨ_２Ｏ（ＭｅはＸ価の陽イオン）で表されるゼオライトであり、イオンはゼオライトの１つの結晶格子の１つの空孔に１個保持されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】被処理材のプラズマダメージを低減できるプラズマ雰囲気下で、被処理材上に成膜原料を効率的に成膜できる成膜方法及び成膜装置を提供することにある。特にガスバリア膜の成膜方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】プラズマ雰囲気下でイオン化した成膜原料を被処理材１上に堆積させる成膜方法であって、磁力線２が被処理材１の成膜面３から離れる方向９に向く磁場環境を形成し、その磁場環境で被処理材１の成膜面３に成膜原料を堆積させる。このときの磁力線２の向きは、磁石のＮ極からＳ極に向かう磁力線の向きであって、プラズマを構成する荷電粒子４を成膜面３から離れる方向９にはね返す向きである。そうした磁力線２は、永久磁石又は電磁石のＮ極を成膜原料が供給される側に近い側に配置し、Ｓ極を遠い側に配置する等して実現できる。 （もっと読む）

【課題】圧電特性や誘電性の向上を図り、これらの基板面内での均一性に優れた圧電体素子、その製造方法、及び圧電体デバイスを提供する。
【解決手段】圧電体素子は、表面に酸化膜が形成された基板１と、密着層２と、下部電極層３と、（Ｎａ_ｘＫ_ｙＬｉ_ｚ）ＮｂＯ_３で表される圧電薄膜４を有し、圧電薄膜４が、擬立方晶、立方晶、正方晶、斜方晶、六方晶、単斜晶、三斜晶、もしくは斜方面体の結晶構造、または少なくとも一つの結晶構造が共存した状態を有しており、ある特定の軸に優先的に配向しており、圧電薄膜４の基板面内の格子面間隔ａと基板面外の基板法線方向の格子面間隔ｃとの結晶格子歪量ｃ／ａ、及び圧電定数、比誘電率、誘電損失のうち少なくとも一つの物理量の相対標準偏差が、ｃ／ａでは０．２％未満、圧電定数では４．３％以下、比誘電率では３．２％以下、あるいは誘電損失では１０．１％以下である。 （もっと読む）

【課題】 基材表面に位置する官能基がアミド化や窒化することを防ぎつつ、また酸素結合に頼ることなく層間密着力を向上させることを可能としたガスバリアフィルムの製造方法及び係る製造方法によるガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】 基材となるプラスチックフィルムの表面に対し、不活性ガス導入下において、気圧１×１０^−１〜１×１０^−３ｔｏｒｒという環境下にて予めプラズマ処理を施すプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程を実施した後に、その表面にガスバリア性を有するガスバリア層を積層してなるガスバリア層積層工程と、を備えてなる製造方法、及び該方法により得られるガスバリアフィルムとした。 （もっと読む）

【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第１酸化物粉末と第２酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、第１酸化物粉末がＣｅＯ₂粉末であって、第１酸化物粉末の第１酸化物純度が９８％以上であり、第２酸化物粉末がＭｇＯ又はＣａＯのいずれか１種の粉末、或いはＺｎＯ、ＭｇＯ及びＣａＯからなる群より選ばれた２種以上の混合粉末であって、第２酸化物粉末の第２酸化物純度が９８％以上であり、蒸着材が第１酸化物粒子と第２酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第１酸化物と第２酸化物との比率が５〜８５：９５〜１５であり、かつ、ペレットの塩基度が０．１以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】すぐれた耐欠損性と靭性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金焼結体からなる切削工具基体表面にＣｒ_1-ｘＡｌ_ｘＮ層（０．１≦ｘ≦０．６）からなる硬質被覆層を物理蒸着で形成した表面被覆切削工具において、Ｃｒ_1-ｘＡｌ_ｘＮ結晶粒を平均層厚と等しい高さを有する柱状晶組織とし、前記Ｃｒ_1-ｘＡｌ_ｘＮ層の水平断面における結晶粒組織を観察した場合の、粒径が１０〜１００ｎｍの結晶粒が占有する面積を測定面積のうちの９０％以上とし、かつ、電子線後方散乱回折装置で表面の結晶粒の結晶方位を測定した場合、隣り合う測定点との結晶方位の差が１５度以上となる結晶界面によって囲まれた直径０．２〜４μｍの区分が占有する面積を、測定された全体の面積のうち２０％以上とし、断続重切削加工において優れた耐欠損性と靭性を発揮させる。 （もっと読む）

【課題】単に機械的性質が高温で低下しないというだけでなく、大気中の加熱によって塑性硬さが成膜直後よりも向上するという優れた自己硬化性を有し、成膜後のアニール処理により、成膜硬さをコントロールでき、耐酸化性にも優れる加工工具用硬質保護膜を提供する。
【解決手段】Cr-Al-Nからなる窒化物相とBN相とが三次元的に混じり合う複合膜である加工工具用硬質保護膜。さらに、ＢＮ含有率が８〜２８（vol％）であるCr-Al-Nからなる窒化物相とBN相とが三次元的に混じり合う複合膜である加工工具用硬質保護膜。 （もっと読む）

