【課題】耐欠損性、耐摩耗性にすぐれたダイヤモンド被覆工具を提供する。
【解決手段】 ＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットからなる工具基体表面にダイヤモンド皮膜が被覆されたダイヤモンド被覆工具であって、ダイヤモンド皮膜は、Σ３対応粒界比率の高いダイヤモンド皮膜と無配向ダイヤモンド皮膜、との少なくとも３層以上の積層構造からなり、前記Σ３対応粒界比率の高いダイヤモンド皮膜は、構成原子共有格子点分布グラフにおいて、ΣＮ＋１全体に対してΣ３が４０％以上の分布割合を占める。 （もっと読む）

【課題】耐欠損性、耐摩耗性にすぐれたダイヤモンド被覆工具を提供する。
【解決手段】 ＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットからなる工具基体表面にダイヤモンド皮膜が被覆されたダイヤモンド被覆工具であって、ダイヤモンド皮膜は、配向ダイヤモンド皮膜と無配向ダイヤモンド皮膜との少なくとも３層以上の積層構造、あるいは、配向ダイヤモンド皮膜と高Σ３ダイヤモンド皮膜と無配向ダイヤモンド皮膜との少なくとも３層以上の積層構造からなり、前記配向ダイヤモンド皮膜の（１１０）面または（１１１）面は、傾斜角度数分布グラフにおける０〜１０度の傾斜角区分で５０％以上の度数を占め、また、前記Σ３ダイヤモンド皮膜は、上記に加え、さらに、構成原子共有格子点分布グラフにおいて、ΣＮ＋１全体に対してΣ３が４０％以上の分布割合を占める。 （もっと読む）

【課題】触媒化学気相堆積法（Ｃａｔ−ＣＶＤ＝Ｃａｔａｌｙｔｉｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）において、触媒体の変性防止法及びそれを用いた触媒化学気相堆積装置を提供する。
【解決手段】触媒体を固定する部分等、触媒体が他の物質と接触することで熱がその物質に伝導し、触媒体の温度が他の部分より低下する部分が、その温度低下が原因となって他の部分とは異なる変性をすることを防止するため、触媒体の温度低下部分のみをその変性が起きにくい化合物または混合物とする。上記の触媒体を固定する部分が、固定電極部分でその固定部分がキャップ２２で覆われ、そのキャップ内を触媒体とは反応しないガス２６を充満させる構造にした装置。上記の装置における原料ガスがシリコン系である場合はシリサイド化を防止するために、触媒体をシリコン以外の他の元素を含む化合物または混合物とした装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、触媒ＣＶＤにおいて、アモルファスシリコン堆積膜を安定して成膜が可能な装置及び方法を提供する。更には触媒ＣＶＤに用いる触媒体の処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、基体を収容する反応室と、該反応室内にシリコン原子を含む原料ガスを供給するガス供給手段と、該ガス供給手段より供給される該原料ガスに接触するように配置された触媒体とを備え、少なくとも水素及び／又はハロゲンを含む非単結晶シリコン膜を製造する触媒ＣＶＤ装置であって、触媒体の触媒体保持部近傍の触媒体表面に炭素皮膜が形成されていることを特徴とする触媒ＣＶＤ装置である。 （もっと読む）

【課題】高品質の蒸着膜を得ることができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】チャンバー２０１と、チャンバー２０１内部の所定領域に位置したシャワーヘッド２１１と、シャワーヘッド２１１と対応するように位置し、表面に基板２３２が装着されたチャック２３１と、シャワーヘッド２１１とチャック２３１との間に位置した加熱体２２１と、を含み、シャワーヘッド２１１は、第１ガス注入口２１３及び第２ガス注入口２１４と、第１ガス注入口２１３と連結されたシャワーヘッド２１１内部の空洞部２１２と、空洞部２１２と連結され、チャック２３１と対応するシャワーヘッド２１１の表面に位置した複数個の第１ノズル２１５と、第２ガス注入口２１４と連結され、チャック２３１と対応するシャワーヘッド２１１の表面に位置した複数個の第２ノズル２１６と、を含む。 （もっと読む）

【課題】触媒線を用いた成膜室における成膜処理と、触媒線を退避させた成膜室におけるクリーニング処理とを円滑に実行可能にした成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】触媒ＣＶＤチャンバは、水平方向へ往復移動することにより連通孔３３ｈを開閉するシャッター３７と、シャッター３７に形成されて水平方向へ延びる開放スリット３７ａとを有する。そして、触媒ＣＶＤチャンバは、ホルダ３４が第二位置にある場合には、開放スリット３７ａが直線部分３６ｂを出し入れようにシャッター３７を往復移動することによって連通孔３３ｈを開閉する。 （もっと読む）

