【課題】排ガス触媒用ナノ粒子担持方法及び排ガス触媒製造方法の提供。
【解決手段】同軸型真空アーク蒸着源１を用い、真空雰囲気中で、トリガ電極１３とカソード１２との間にパルス電圧を印加してトリガ放電を発生させ、カソード１２とアノード１１との間にコンデンサと直流電源とを接続し、３６０μＦ以上１０８０μＦ以下のコンデンサ容量にて、６０〜１００Ｖの直流放電電圧を印加して間欠的にアーク放電を誘起させ、生成される触媒金属の荷電粒子を、担体としてのアルミナ粉、ジルコニウム、又はランタノイドからなる金属の酸化物が混入されているアルミナ粉の表面に供給、蒸着せしめ、触媒金属ナノ粒子の担持された担体からなる触媒を得る。 （もっと読む）

【課題】長期間使用したときに雄ねじと雌ねじの圧力側フランク間の摩擦係数が低下しにくく、雄ねじと雌ねじの耐摩耗性に優れたラッシュアジャスタを提供する。
【解決手段】内周に雌ねじ１５を有するナット部材１４と、雌ねじ１５にねじ係合する雄ねじ１６を外周に有するアジャストスクリュ１７と、そのアジャストスクリュ１７を付勢するリターンスプリング１９とを有するラッシュアジャスタにおいて、雄ねじ１６の圧力側フランク２３を梨地とし、その雄ねじ１６の圧力側フランク２３の表面硬度を雌ねじ１５の圧力側フランク２５の表面硬度よりも高くし、雄ねじ１６の圧力側フランク２３の面粗さをＲａ０．８〜１２．５の範囲に設定し、雄ねじ１６の圧力側フランク２３の粗さ曲線のスキューネスがＲｓｋ＜０を満たすように梨地の微細な凸部の先端を滑らかにする。 （もっと読む）

【課題】 基体の急速加熱、ＣｄＳの成膜、ＣｄＴｅの成膜、ＣｄＣｌ_２処理お よびオーム接点形成を含むすべての工程を中程度の圧力で単独の真空境界内で実施する、ＣｄＴｅ光起電力モジュールを大規模インラインで製造するための装置およびプロセスを提供する。
【解決手段】 金属塩をＣｄＴｅ層上へ昇華することによってｐ＋オーム接点領域を形成する。低コスト噴霧プロセスによって背面電極を形成し、マスクを介して行なう研磨ブラスチングか機械的ブラッシングによってモジュールをスクライビングする。真空処理装置によって、基体および膜の加熱、蒸気漏出を極力抑制した、基体および膜の蒸気への暴露、基体上への薄膜の成膜、および薄膜の基体からの剥離が容易になる。基体搬送装置により、薄膜成膜時に基体を真空に出入りさせるのが容易になり、基体搬送装置自体に被覆が生じるのを防止する。 （もっと読む）

【課題】昇華する昇華材料を安定的に合成樹脂フィルム上に付着させることにより成膜して合成樹脂フィルムの上の成膜の特性を向上させること。
【解決手段】本発明の真空成膜装置１は、真空雰囲気下にある真空室内において合成樹脂フィルム７の少なくとも一方の面に昇華される昇華材料を蒸着して成膜する。真空成膜装置１は、材料容器９に収容された昇華材料９ａを電子線発生手段８の電子線により昇華させる手段と、昇華材料９ａの近傍に加熱水蒸気を供給する加熱水蒸気供給手段１４と、昇華材料９ａ及び前記加熱水蒸気の両方にマイクロ波を照射させて昇華材料９ａの蒸気を酸化反応させるマイクロ波発生手段１２と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】植物などから得られるセルロース材料を有効に利用し、酸素バリア性、水蒸気バリア性に優れるだけでなく、透過性に優れ、耐湿熱性に優れ、可とう性に優れ、耐熱水性に優れ、環境負荷の少ないガスバリア性を備える積層体を提供する。
【解決手段】高分子組成物からなる基材の少なくとも一方の面に、無機化合物からなる第１層１１と、短方向の繊維幅が３８０ｎｍ以下のセルロースファイバーを含む第２層１２とを備えることを特徴とする積層体。また、前記セルロースファイバーの短方向の繊維幅が５０ｎｍ以下であることを特徴とする積層体。また、前記基材側から順に、前記第１層１１、前記第２層１２を順に備え、且つ、第１層１１上に第２層１２が直接設けられていることを特徴とする積層体。 （もっと読む）

【課題】吸湿性に優れる吸湿層を有するガスバリア性シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材２と、基材２の上に設けられた吸湿層３と、を有するガスバリア性シート１Ａであって、吸湿層３がアルカリ金属酸化物又はアルカリ土類金属酸化物を含有し、ガスバリア性シート１Ａの表面の最大高低差（Ｒｍａｘ）を１０００ｎｍ以下とすることにより上記課題を解決する。吸湿層３は、室温（２５℃）よりも低い温度で形成する吸湿層形成工程によって形成される。 （もっと読む）

