【課題】 本発明は、基板上に略均一な厚さとなるよう再現性良く、蒸着膜を蒸着することのできる蒸着装置を提供することを課題とする。。
【解決手段】 蒸着材料を収容する収容部１０１と、収容部１０１を加熱する加熱手段１０３と、収容部１０１にキャリアガスを導入するためのガス導入口１０１Ａと、キャリアガスにより、気化又は昇華された蒸着材料を放出する放出口１０１Ｂと、放出口１０１Ｂに設置され、収容部１０１内の圧力を調整する圧力調整手段１０４と、収容部１０１を冷却する冷却部１０８とを備えた蒸着源を複数設け、複数の蒸着源を断熱部材１１０を介して供給用管路９２に接続した。 （もっと読む）

【課題】膜中に混入する水分や水素の量を少なくすることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】上面に半導体基板１を載置するステージ１２と、ステージ１２上に載置された半導体基板１の周辺部を押さえる押さえ治具３０と、押さえ治具３０に設けられ、半導体基板１の周辺部上に不活性ガスを供給するガス供給口３４ａとを具備する。ステージ１２及び押さえ治具３０を収容するチャンバーと、チャンバーの内側に位置し、ステージの上面とスパッタリングターゲットの間に位置する空間を囲むように配置されたシールド部材とを更に具備してもよい。 （もっと読む）

【課題】 高い真空度を得るために長時間をかけたり、特別の装置を使用したりすることなく、アルミニウムのような易酸化性蒸着材料を希土類系永久磁石のような被処理物に安定に蒸着させるための表面処理方法、この方法を実施するために好適な表面処理装置などを提供すること。
【解決手段】 易酸化性蒸着材料からなる蒸着被膜を被処理物の表面に形成する表面処理方法であって、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に蒸着制御ガスを供給した状態で前記蒸着材料を蒸発させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 組成が均一で優れた特性の弗化マグネシウム膜を形成でき、耐熱性の低い基板にも弗化マグネシウム膜を形成でき、他の材料との混合膜模も容易に形成すること。
【解決手段】 真空槽１０内に配置された基板２上に膜を成膜する成膜方法であって、少なくともマグネシウム或いは弗化マグネシウムからなるターゲット３をスパッタすることで、該ターゲットの材料を基板２上に堆積させる堆積工程と、基板２に弗素系ガスを導入する工程、又は、基板２に対して弗素系イオンを照射する工程のうち少なくともどちらか一方を行うことで、基板２上に堆積したターゲット材料を弗化する弗化工程とを備え、堆積工程と弗化工程とを順次繰り返すことで、少なくとも弗化マグネシウム層を１層形成する成膜方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】超高真空環境でもアウトガスを発生させない非移行型のプラズマトーチを用いて生成させた微粒子を超音速のガス流により加速させ、基板に堆積させた微粒子により皮膜形成する物理蒸着装置を提供する。
【解決手段】内部にプラズマトーチ（１６，２６）と蒸発源（１５，２５）を有する蒸発チャンバー（１０，２０）と、超音速ノズル３５と成膜対象基板３３を有する成膜チャンバー３０を有し、各プラズマトーチは、略円筒形の導電性のアノード４０と、その内側に挿入された、ベークライトよりもアウトガスの少ない高分子系または非高分子系の絶縁管５０と、絶縁管５０の内側に挿入された棒状のカソード６０を有する。アノード４０とカソード６０に電圧印加して得たプラズマで蒸発源（１５，２５）から微粒子を生成し、超音速ノズル３５から噴出して超音速ガス流に乗せ、成膜対象基板３３に物理蒸着させる。 （もっと読む）

【課題】
運用の初期から安定した状態で薄膜が形成される成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜室７１にて薄膜被形成物の表面に電子ビームを用いて薄膜が蒸着されて形成され、このとき、成膜室７１内に水蒸気が導入され、同成膜室７１内の水分が同電子ビームによって酸素と水素とに解離され、同成膜室７１内の水素分圧が所定の制限範囲に保たれるように水蒸気の流量が制御される。このため、水素分圧に所定の制限範囲が設定される成膜が、成膜装置の稼動初期から終了まで安定して行われる。また、水蒸気発生装置７２や質量分析器７６など、成膜室７１に容易に後付けできる部品を用いて水素発生量を制御するようにしたので、真空室などを設けることなく、成膜装置が容易に改造される。 （もっと読む）