【課題】触媒反応に伴う化学エネルギーを利用することによって使用電力量を低減でき、酸化亜鉛等の金属酸化物の薄膜、窒化ガリウムや窒化アルミニウム等の金属窒化物の薄膜、および珪素窒化物の薄膜などを、低コストで効率良く基板に堆積させる堆積装置および堆積方法を提供する。
【解決手段】第１の原料ガスを導入する導入部と、前記導入部から導入された前記第１の原料ガスから反応性ガスを生成する触媒を収容する触媒容器と、前記触媒容器から前記反応性ガスを噴出する反応性ガス噴出部であって、前記反応性ガスの噴出方向に沿って内径が小さくなる縮径部と、前記噴出方向に沿って内径が大きくなる拡径部と、を含む当該反応性ガス噴出部とを含む触媒反応装置；基板を支持する基板支持部；および、前記反応性ガス噴出部から噴出される前記反応性ガスと反応して前記基板に膜を堆積させる第２の原料ガスを供給する供給部；を備える堆積装置。 （もっと読む）

【課題】被加工物表面にガスを供給して集束ビームで前記ガスを活性化させながら加工するとともに、加工の進行状況をモニタリングできる加工システムを提供する。
【解決手段】加工システム１は開口部１９から排気される真空容器２内に電子ビーム８を発生させる電子源３、集光／偏向要素２１、集束レンズ１１、二次電子検出器１７、およびスタック２３とガス導管３９と物質リザーバ４１とからなるガス供給装置２０を備え、第３導管部３０からガスを物体３３の表面３３ａに供給し電子ビームでガスを活性化させながらを物体に照射し、堆積またはアブレーションにより加工する。また、電子ビームを走査させ、物体から発生した二次電子を二次電子検出器で検出し電子顕微鏡画像を取得して、加工の進行状況をモニタリングする。 （もっと読む）

【課題】硬度に優れた領域と潤滑性に優れた領域とを同一平面内に局在させて併せ持つことが可能なＤＬＣ膜を備えた金属部材を提供すること。
【解決手段】少なくとも鉄を含む金属基材１１上にＤＬＣ膜１２を配してなる金属部材１０であって、ＤＬＣ膜１２は、ラマンスペクトルにおいて、波数が１５５０〜１６００［ｃｍ^―１］の範囲に観測されるグラファイトに起因したピークを有し、前記ピークの強度が膜面内に複数異なって混在し、前記ピークの強度の最大と最小の差が１桁以上であること。 （もっと読む）

【課題】ＣＡＴ−ＣＶＤ法により高硬度なビッカース硬度を有したＤＬＣ膜を安定に形成することが可能なＤＬＣ膜製造装置を提供すること。
【解決手段】ＣＡＴ−ＣＶＤ法により基材２１にＤＬＣ膜を形成するＤＬＣ膜の製造装置１０であって、基材２１の被成膜面とは反対側に配置され、基材２１を加熱するための第一手段１１と、所定の温度範囲内で基材２１の温度が変動するように、第一手段１１を制御する第二手段１２とを少なくとも備えたこと。 （もっと読む）

【課題】電流供給時における触媒線の変位を回避させた成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】基板Ｓの成膜面Ｓａを立てて基板Ｓを保持する成膜ステージと、成膜面Ｓａと対向するように吊下げられる触媒線１５と、触媒線１５を加熱するために触媒線１５へ電流を供給する電源とを備え、加熱される触媒線１５へ原料ガスを供給することにより成膜種を生成し、成膜種を成膜面Ｓａに堆積させることによって成膜面Ｓａに薄膜を成膜する。そして、触媒線１５を流れる荷電粒子に作用して触媒線１５を成膜面Ｓａに沿って拘束する拘束磁場を形成して触媒線１５に拘束磁場を加える拘束線２０を備える。 （もっと読む）

