【課題】軟質難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する被覆切削工具を提供する。
【解決手段】被覆切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）Ｃｒ硼化物層の表面層、（ｂ）組成式：（Ｔｉ_{１−（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＣｒ_Ｙ ）Ｎ（ただし、原子比で、０．４５≦Ｘ≦０．６５、０．０１≦Ｙ≦０．１０、０．５０≦Ｘ＋Ｙ≦０．７０を示す）、を満足するＴｉとＡｌとＣｒの複合窒化物層の耐摩耗硬質層、からなる硬質被覆層を形成してなり、さらに、前記表面層の少なくとも切刃稜線部を含むすくい面部分および逃げ面部分の表面粗さを、前記表面層全面に、Ｃｒ窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材として、酸化アルミニウム微粒を配合した研磨液を噴射し、前記の研磨材層のウエットブラストによる粉砕化Ｃｒ窒化物微粒と、噴射研磨材としての酸化アルミニウム微粒の共存下で研磨して、Ｒａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】軟質難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する被覆切削工具を提供する。
【解決手段】被覆切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）Ｃｒ硼化物層の表面層、（ｂ）組成式：（Ｔｉ_{１−（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＳｉ_Ｙ ）Ｎ（ただし、原子比で、０．４５≦Ｘ≦０．６５、０．０１≦Ｙ≦０．１０、０．５０≦Ｘ＋Ｙ≦０．７０を示す）、を満足するＴｉとＡｌとＳｉの複合窒化物層の耐摩耗硬質層、からなる硬質被覆層を形成してなり、さらに、前記表面層の少なくとも切刃稜線部を含むすくい面部分および逃げ面部分の表面粗さを、前記表面層全面に、Ｃｒ窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材として、酸化アルミニウム微粒を配合した研磨液を噴射し、前記の研磨材層のウエットブラストによる粉砕化Ｃｒ窒化物微粒と、噴射研磨材としての酸化アルミニウム微粒の共存下で研磨して、Ｒａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】軟質難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する被覆切削工具を提供する。
【解決手段】被覆切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）Ｃｒ硼化物層の表面層、（ｂ）組成式：（Ｔｉ_{１−（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＢ_Ｙ ）Ｎ（ただし、原子比で、０．４５≦Ｘ≦０．６５、０．０１≦Ｙ≦０．１０、０．５０≦Ｘ＋Ｙ≦０．７０を示す）、を満足するＴｉとＡｌとＢの複合窒化物層の耐摩耗硬質層、からなる硬質被覆層を形成してなり、さらに、前記表面層の少なくとも切刃稜線部を含むすくい面部分および逃げ面部分の表面粗さを、前記表面層全面に、Ｃｒ窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材として、酸化アルミニウム微粒を配合した研磨液を噴射し、前記の研磨材層のウエットブラストによる粉砕化Ｃｒ窒化物微粒と、噴射研磨材としての酸化アルミニウム微粒の共存下で研磨して、Ｒａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】真空成形等の三次元の立体成形においても金属光沢層に問題が発生せず、層間密着性を有する、金属光沢を表現した金属調化粧シートを提供すること。
【解決手段】少なくとも熱可塑性樹脂基材、接着剤層、金属光沢層、接着剤層、透明熱可塑性樹脂表面層をこの順に設けてなる金属調化粧シートにおいて、前記金属光沢層が、透明熱可塑性樹脂層の両面に金属蒸着層を設けたものであることを特徴とし、前記透明熱可塑性樹脂層が、厚み６〜１００μｍのポリエステル系かポリオレフィン系樹脂単体または複合あるいは混合物からなり、前記金属蒸着層が厚み５０〜１５０ｎｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
材料の水素吸着による光学的な透過率の変化により水素を検知できる水素検出材料の製造方法を提供する。
【解決手段】
水素を含んだ雰囲気に触れた時の光学的な透過率の変化をモニターすることにより水素の検知を行う水素検出材料であって、（１）上記水素検出材料の主成分が酸化タングステンであり、その形状が薄膜である、（２）成膜後にイオン照射を用いて水素吸着による着色濃度（光学的な透過率）が調節されている（３）上記水素検出材料の表面上に触媒が堆積されている、（４）室温（２０℃付近）で水素と反応して着色することを特徴とする水素検出材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高いガスバリア能を有し、かつカール耐性に優れたガスバリア性薄膜積層体、ガスバリア性樹脂基材を高い生産性で提供し、またガスバリア性薄膜積層体、ガスバリア性樹脂基材を用いて密着性及びガスバリア耐性に優れた有機エレクトロルミネッセンスデバイスを提供する。
【解決手段】ポリマー膜と無機膜をそれぞれ少なくとも１層有するガスバリア性薄膜積層体において、該ポリマー膜の少なくとも１層が、大気圧またはその近傍の圧力下で重合性モノマーを含むガスを基材の表面に吹き付け、基材表面上で重合させて形成された重合膜であることを特徴とするガスバリア性薄膜積層体。 （もっと読む）

