【課題】広い面積の基板に有機物を均一に蒸着して高速に成膜させ、有機材料混合量の微細調整を可能とする。
【解決手段】気相有機物の蒸着装置は、母材１０を安着せしめる母材安着部１４０を備え、気相有機物を母材の安着部方向へ噴射する噴射部１１０と、保温ヒーター１３０を含んで構成される蒸着チェンバー１００と、気相有機物を運搬する運搬ガスが引き込まれるよう穴形状に形成された運搬ガス引込ホールと、有機物蒸気及び運搬ガスが引き出されうるよう穴形状に形成された気相有機物の引出ホールを備えており、有機物を貯蔵できるるつぼ２２０と、るつぼ内を加熱する有機物加熱ヒーターを内部に含む有機物チェンバー２００と、有機物チェンバー内に引き込まれる運搬ガス量と流速を制御する流量制御部４００と、有機物チェンバー内の気相有機物が噴射部に移動できる気相有機物の移送管２１０と、真空ポンプ１５０とを含んで構成される。 （もっと読む）

本発明の１つ以上の構成は、供給ガスの流量の１つのパラメータを選択的に調整することによって、イオン注入システム内のイオンビームの電流又は密度を安定化する事に関する。ガス流量の調整は、他の作動パラメータに対する調整を必ずしも必要ではなく、これにより、安定化処理を単純化する。ビーム電流が、比較的早く安定化させるためにイオン注入は、中断されず促進的に始動されかつ続けられる。これは、関連した注入コストを削減するとともに処理能力を改善する。
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【課題】ターゲットのスパッタリングによる成膜の成膜速度が速い成膜方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】アルゴンガスをプラズマ室２に供給し、アルミからなるターゲット５に電圧印加すると、アルゴンイオンは、ターゲット５の表面に入射し、スパッタ粒子が発生して基板６方向へと放出され、基板６の表面にアルミ薄膜を形成する。ターゲット５の電圧印加終了後、窒素ガスをプラズマ室２に供給し、基板ホルダ７に電圧印加する。そして、アルゴンイオンおよび窒素イオンは、基板６の表面に入射する。入射した窒素イオンは、アルミ薄膜を窒化し、窒化アルミ薄膜が形成される。窒素ガス供給を停止し、再びターゲット５に電圧印加し、窒化アルミ薄膜上にアルミ薄膜を形成する。このプロセスを繰り返す。 （もっと読む）

【課題】シングルナノサイズのクラスター生成、小さなクラスターサイズ分散性、高いビームフラックスおよび高いクラスタービームエネルギーの達成を可能とする。
【解決手段】レーザアブレーション法によってナノサイズクラスターを生成するクラスター生成装置は、クラスターを生成するクラスターセル11の取出口21に、ラバールノズル13のスロート口31が接続されているものである。 （もっと読む）

【課題】低摩擦係数を有し、高密着性で、耐摩耗性のＤＬＣ及びその製造方法を提供する。また、低摩擦係数で、耐摩耗性及び密着性に優れた保護膜を有する摺動部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】固体カーボンターゲットを使用せず、金属ターゲットのみをアーク放電で昇華させつつ炭化水素ガスを導入し、金属及び炭化水素をイオン化して基材上に形成されたことを特徴とする金属複合ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）皮膜。 （もっと読む）

【課題】均一かつ細密に充填したＳＡＭを大面積の基板に形成することを可能とする装置及び方法を提供する。
【解決手段】自己組織化分子を含有する液体原料を気化し、基板上に自己組織化単分子膜を形成する装置であって、前記基板を内部に保持する成膜室と、前記液体原料を前記成膜室内に直接噴射する噴射弁を備えるようにした。 （もっと読む）