基板上の積層複合材料であって、前記積層複合材料の少なくとも１つの単一層が立方晶窒化ホウ素を含有し、かつ堆積を通じて製造されている。課題は、改善された接着強さを有するそのような積層複合材料を提案することである。前記課題は、立方晶窒化ホウ素が堆積の間に添加される酸素を含有することにより解決される。
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【課題】 化学量論組成比のモノマー組成でポリ尿素膜を作製することができるポリ尿素膜の形成方法及びポリ尿素膜形成装置を提供する。
【解決手段】 真空処理室中で原料モノマーを蒸発させて、これを基体上で重合させるようにした合成樹脂膜の形成方法であって、ジイソシアナート化合物を原料モノマーとして蒸発させ、同時に導入した水と反応させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】真空装置において、気体導入時における粉塵舞い上がりによる成膜への影響を抑制する。
【解決手段】真空槽、および真空槽内部に基板が搭載される基板ホルダを備える真空装置であって、基板の処理面の背面側にある真空槽の壁面に設けられた気体の導入口又は排出口、および背面と導入口又は排出口との間に設けられた拡散板を備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着中に銀の蒸気を添加することで結晶粒の増大を図るとともに結合度の向上も図れるようにする。
【解決手段】真空蒸着装置の真空室内に蒸着源としてＮｄとＢａとＣｕとＡｇのインゴットを配置する。ついで、真空室内の所定箇所に酸化マグネシウム基板を配置し、真空室内を例えば、１０^-4程度の圧力状態とし、酸素ガスと活性化酸素ガスとの混合ガスを１．８sccmで真空室内に供給する。この状態で、真空室内に配置した各蒸着源を電子銃を用いて加熱し、各蒸着源を気化（昇華）させる。以上に示した蒸着法により、基板温度を６９０℃とした基板の上にＮｄＢａ₂Ｃｕ₃Ｏ₇の薄膜が形成できる。 （もっと読む）

【課題】有機モノマーを反応ガス中に材料ガスとして含ませてプラズマによる重合を行う事により、特性が優れた薄膜のハードマスクを形成する。
【解決手段】容量結合式のプラズマCVD装置により半導体基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成する方法において、ビニル基、アセチレン基で置換されていない沸点約２０℃〜約３５０℃の炭化水素系液体モノマー(C_αH_βX_γ、α，β：５以上の自然数，γ：0を含む整数、X：O、N、またはF) を気化させる工程、該気化したガスを基板が置かれたCVD反応室に導入する工程、及び該ガスをプラズマ重合させることにより該基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成する工程、を包含する。 （もっと読む）

【課題】 スパッタリング装置により、透明かつガス気密コーティングを合成材料の基板上に付着することの問題を解決しかつ同じスパッタリング装置を用いて反射バリヤ層を形成することにある。
【解決手段】 ガス不透過層、より詳しくはガス不透過合成材料基板のコーティングの製造装置および方法に関する。装置または方法の使用により、単一のスパッタリング装置を用いて、光不透過層だけでなく、光不透過ガス遮断層をも形成できる。第１のガス供給源（例えばアルゴン）から第２のガス供給源（例えばアルゴン、酸素および窒素）への切換えまたはこれとは逆の切換えを簡単に行なうことができる。 （もっと読む）