【課題】良好なＸ線コントラスト、生体適合性、および耐腐食性を付与する十分な厚みの
放射線不透過性コーティングを有する医療装置を提供すること。
【解決手段】医療装置であって、層間剥離することなくこの医療装置の使用に固有の大き
な歪みに耐えることができる多孔性の放射線不透過性コーティングを備えている。ステン
トなどの医療装置の熱機械特性に悪影響を及ぼさないように、蒸着により医療装置にＴａ
コーティングを施す。このようなコーティングは、高い放射率を有するのが好ましい。こ
のようなコーティングは、概ね単斜晶系の被覆剤または低エネルギー被覆剤によって施さ
れる。 （もっと読む）

【課題】加熱などを必要とせず、また、製造時や使用環境においてガスを発生することなく、より強い強度で水晶が接合できるようにする接合方法を提供する。
【解決手段】スパッタ法により、水晶基板１０１の接合面に対する物質層１０２の形成、および水晶基板１１１の接合面に対する物質層１０２の形成を開始した後、０．２ｎｍ以上１ｎｍ未満の層厚の物質層１０２が各々形成された水晶基板１０１の接合面および水晶基板１１１の接合面とを、物質層１０２を介して着接する。物質層１０２の層厚が、１ｎｍになる前に、２つの基板の着接を行う。 （もっと読む）

【課題】大規模、均一かつ高品質のグラフェン膜およびその作成方法を提供する。
【解決手段】結晶質基板１００上に触媒薄膜１０１を形成し、この触媒薄膜を加熱処理して高秩序で選択的に配向した結晶質触媒薄膜を形成し、ガス状炭素源を加熱し触媒薄膜を冷却することで、触媒薄膜上にグラフェン膜１０２が形成される。前記触媒薄膜の触媒材料はＮｉ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｒｈ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｒｕ、Ｉｒ及びＲｅからなる群から選択された１つまたは複数の元素を含み、厚さは約１ｎｍから約２ｍｍの範囲である。 （もっと読む）

【課題】構成層の剥離や透明導電膜の劣化を防止することにより、長期にわたり優れた性能を発揮することが期待できる透明導電膜付ガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】環状ポリオレフィン系材料からなる基材１０の両主面に対し、それぞれガスバリア層２０Ａ、２０Ｂ、保護層３０Ａ、３０Ｂを順次積層してフィルム積層体２を構成する。保護層３０Ａ、３０Ｂはシロキサン系熱硬化性樹脂で構成する。ＡＰＣ層４０の両面にＩＴＯ膜５０Ａ、５０Ｂを積層して透明導電膜積層体３を構成する。このフィルム積層体２と透明導電膜積層体３とを積層して、透明導電膜付ガスバリアフィルム１を構成する。 （もっと読む）

【課題】断続重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ基超硬合金製工具基体表面に０．２〜２μｍの平均層厚のＣｒＡｌＮ層（但し、その組成式を（Ｃｒ_１−ＸＡｌ_Ｘ）Ｎで表わした場合、Ｘは、原子比で、０．１０〜０．７０が望ましい）からなる硬質被覆層を物理蒸着で形成した表面被覆切削工具において、ＣｒＡｌＮ層は、平均層厚と等しい高さを有し、かつ、工具基体表面に対して直立方向に成長した縦長平板状のＣｒＡｌＮ結晶粒からなり、さらに、前記ＣｒＡｌＮ層の表面から０．１μｍの深さの水平断面における結晶粒組織を観察した場合、短辺が５〜１００ｎｍ、アスペクト比が３以上である前記縦長平板状のＣｒＡｌＮ結晶粒の占める面積割合が、全水平断面積の３０％以上である。 （もっと読む）

【課題】リーク電流が少なく、且つ駆動による圧電定数の劣化が少ない圧電薄膜素子及び圧電薄膜デバイスを提供する。
【解決手段】基板１上に、下部電極２と、組成式（Ｋ_１−ｘＮａ_ｘ）ＮｂＯ_３で表されるアルカリニオブ酸化物系ペロブスカイト構造の圧電薄膜３と、上部電極４とを有する圧電薄膜素子において、（Ｋ_１−ｘＮａ_ｘ）ＮｂＯ_３で表される前記圧電薄膜３の組成比ｘが０.４≦ｘ≦０.７の範囲であり、Ｘ線回折測定での（００１）面のロッキングカーブの半値幅が０.５°以上２.５°以下の範囲である。 （もっと読む）