【課題】発熱体を構成している金属の蒸発を原因とする汚染を防ぐことで、大きな面積の酸化物薄膜をより高品質に形成できるようにする。
【解決手段】複数の絶縁柱１５１により支持板１５２に屈曲されて配設された電熱線よりなる発熱体１０５を、大気中などの高い濃度で酸素を含む雰囲気で、１１００℃程度にまで通電加熱することで、発熱体１０５の表面に構成する金属の酸化被膜が形成された状態として用いる。発熱体１０５が、鉄とクロムとアルミニウムとの合金よりなる電熱線から構成されている場合、表面には酸化アルミニウムの被膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】 アノード２０の表面における酸化膜の発生および剥離の問題を解決し、安定した連続運転が可能な電子ビーム照射装置１０を提供する。
【解決手段】 電子を放出するカソード１６と、電子を加速するためカソード１６との間で電場を形成するアノード２０と、カソード１６とアノード２０との間の電子ビーム発生空間１９を排気する排気手段３２と、電子ビーム発生空間１９に還元性ガスを滞在せしめるため、電子ビーム発生空間１９にＨ_２ガスやＨ_２Ｏガス等の特定ガスを供給する特定ガス供給手段３４と、を備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム蒸着を行う時にフィルム基材の帯電障害を極力抑え、損傷のなく安定に成膜を行う巻取式の真空蒸着方法を提供すること。
【解決手段】巻取装置によって真空中を走行するフィルム基材（４）の上に、電子ビーム（９）によって金属酸化物を被覆する反応蒸着方法において、蒸着材料を前記フィルム基材（４）の上に成膜ドラム（５）上で堆積した後に、成膜ドラム（５）からフィルム基材（４）が剥離する箇所に向けて液体蒸気を噴射する。 （もっと読む）

【課題】 基板のクリーニング効果、および、結晶成長の高品質化を実現する。
【解決手段】 本発明の分子線エピタキシャル成長装置は、水素ラジカル発生装置１０および分子線セル２３が、それぞれ独立して設けられている。そして、水素ラジカル発生装置１０から水素ラジカルが、分子線セル２３から成膜材料の分子線または原子線が、それぞれ別々に、基板処理室２０に供給されるようになっている。さらに、水素ラジカルは光励起により発生させる。これにより、水素ラジカルを放出ガスの発生なしに効率的に発生させることができ、基板２１のクリーニング効果、および、成膜材料中の不純物を除去する効果を顕著に高めることができる。 （もっと読む）

【課題】オゾン導入手段により基板洗浄と酸化物薄膜の形成を連続的に行うことを可能とする連続式成膜装置及び方法を提供する。
【解決手段】排気手段を備える真空槽、基板表面に成膜材料を堆積させる成膜手段、成膜手段に対面する成膜位置に順次基板を供給する搬送手段、および、基板表面にオゾンを吹き付けるオゾン導入手段を備える連続式成膜装置において、オゾン導入手段を用いて成膜位置に供給される直前の基板にオゾンを吹き付ける構成とした。 （もっと読む）

【課題】 成膜開始時、成膜時、及び、成膜停止時における配管系、原料容器、及び、吹き出し容器に残留する有機分子等を迅速に吹き出すことにより、高品質で長寿命の膜、特に、有機ＥＬ膜を得ることである。
【解決手段】 吹き出し容器に有機ＥＬ分子ガスを吹き出す構成を備えた成膜装置において、複数の有機ＥＬ原料容器と、複数の有機ＥＬ原料容器と吹き出し容器とを接続する配管系を有し、複数の有機ＥＬ原料容器は選択的に有機ＥＬ分子供給状態となり、当該配管系は、各有機ＥＬ原料容器内に、成膜時と非成膜時において同じ圧力となるように、輸送ガスを供給するように構成されている。非成膜時、輸送ガスは有機ＥＬ原料容器の一つから他の原料容器に流される。 （もっと読む）

【課題】本発明は被処理物である基板に成膜、ドライエッチングなどのプラズマプロセスを行うプラズマプロセス用装置に関し、ステージ冷却機構の小型化及び低コスト化を図ることを課題とする。
【解決手段】プラズマプロセス用装置において、容器の内部に被処理物を載せる導電性のステージ301を設け、このステージ301には直流電圧もしくは高周波を印加できる構造が設けられ、前記冷却媒体を水ベースの液体とし、ステージ301の内部には高熱電導性金属により形成されており前記被処理物を冷却するための冷却媒体流路303を設け、ステージ301と冷却媒体流路303との間にステージ301の熱を冷却媒体に伝えるために熱伝導度が高くステージ301に印加した直流電圧もしくは高周波を前記冷却媒体に伝えないように電気絶縁性が高い高熱伝導率絶縁材料を設け、かつ、チラーを使わずに前記冷却媒体を冷却媒体流路301に供給する。 （もっと読む）