【課題】ハイドロキシアパタイトを膜形成成分として含む蒸着膜がプラスチック基材の表面に形成されており、ハイドロキシアパタイトの特性が活かされ、プラスチック基材のガスバリア性が著しく高められたガスバリア材を提供する。
【解決手段】プラスチック基材１と、その表面に、リン酸カルシウム化合物が層状に分布している領域３ａを含む蒸着膜３が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】意匠面に対する金属薄膜の高い付着性と優れた耐薬品性とを十分に確保した上で、金属表面が、よりリアルに表現され得る加飾樹脂成形品を提供する。
【解決手段】基材１２の意匠面１８に、物理蒸着法又は化学蒸着法により金属薄膜２０を直接に形成して、金属調の加飾を実現すると共に、該金属薄膜２０に対して、樹脂と金属の両方に架橋する透明な塗料の塗膜からなる第一のトップコート層２２を直接に積層形成し、更に、該第一のトップコート層２２に対して、ガラス転移温度が５５〜１２０℃である透明な塗膜からなる第二のトップコート層２３を直接に積層形成して、構成した。 （もっと読む）

【課題】極性分子ガス透過性、無極性分子ガスバリア性を有する選択ガス透過性フィルムを提供する。
【解決手段】基材フィルム１０に、有機珪素化合物、金属または金属酸化物を供給してなる厚さ５〜５０ｎｍの蒸着膜層２０を設けたガスバリア性フィルムを伸長させてなる。水蒸気透過度を維持したまま酸素透過度が向上した、選択ガス透過性フィルムである。 （もっと読む）

【課題】同一の成形用金型を用いて多数の成形樹脂を製造することが可能な生産性に優れた成形樹脂の製造方法、及び同一のスタンパを用いて、多数の光情報記録媒体を製造することができる生産性に優れた光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】光硬化性転写シートの光硬化性転写層を、記録ピット及び／又はグルーブとしての微細凹凸に沿って反射層が設けられた基板の該反射層上に載置し、これらを押圧する工程、光硬化性転写層の他方の表面に、記録ピット及び／又はグルーブとしての微細凹凸表面に光触媒物質の薄層が形成されたスタンパを載置し、これらを押圧する工程及び該スタンパを有する光硬化性転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、光硬化性転写層の表面に微細凹凸を設ける工程を含む光情報記録媒体の製造方法、これに使用されるスタンパ表面に光触媒物質の薄層が形成された成形金型を用いる成型方法。 （もっと読む）

【課題】真空成膜用マスク治具を、表面が侵食されにくく、かつ変形もせず、クリーニングによって繰り返し使用可能なものとする。
【解決手段】被成膜物質に対して真空成膜する際に成膜面の前面に配置される真空成膜用マスク治具であって、この真空成膜用マスク治具がＦｅ₃Ｏ₄主体の鉄系酸化物被膜で覆われたフェライト系ステンレスからなるものとする。 （もっと読む）

【課題】真空成膜用マスク治具を、表面が侵食されにくく、かつ変形もせず、クリーニングによって繰り返し使用可能なものとする。
【解決手段】被成膜物質に対して真空成膜する際に成膜面の前面に配置される真空成膜用マスク治具であって、この真空成膜用マスク治具がＦｅ₃Ｏ₄主体の鉄系酸化物被膜で覆われたフェライト系ステンレスからなり、このフェライト系ステンレスがその標準含有元素であるＣｒよりも強還元性元素である３族元素、４族元素、５族元素、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐのうち少なくとも１つを０．１ｍｏｌ％以上含むものとする。 （もっと読む）