【課題】比較的低圧力及び比較的高圧力の両方で均一なプラズマを生成できるｉＰＶＤ源を提供する。またスパッタ−エッチングのための金属蒸着に対する均一なプラズマを提供する。
【解決手段】比較的低圧力(5mTorr)動作及び比較的高圧力(65mTorr)動作で均一なプラズマ濃度を持つ均一な金属蒸着のためのイオン化物理的気相蒸着(iPVD)源を使用するシステムと方法を提供する。均一性を強化する低圧力動作では、磁石構造がプラズマをチャンバ周辺に移動するために誘導結合プラズマ(ICP)源と組み合わされ、一方、高圧力動作でプラズマのランダム化または熱運動化によってプラズマ均一性が促進される。これにより、組み合わされた連続的な蒸着−エッチング処理における蒸着およびエッチングの両方のための、また、無網状蒸着(NND)および低網状蒸着(LND)の蒸着−エッチング処理のための均一性が提供される。 （もっと読む）

【課題】低摩擦係数を有し、高密着性で、耐摩耗性のＤＬＣ及びその製造方法を提供する。また、低摩擦係数で、耐摩耗性及び密着性に優れた保護膜を有する摺動部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】固体カーボンターゲットを使用せず、金属ターゲットのみをアーク放電で昇華させつつ炭化水素ガスを導入し、金属及び炭化水素をイオン化して基材上に形成されたことを特徴とする金属複合ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）皮膜。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ナノオーダー強誘電分域構造を持ち、且つ製作工藝も簡単だった強誘電分域アレイ構造及びその製造方法、及び該強誘電分域アレイ構造を持つ強誘電フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の強誘電分域アレイ構造は、複数の強誘電分域構造を備え、前記強誘電分域構造はナノオーダー直径を持ち、且つ、強誘電フィルムの内に三角格子状に緊密に配列される。本発明の強誘電分域アレイ構造の製造方法は、一つの表面を備え、且つ一定の厚さを有する強誘電フィルムを提供するステップと、前記強誘電フィルムに、前記表面に垂直なように、一定の電界を印加することにより、前記強誘電フィルム内に、強誘電分域アレイ構造を形成するステップとを備える。本発明の強誘電フィルムは、前記強誘電分域アレイ構造を備える。 （もっと読む）

【課題】焼結体製基材に被覆した硬質膜を強靭にしてその寿命を延ばすようにした硬質膜被覆焼結部材を提供する。
【解決手段】セラミックス膜、BCN系超硬質材膜、金属とセラミックスの混合物膜のいずれかが前記硬質膜として前記焼結体製基材の表面に被覆され、かつ、均一に分布した直線状の転位の転位密度が１×１０^４〜９×１０^1０ｃｍ^-2である転位組織を前記焼結体製基材界面から数１０μｍ以下の範囲で有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、超硬合金の表面に備わる金属機械加工のために改良された性質、及び前記基材の表面上に硬質の耐摩耗性の被膜を有する切削工具を開示する。
【解決手段】前記被膜は物理蒸着法（ＰＶＤ）によって堆積される。前記被膜は、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）と組み合わされた金属窒化物からなる。前記被膜は、薄層で多層の構造からなる。このインサートは、すくい面及び逃げ面のそれぞれの上に種々の外側層を備えるためにさらに処理される。 （もっと読む）

【課題】食品,日用品,医薬品などの包装分野において、また電子機器関連部材などの分野において、包装材料としての通常の加工が施されてもガスバリア性が劣化しない、特に高いガスバリア性が必要とされる場合に、好適に用いられる透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】本発明は、透明なプラスチックフィルムからなる基材層１の表面に、厚さ５〜３００nmの酸化アルミニウム蒸着薄膜層２と、厚さ１〜５nmのアルミニウム蒸着薄膜層３と、重合しうるアクリル系のモノマーからなる又はこのモノマーとオリゴマーとの混合物からなる未硬化のフラッシュ蒸着被膜層を、紫外線又は電子線を照射して硬化させてなる、厚さ０.０２〜２０μmのガスバリア性被膜層４とを、順次積層したことを特徴とするガスバリア性積層フィルムである。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、成膜装置並びに成膜方法に関するものである。特に、波長１３ｎｍ帯の極端紫外線を用いたリソグラフィ用反射型マスクブランク多層膜の無欠陥成膜に用いて有用である。マスクブランク多層膜の成膜では、サイズ３０ｎｍ以上の欠陥密度零が要求され、これまでの成膜技術では達成困難であった。
【解決手段】 本発明の成膜装置は、真空容器と、この真空容器に、成膜材料源と、イオンビーム発生部と、成膜を施す基板の保持手段と、前記成膜材料源から発生する粒子の飛行速度を検出する手段とを、有する。粒子の飛行速度の計測に基づいて、形成中の膜面を、大きな粒子をエッチングするか、所望の膜を堆積するかを判定する。 （もっと読む）