【課題】基材とガスバリア層との密着性が、従来よりも大幅に改善されたガスバリア性フィルムを、高い生産効率で提供する。
【解決手段】連続して走行する基材１０上にガスバリア層を形成するガスバリア性フィルムの製造方法であって、金属ロール電極１と、これに沿った円弧状の対向電極である接地電極２とを備えるＲＩＥ処理装置を用い、両電極１，２の間に、少なくとも酸化用ガスを含む1種類以上のガスと、気化した有機シリコン化合物とを導入する手段、及び処理空間内の圧力を３Ｐａ以上３５Ｐａ以下とし、電源周波数を３０ｋＨｚ以上４ＭＨｚ以下の高周波として、両電極１，２の間に、プラズマを発生させる手段により、基材１０の表面にプラズマ化学気相蒸着法により、厚さ３ｎｍ以上の中間密着層を形成する工程と、中間密着層の表面に、真空蒸着法によりガスバリア層を形成する工程とを備える製造方法。 （もっと読む）

【課題】
優れた酸素遮断性能、水蒸気遮断性能、耐水密着性を有する蒸着用二軸配向ポリエステルフィルムおよびガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】
上記課題は、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、ポリウレタン系樹脂（Ａ）を用いてなるアンカーコート層を有してなる蒸着用二軸配向ポリエステルフィルムであって、
該蒸着用二軸配向ポリエステルフィルムの示差走査熱量計測定で得られる結晶融解前の微小吸熱ピークが１８０℃以上２２０℃以下にあり、該ポリウレタン系樹脂（Ａ）がポリイソシアネート成分（Ａ１）と、ポリオール成分（Ａ２）を用いてなる樹脂であり、該ポリイソシアネート成分（Ａ１）が、芳香脂肪族ジイソシアネート（Ａ１Ａ）および／または脂環族ジイソシアネート（Ａ１Ｂ）を含み、該ポリオール成分（Ａ２）が、少なくともポリヒドロキシアルカン酸（Ａ２Ｃ）を含み、さらに、炭素数２〜６のアルカンポリオール（Ａ２Ａ）および／または炭素数２〜６のポリオキシアルキレングリコール（Ａ２Ｂ）含む蒸着用二軸配向ポリエステルフィルム、によって達成される。 （もっと読む）

【課題】膜表面に発現した光触媒作用を速やかに消失させることができる光触媒性薄膜を表層に有する太陽電池モジュール用カバーを提供する。
【解決手段】太陽電池カバー１００は、透光性基板１０２と、発熱層としての透明導電膜１０４と、光触媒性薄膜１０６とを積層して構成され、光触媒性薄膜１０６は、成膜プロセス領域で、チタンで構成されたターゲットをスパッタし、膜原料物質を付着させるスパッタ工程と、反応プロセス領域で、少なくとも反応性ガスのプラズマを膜原料物質に接触させ第１の薄膜を生成する反応工程と、成膜プロセス領域と反応プロセス領域の間で第１の薄膜が形成された基板を移動させ、スパッタ工程及び反応工程を複数回繰り返し第２の薄膜を形成する薄膜堆積工程と、第２の薄膜に対し、不活性ガスを反応性ガスの導入流量と少なくとも同一流量で積極的に混合した混合ガスのプラズマを接触させるプラズマ後処理工程によって形成される。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性及び透明性に優れるガスバリア性フィルムの製造方法、ガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】本発明のガスバリア性フィルムの製造方法は、基材を準備する基材準備工程と、基材の上に酸窒化珪素を含有するガスバリア層を形成するガスバリア層形成工程とを有し、ガスバリア層形成工程におけるガスバリア層の形成を、キセノンガスを含む昇華ガスを用いたイオンプレーティング法を用いて行うようにすることにより、上記課題を解決する。本発明のガスバリア性フィルムは、ガスバリア層の組成を、Ｓｉを４２原子％以下、Ｎを３１原子％以上、Ｏを２７原子％以下、Ｃを２原子％以下とする（但し、Ｓｉ、Ｎ、Ｏ、Ｃそれぞれの含有率を合計すると１００原子％となる）ことにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 接着性、酸素、水蒸気バリア性、特に接着性に優れた蒸着用被覆フィルムを提供すること。
【解決手段】 高分子樹脂組成物からなる未延伸フィルムの上にウレタン結合基及びウレア結合基と酸基を有するポリウレタン樹脂組成物の水分散高分子樹脂（樹脂Ａ）、及び重合性不飽和基含有ジカルボン酸成分を全酸成分に対して２〜７モル％共重合して得られた共重合ポリエステル樹脂にラジカル重合性単量体がグラフト重合せしめられたグラフト重合体を含む樹脂（樹脂Ｂ）からなる厚みが０．０５〜０．５０μｍの被覆層が被覆された被覆フィルムであって、前記フィルムの１５０℃における横方向の熱収縮率が０〜−１％の範囲であり、かつ被覆層の水の接触角が５０°〜１００°の範囲であり、三次元表面粗さＳＲａが０．０４０μｍ以下であることを特徴とする被覆フィルム。 （もっと読む）