本発明は乾燥したナノ粒子（１８ｂ）のための移送システムを提供する。このシステムでは、移送するためにナノ粒子（１８ｂ）を磁化又は帯電させ、移送通路内に場発生器（２０ａ、２０ｂ）によって磁界又は電場を発生させ、その中でナノ粒子（１８ｂ）を移送通路（１２）を経て移動させる。ナノ粒子を、例えば放出開口部（１３）を通して放出することで配量が可能である。ナノ粒子（１８ｂ）の凝集又は内壁（２６）への堆積を回避するために、壁のコーティング（２７）をピエゾ駆動機構（２８）によって振動させ、その振動をナノ粒子（１８ｂ）へ伝達する。この移送システムによって、乾燥したナノ粒子の取扱いが効果的に可能になるので、ナノ粒子を懸濁液として処理する必要がない。
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本発明は、特に流動状態の媒体を処理室内へ輸送するための媒体インジェクタであって、有利には１つの供給装置及び媒体のための輸送開口部としての少なくとも１つの間隙を備えており、この場合に間隙は少なくとも２つの間隙画成面を有しており、該間隙画成面は該間隙画成面間に配置された間隙スペースを形成している形式のものにおいて、少なくとも１つの間隙画成面は、第１の管状部材の少なくとも１つの端面の少なくとも一部分によって形成されている。
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本発明は、少なくとも一種類の高融点の金属（３）の炭化物から成る層を少なくとも１つの対象物（８）に高率電子ビーム蒸着によって真空チャンバ（１）内で析出するための方法に関する。本発明によれば、真空チャンバ（１）内に反応性ガスの流入によって炭素含有の雰囲気を発生させ；高融点の金属（３）を電子ビーム（５）によって蒸発させ；析出をプラズマによって助成し、この場合、該プラズマを拡散アーク放電によって、蒸発させたい高融点の金属（３）の表面に発生させ；被覆率が、少なくとも２０ｎｍ／ｓであり、析出の間の対象物温度を５０℃〜５００℃の間に保持することが提案される。
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【課題】機能信頼性をより高めた、互いに接続された２つのプロセスユニット間を蒸気が漏れないよう遮断するバルブを提供すること。
【解決手段】２つのプロセスユニット間を接続する流路３と、該流路３内に設けられたシャットオフ装置を備えて成る、互いに接続された前記２つのプロセスユニット間を蒸気が漏れないよう遮断するバルブにおいて、当該バルブを囲繞して設けられたヒータ装置１５から熱伝導するよう接続された、蒸気による結露を生じない範囲を、前記流路３の蒸気と接触する表面に設けた。
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単一のフローを所望の比率の２以上の二次フローに分割するシステムであり、前記単一のフローを受け取る入口と、前記入口に接続された少なくとも２つの二次フロー・ラインと、少なくとも１つの所望のフロー比率を受け取る入力手段と、前記フロー・ラインのそれぞれによって生じた製品の測定値を提供する少なくとも１つのインサイチュ・プロセス・モニタと、前記入力手段と前記インサイチュ・プロセス・モニタとに接続されたコントローラとを含む。このコントローラは、前記入力手段を介して所望のフロー比率を受け取り、前記インサイチュ・プロセス・モニタから前記製品の測定値を受け取り、前記所望のフロー比率と前記製品の測定値とに基づいて訂正されたフロー比率を計算するようにプログラムされている。製品測定値が等しくない場合には、訂正されたフロー比率は所望のフロー比率とは異なるようになる。
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材料を基板に堆積させるための、熱による物理的蒸着源であって、その材料を収容する細長い容器と、その容器内の材料を加熱してその材料を気化させ、部分圧P_mにするためのヒーターとを備えており、その容器は、長手方向にコンダクタンスC_Bを持っている。この容器は、少なくとも1つの部材と、その容器のそれぞれの側を加熱してその容器の表面に凝縮する材料を減らす端部ヒーターとを備えていて、前記部材の長さ方向には複数の開口部が規定されていて、その開口部の全コンダクタンスがC_Aであって、式（I）を満たす。
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【課題】 有機モノマーを飽和蒸気圧の大きい高温で効率良く気化させるとともに得られた有機モノマーガスのプラズマ重合反応により有機高分子膜を高真空中で高速成長する。
【解決手段】 液体ジビニルシロキサンビスベンゾシクロブテン（ＤＶＳ−ＢＣＢ）モノマーをキャリアガスと混合した後、高温に保持された減圧気化室に噴霧して有機モノマーの液体微粒子からなるエアロゾルを形成し、該エアロゾルを介してＢＣＢモノマー（有機モノマー）を瞬時に気化させてＢＣＢモノマーガス（有機モノマーガス）を発生させる。これによって、比表面積の大きいエアロゾルは気化面積が大きく、高温加熱しても重合反応が生じる前に気化が生じるため、飽和蒸気圧の大きい２００℃での０．１ｇ／ｍｉｎ以上のＢＣＢモノマーガスが可能となり、プラズマ重合ＢＣＢ膜を従来の５倍以上の高速成膜が可能となる。 （もっと読む）