【課題】超紫外線リソグラフィ用の反射デバイス及びその製造方法、それを適用した超紫外線リソグラフィ用マスク、プロジェクション光学系及びリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】基板３５と、基板３５上に形成され、超紫外線を反射させる材料からなる多重反射層と、を備え、多重反射層は、第１物質層と、第１物質層を表面処理した表面処理膜と、表面処理膜上に形成された第２物質層と、を備える層グループが複数個積層されて形成された反射デバイスである。また、基板３５を準備するステップと、基板３５上に超紫外線を反射させる材料で多重反射層を形成するステップと、を含み、多重反射層を形成するステップは、第１物質層を形成するステップと、第１物質層を表面処理するステップと、表面処理された第１物質層上に第２物質層を形成するステップと、を含み、さらに第２物質層上に、第１物質層の形成、第１物質層の表面処理、第２物質層の形成過程を複数回反復して多重反射層を形成する反射デバイスの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 密着力の高い導電性回路を安価に且つ生産性高く形成することが可能になる導電性回路形成方法を提供する。
【解決手段】 カソード電極１に設けたターゲット２からスパッタさせた金属原子を基板３の表面に堆積させるスパッタリング法で、基板３に回路形成用の導体膜４を形成する工程を有する導電性回路形成方法に関する。ターゲット１として、回路形成用の金属からなる回路形成用金属ターゲット５と、回路形成用金属よりも基板３に対する密着性の高い金属からなる高密着性金属ターゲット６を用い、各ターゲット５，６から同時に金属をスパッタさせて両金属からなる導体膜４を基板３に形成する。 （もっと読む）

【課題】 成膜したアルミナ膜のエージング処理時間を従来よりも大幅に短縮する。
【解決手段】 樹脂フィルムＦを連続的に繰り出す巻出しローラ３と、樹脂フィルムＦを巻き取る巻取りローラ４と、巻出しローラ３と巻取りローラ４との間に配置され樹脂フィルムＦを冷却するキャンローラ５と、キャンローラ５に対向配置され樹脂フィルムＦへアルミニウムを蒸発させる蒸発源６とを備え、キャンローラ５の近傍に酸素ガスと不活性ガスとの混合ガスを導入し、樹脂フィルム上に不完全なアルミナ膜を形成させる混合ガス噴出ノズル１４と、混合ガスの圧力が、キャンローラ５の近傍で、４．３×１０^-2Ｐａ以上１．１×１０^-1Ｐａ以下となるように不活性ガスの導入圧力を制御する圧力調整部１６とを備える。この構成の巻取式真空蒸着装置１で不完全なアルミナ膜を成膜することにより後のエージング処理工程において処理時間を従来よりも大幅に短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】 初期状態において、非晶質炭素材料からなる被膜の表面が粗い場合であっても、摺動初期の段階において、表面粗さを低減させて境界潤滑から流体潤滑に近づけることにより、低摩耗及び低フリクション化が可能な摺動部材と潤滑油の組合せを提供する。
【解決手段】 摺動面に非晶質炭素材料からなる被膜を形成した第一摺動部材と、該第一摺動部材の摺動面と摺動する摺動面にＨｖ４００以上の表面硬さを有する第二摺動部材と、第一摺動部材と第二摺動部材との摺動面に、カーボンスーツを０．２〜２重量％含有させた潤滑油と、を備えてなる。 （もっと読む）

【課題】多孔質金属板と金属板との間の電気抵抗が小さいろう付けによる多孔質金属板と金属板からなる複合板の製造する方法を提供する。
【解決手段】多孔質金属板と金属板をろう付けして複合板を製造する方法において、前記金属板の表面にろう材をスパッタリングによりスパッタリングろう材層を形成し、ついで、前記多孔質金属板をスパッタリングろう材層を挟んで前記金属板に重ねたのち加熱する。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ処理装置よる連続生産とメンテナンスとを繰返す装置の稼動において、異常放電発生の推移と不良基板発生の相関を一度把握し、その後の繰返し装置稼動において異常放電発生推移を監視し、不良基板の発生を抑制する品質管理を一括で行えるようにしたプラズマ処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】 プラズマ処理方法は、電源装置に設けた異常放電検出手段を用いてプラズマに伴う２μｓ以上の持続時間の異常放電を検出し、検出した異常放電の単位時間当たりの発生回数或いは累積発生回数を計数し、計数した異常放電の単位時間当たりの発生回数或いは累積発生回数を予め設定した値と比較し、比較結果に基きプロセス条件を制御することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 新たに添加物を加えなくても、長期に亘って可視光に応答できる光触媒を提供する。
【解決手段】 基材２外側に向けて順に、第１，第２触媒層３，４が積層されている。第１触媒層３が、酸素欠損状態とされたＴｉＯ2-x（xは、０＜x＜０．０２）をもって形成されていると共に、該ＴｉＯ2-xの酸素欠損割合に関して、第２触媒層４から基材方向に離れる側が該第２触媒層４側に比して多くなる傾斜組成構造とされ、第２触媒層４が、ＴｉＯ2をもって形成されている。これにより、第１触媒層３において、イオン注入等の混入を行わなくても、紫外線だけでなく可視光に対しても応答できるようにし、第２触媒層４には、紫外線に基づき光触媒反応を起こすだけでなく、外部からの酸素の侵入を防いで、第１触媒層３（ＴｉＯ2-x）の酸化を抑制する機能をもたせる。 （もっと読む）