【課題】基板上の触媒膜が気中放置されても酸化されない基板ユニットを提供する。
【解決手段】本基板ユニット１は、基板３と、この基板３上に成膜されていて熱アニール温度で微粒子化する触媒膜５と、この触媒膜５の表面を覆って上記触媒膜５を保護するもので熱分解温度が熱アニール温度未満の触媒保護膜７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
電気化学的用途における電気回路に低価格な塗装を提供でき、それらの電気導電性および／又は耐腐食性を強化することができる技術が望まれている。
【解決手段】
溶射技術を用いて高い導電性材料および耐腐食性材料、もしくは高導電性材料および耐腐食性材料に先行する初期物質を耐腐食性金属基板の表面上に被覆し、耐腐食性金属基板の全表面より少ない当該耐腐食性金属基板表面の一部を覆う複数スプラットを当該耐腐食性金属基板表面上に生成する方法。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの炭化物材料を含んでいる材料からなる本体と、ダイアモンド材料で構成され前記本体に設けられて摺動面を生成するコーティングと、を備えているメカニカルシールアセンブリのシールリングに関する。本発明は、前記本体が、前記コーティングのダイアモンド材料に適合するダイアモンド材料で作られた微粒子部を少なくとも１つの炭化物材料を含んでいる前記材料へ入れることによる２成分の材料で形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】触媒線の温度を高い信頼性の下で計測することによって、触媒線を利用した成膜処理の安定性を向上させた成膜装置を提供する。
【解決手段】触媒線１５を加熱することによって触媒線１５に可視光を放射させる電源と、成膜室に形成されて成膜室内からの可視光を外部へ透過する透過窓２２と、成膜室の外部に配置されて透過窓２２を介した光度を検出する光度検出部２０と、予め前記触媒線が所定温度にあるときの光度に関する目標光度データを記憶する記憶部２５Ｂと、光度検出部２０の検出結果と目標光度データとを比較して触媒線１５の温度が所定温度であるか否かを判断する制御部２５と、制御部２５における判断結果を出力する出力部２６とを有する。 （もっと読む）

【課題】触媒線を利用した成膜処理において成膜ガスの供給状態を安定させた成膜装置を提供する。
【解決手段】一対の基板Ｓを立てた状態で保持して各基板Ｓを対向させる第一ステージと、各基板Ｓの間隙（反応空間）に配設された複数の触媒線１５と、反応空間へ成膜ガスを供給するガス供給部２０とを有し、ガス供給部２０が、反応空間の外側に配設されて基板Ｓの面方向に沿って延びる複数の噴射孔Ｎ１と、各噴射孔Ｎ１の開口を囲う遮蔽片２２ａとを有する。 （もっと読む）

【課題】原料ガス中の有機溶媒成分を効率よく除去するとともに原料ガスに含まれる有機金属化合物の分解を抑制することができる成膜方法と成膜装置を提供する。
【解決手段】金属有機化合物を有機溶媒に溶解した溶液を気化して原料ガスを生成する工程と、原料ガスを、基板１の設置された反応室１０内に導入する工程と、を有し、原料ガスが基板１に到達する前に、貴金属を含む触媒と原料ガスと酸素ガスとを接触させ、有機溶媒を分解した上で、基板１上に金属を含む膜２を成膜する。 （もっと読む）

【課題】ランニングコストや生産性を向上した高温媒体ＣＶＤ法を行う化学蒸着装置を提供する。
【解決手段】減圧状態の処理チャンバー内のガス導入ヘッド３１から導入された原料ガスが、エネルギー印加機構５により所定の高温に維持された高温媒体４の表面に接触するか表面付近を通過する際に生じた生成物が、基板ホルダーにより保持された基板９の表面に到達して薄膜が作成される化学蒸着装置において、ガス導入ヘッド３１を高温媒体４に沿って配置することで、原料ガスの使用効率を向上させる。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス時間を削減可能にして薄膜の生産性を向上した成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】触媒ＣＶＤチャンバ１３は、成膜位置にある基板Ｓの面方向に沿って延びる退避室３１を搭載し、退避室３１に収容されたホルダ３３を昇降させて各触媒線３５をそれぞれ成膜室２１と退避室３１とに選択的に配置する。そして、成膜室２１に成膜ガスを供給する場合には、各触媒線３５をそれぞれ成膜室２１へ移動させ、成膜室２１にクリーニングガスを供給する場合には、各触媒線３５をそれぞれ退避室３１へ移動させ、ゲートバルブＧＶ２を閉じる。 （もっと読む）

【課題】ランニングコストや生産性を向上した高温媒体ＣＶＤ法を行う化学蒸着装置を提供する。
【解決手段】減圧状態の処理チャンバー内のガス導入ヘッド３１から導入された原料ガスが、エネルギー印加機構５により所定の高温に維持された高温媒体４の表面に接触するか表面付近を通過する際に生じた生成物が、基板ホルダーにより保持された基板９の表面に到達して薄膜が作成される化学蒸着装置において、複数のガス導入ヘッド３１を介して処理チャンバー内に原料ガスを導入すると共に、各ガス導入ヘッド３１からの原料ガスの導入量を独立して制御する。 （もっと読む）