【課題】高分子樹脂フィルムと無機酸化物層との密着性を改善した積層体を製造する上で有利な装置およびガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】ＲＩＥ（リアクティブイオンエッチング）によるプラズマ処理を行う装置は、高分子樹脂フィルム６が巻回されるプラズマ処理用ローラー５Ａと、プラズマ処理用ローラー５Ａの周面を構成し電力が供給されるカソード電極と、プラズマ処理用ローラー５Ａの周面に対向して配置されアース電位に接続されるアノード電極２と、プラズマ処理用ローラー５Ａの周面とアノード電極２の間に配置された誘電体３とを備えている。カソードとアノード間にプラズマ耐性を有したセラミックなどからなる誘電体が設置されていることで、ＲＩＥ（リアクティブイオンエッチング）によりスパッタされた有機物がアノード側に付着することを防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】基板と強誘電体薄膜との格子ミスマッチによる歪みが効率的に緩和されるペロブスカイト構造強誘電体薄膜を提供すること。
【解決手段】本発明によるチューナブル素子は、基板上に（１１１）エピタキシャル成長したペロブスカイト構造強誘電体薄膜を含んでなる。特に、ペロブスカイト構造強誘電体薄膜は、（１１１）エピタキシャル成長した（Ｂａ_ｘＳｒ_１−ｘ）ＴｉＯ_３またはＰｂ（Ｚｒ_ｘＴｉ_１−ｘ）Ｏ_３｛０＜ｘ＜１｝からなる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、低コストで高度なガスバリア性を有するガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明のガスバリア性フィルムの製造方法は、 高分子フィルムの少なくとも一方の表面に１層以上の無機物からなる蒸着薄膜層を形成する工程と、
次いで、該無機物からなる蒸着薄膜層の上に、ジメチルポリシロキサンを含むポリマーを加熱気化させてなる未硬化のポリマー薄膜層を形成する工程と、
次いで、該ポリマー薄膜層にプラズマを照射してポリマーを硬化させる工程と、を同一真空容器内で行うものである。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れた圧電デバイス及びその製造方法並びに電子機器を提供する。
【解決手段】圧電デバイス（角速度センサ素子３１）は、第１の電極膜３４ａと第２の電極膜３４ｂの間に配置された圧電膜３３を備える。圧電膜３３は、化学式Ｐｂ_１＋Ｘ（Ｚｒ_ＹＴｉ_１−Ｙ）Ｏ_３＋Ｘ（０≦Ｘ≦０．３、０≦Ｙ≦０．５５）で表され、Ｘ線回折法により測定されたパイロクロア相のピーク強度がペロブスカイト相の（１００）、（００１）、（１１０）、（１０１）及び（１１１）の各面方位におけるピーク強度の総和に対して１０％以下である。圧電膜３３の膜厚は４００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である。これにより、高温下で圧電特性が劣化しない、耐熱性が飛躍的に向上した圧電デバイスを得ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】拡散現象は、加熱時間が長かったり、加熱が繰り返されたりすると、より生じやすい。拡散現象が進行すると、その電気抵抗率が高くなるから、電熱層の電気抵抗率と温度との関係が経時変化することになる。特に、高温になるとその経時変化が顕著に生じやすい。従って、ヒータをサーミスタとして用いる場合、使用するごとに、その温度測定精度が低下してしまい、使用するごとに温度・電気抵抗率の補償をしなければならい。温度・電気抵抗率の特性の経時変化を起こりにくくするとともに、温度測定精度の低下を抑えるようにする。
【解決手段】サーミスタ兼電熱ヒータ１は、絶縁性の基材２の上に直接形成され、金属モリブデン又は金属タングステンを含む下地層３と、下地層３の上に直接形成され、金を含む電熱層４と、を有する。 （もっと読む）

【課題】基材上に撥水又は撥油性コーティングを形成する方法を提供する。
【解決手段】ポリマー層により表面をコーティングする方法であって、該方法はモノマー飽和有機化合物を含むパルスされたプラズマに前記表面を曝露することを含んでなり、前記化合物がハロ置換アルカン等の任意にヘテロ原子により介在された少なくとも５個の炭素原子の任意に置換されたアルキル鎖を含んでなり、前記基材上に撥水又は撥油性コーティングを形成する方法。この方法により得られる布等の基材。 （もっと読む）

【課題】装置コストを増大せずに、良質な薄膜を、高い成膜速度で形成することのできる成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】ガスの導入と排気が可能な真空容器と、この真空容器内に配置され、かつ、成膜の材料となるターゲットを保持するバッキングプレートと、前記真空容器内に前記バッキングプレートに対向して配置され、かつ、前記成膜材料の薄膜が形成される成膜用基板を保持する基板ホルダとを有し、前記バッキングプレートは、板状の形状を有し、かつ、焼結により生成する理論上の重さに対する焼結後の実際の重さの比重を表す焼結密度が９５％以上であるターゲットよりも熱膨張係数が小さいことにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】硬化したオルガノポリシロキサン樹脂フィルム上に酸化窒化ケイ素層、窒化ケイ素層または酸化ケイ素層が接着性良く形成されており透明性、ガスバリアー性等が優れた硬化オルガノポリシロキサン樹脂フィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ヒドロシリル化反応により架橋させてなる硬化オルガノポリシロキサン樹脂からなり、可視光領域で透明であるフィルム上に、有機官能基、重合性有機官能基が重合して生成した有機基、ヒドロシリル基またはシラノール基を有する硬化オルガノポリシロキサン層が形成され、該硬化オルガノポリシロキサン層上に酸化窒化ケイ素層、窒化ケイ素層または酸化ケイ素層が形成されている、ガスバリアー性硬化オルガノポリシロキサン樹脂フィルムおよびその製造方法。 （もっと読む）