本発明は、プラズマ用のプラズマ室（３）、プラズマの点火及び維持のための電気手段（８，９）、プラズマ室（３）からプラズマビーム（Ｉ）を抽出するためのイクストラクション格子（４）、並びに、イクストラクション格子（４）によって真空室（７）から分離された出口開口部を有する高周波プラズマビーム源に関する。プラズマビーム（Ｉ）は、ほぼ拡散ビーム特性で、高周波プラズマビーム源（１）から放射される。更に、本発明は、高周波プラズマビーム源のプラズマビーム（Ｉ）を用いて表面を照射するための方法に関する。その際、プラズマビーム（Ｉ）は、拡散されている。
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【課題】建築用ガラス基板へコーティングを行うスパッタ装置の保守、清掃、及びターゲット交換を簡単に短時間で行え、装置稼動率を向上することが可能なシステムの提供。
【解決手段】コーティングシステム１において、一貫した保守と清掃を必要とするすべての部品は、ユニット化してインサート８上に纏められ、インサート８は引き出しのようにチャンバ壁２ａ内の側面開口部１０を通って、チャンバの内部へ摺動して取り付け、また容易に取り外すことができる。取り外されたインサート８は、点検が完了したインサートと直接交換することが出来るため稼働率が向上する。 （もっと読む）

【課題】 蒸着面が汚染されることがなく、それ故蒸着不良による品質の低下がなく、また在庫管理も格別に必要としない、表面に薄膜を有する成形品の成形方法を提供する。
【解決手段】
固定側金型（２）と、スライド金型（１５）とを使用して、第１の成形位置で第１の基板（Ｋ１）を、第２の成形位置で第２の基板（Ｋ２）を成形する。そして、第２の基板（Ｋ２）を成形中にその前に成形された第１の基板（Ｋ１）の表面に蒸着し、第１の基板（Ｋ１）を成形中にその前に成形された第２の基板（Ｋ２）の表面に蒸着する。このとき、内部にターゲット電極、基板電極、真空吸引管等の蒸着要素が設けられている蒸着用チャンバー（２５）により、スライド金型（１５）の凹部（１６、１７）に残っている状態の基板を覆って、金型内で蒸着条件を出して蒸着する。 （もっと読む）

本発明の薄膜形成装置（１）は、真空容器（１１）内に反応性ガスを導入するガス導入手段と、真空容器（１１）内に反応性ガスのプラズマを発生させるプラズマ発生手段（６１）を備える。プラズマ発生手段（６１）は、誘電体壁（６３）と渦状のアンテナ（６５ａ，６５ｂ）を有して構成されている。アンテナ（６５ａ，６５ｂ）は、高周波電源（６９）に対して並列に接続され、アンテナ（６５ａ，６５ｂ）の渦を成す面に対する垂線に垂直な方向に隣り合った状態で設けられている。
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本発明の成膜装置及び方法は、裏面に永久磁石（１０）が配置されたカソード（５）に、ＨＦ電源（１１）から高周波電圧を与えてリアクティブモードのプラズマを発生させ、このプラズマを用いてプラズマ重合成膜を行う。また、真空チャンバ（１）内のプラズマ源ガスの圧力を調整して、リアクティブモードではなくメタリックモードのプラズマを発生させ、このプラズマを用いて、ターゲットたるカソード（５）をスパッタしてマグネトロンスパッタ成膜を行う。
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【課題】熱可塑性支持体あるいは無機蒸着膜上に、分子量６００以上の有機物を原料とすることが可能で、しかも架橋度を上げることにより、酸素バリア性と擦傷耐性に優れた有機物被覆層を形成する方法および製造装置を提供する。
【解決手段】
真空中で単官能あるいは２官能の（メタ）アクリル基を持つ分子量６００以下又はそれ以上の有機物および／または１，３，５−トリアジン誘導体をプラズマを照射させて活性化させた後に電子銃を用いて、完全に硬化させることで被覆層形成時に発生する収縮を低減させ、支持体等との密着性と耐擦傷性を付与する。 （もっと読む）

【課題】 同一の成膜装置で化学的成膜法とスパッタリング法とを行なう場合に、反応ガスによるターゲットの汚染を防止または抑制することができる成膜装置および成膜方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 上記薄膜の構成元素を主成分とするターゲットが配置され、このターゲットをスパッタリングするためにスパッタリングガスを導入するスパッタリングガス導入系と、上記構成元素を含む原料ガスを導入する原料ガス導入系と、この原料ガスと反応して基板上に上記薄膜を析出させる反応ガスを導入する反応ガス導入系とを備え、上記ターゲットが配置されている第１空間と、上記基板ホルダーが配置されている第２空間とを仕切る仕切手段を設けた薄膜装置およびこの薄膜装置を使用した成膜方法により、反応ガスによるターゲットの汚染を防止または抑制することができるようになった。
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