【課題】基材に溶射皮膜が形成された溶射部材の製造に際し、密着性に優れた溶射皮膜を形成することができる溶射部材の製造方法を提供する。
【解決手段】基材に溶射皮膜が形成された溶射部材の製造に際し、主粉末２１の表面に硬質材料からなるラミネート層２４を形成した第１の溶射粉末２５と、前記ラミネート層の融点を低下させる材料からなる第２の溶射粉末２７とを同時に溶射し、前記第２の溶射粉末を前記第１の溶射粉末に付着させることにより、前記第１の溶射粉末の前記第２の溶射粉末との付着部において前記主粉末を露出させ、前記主粉末の露出した露出部を介して前記第１の溶射粉末と前記基材側とを結合させる、及び／又は、前記主粉末の露出した露出部を介して前記第１の溶射粉末どうしを結合させるようにする。 （もっと読む）

【課題】
ガスタービン等の高温シール用コーティングとして、優れた被削性と遮熱性を有し、アブレイダブルコーティングとＴＢＣの機能を併せ持つコーティングを提供する。
【解決手段】
高温シール用アブレイダブルコーティングとして、部分安定化ジルコニアとＮｉまたはＣｏ基合金の混合コーティングを用いる。混合コーティング中のＮｉまたはＣｏ基合金の比率は、コーティング断面組織における面積率で、１０〜５０％とする。さらに、前記ＮｉまたはＣｏ基合金の組成は、ＮｉとＣｏの少なくとも１つ、または、ＮｉとＣｏの合計：５０〜７５重量％、Ｃｒ：５〜４０重量％及びＡｌ：１〜３０重量％とする。 （もっと読む）

【課題】半導体等の製造における静電チャック、ヒーター、プラズマ処理チャンバーなどの部材やパワーデバイスの放熱絶縁基板に使用する部材に優れた熱伝導率と絶縁性持つ窒化アルミニウムの溶射膜を形成することが望まれているため、気孔率が低く、窒化アルミニウムの含有量の高い溶射膜を提供する。
【解決手段】基材上の少なくとも一部が溶射膜を形成してなり、当該溶射膜を構成する粒子は平均的な直径が１μｍ以上１０μｍ以下の略球状をした窒化アルミニウム微粒子から構成されており、また、窒化アルミニウム粒子の隙間がＩＩＩＡ族及び／又はＩＩＡ族化合物で埋められて、気孔率が１５％以下であることを特徴とする窒化アルミニウム溶射部材に関し、このような部材は平均粒径が１〜１０μｍの窒化アルミニウム粉末、または同様の窒化アルミニウム粉末にＩＩＩＡ族及び／又はＩＩＡ族化合物を含有させた混合粉末を用いて溶射を行うことにより製造することができる。 （もっと読む）

【課題】内燃機関等の金属材料からなる摩耗した部材の再利用を図ることができる部材の補修方法を提供する。
【解決手段】鋳鉄等の金属材料からなる内燃機関構成用部材１０の磨耗部分にＮｉ−Ａｌ系合金をアークワイヤ溶射法により溶射してボンド層１１を形成した後、該ボンド層１１上にＣｒ系ステンレス鋼をアークワイヤ溶射法によって０．１〜３ｍｍの厚さを有する肉盛層１２を形成し、上記ボンド層１１を介して当該肉盛層１２が形成されるようにして当該肉盛層を上記部材１０の磨耗部分に強固に密着させて肉盛層の剥離を確実に防止することができる構成とする。 （もっと読む）

【課題】浸炭性雰囲気で使用される金属部材の耐摩耗性と耐焼付き性を向上しかつ優れた耐浸炭性を有する溶射皮膜を表面に形成した金属部材を提供する。
【解決手段】Cr炭化物，Ｗ炭化物およびTi炭化物の中から選ばれる１種または２種以上の炭化物を30〜95質量％含有し、残部がNi，CoおよびFeの中から選ばれる１種または２種以上を含有する合金と不可避的不純物からなる溶射皮膜２をトップコートとして表面に有する金属部材。 （もっと読む）

【課題】半導体加工装置の反応容器等に好適な優れた外観を有する溶射皮膜被覆部材、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材の表面がＲＥＭ酸化物の溶射皮膜で被覆され、溶射皮膜の外表面から深さ50μｍ以下の領域に形成される緻密な組織の気孔率が１％以下であり、かつ緻密な組織が透明または白色を呈するとともに、溶射皮膜の外表面の粗さがＲa１〜３μｍの範囲内を満足する優れた外観を有する溶射皮膜被覆部材。 （もっと読む）

【課題】長期間の使用においてもロール表面へドロスが付着せず、鋼板品質を維持することができる溶融金属めっきライン、特に溶融亜鉛めっきラインにて使用する浴中ロールを提供する。
【解決手段】ロール母材表面に連続する凹凸を設けた溶融金属めっき用浴中ロールにおいて、前記凹凸のピッチＰが１ｍｍ以上１０ｍｍ以下、かつ前記凹凸の底部の深さｔがピッチＰの１／２以下で０．２ｍｍ以上５ｍｍ以下、断面視で頂部の曲率半径Ｒが０．１ｍｍ以上、底部の曲率半径Ｒ’が下式（ａ）を満たし、かつ前記頂部の曲線部と前記底部の曲線部とを接続する隣り合う直線部のなす角度θが９０°以上であることを特徴とする溶融金属めっき用浴中ロール。
１．５Ｒ≦Ｒ’≦Ｐ²／（８ｔ）−Ｒ＋ｔ／２ （ａ） （もっと読む）

【課題】酸化ガドニウム粉末とアナターゼ型チタニア粉末を使用して溶射によりセラミックス皮膜を製造する場合、プラズマ溶射を用いた場合は、フレーム温度が15000℃から30000℃にもなる。また従来のフレーム溶射はフレーム温度が2200℃から3400℃になり粉末が容易に溶融し、また昇華、分解することにより、溶射粉末と異なる変態した皮膜、組成が変わる皮膜となる。低温で溶射することにより要求を満足する蛍光性と光触媒によう洗浄性を有する優れた溶射皮膜を得る安価な方法を提供する。
【解決手段】 従来のフレーム溶射と異なり、ガンの燃焼室の後に、溶射粉末と燃焼ガスを供給ノズルからフレームの軸に向けて燃焼ガスとスラリー状溶射微粉末を噴射し、燃焼室に導入の酸素量と供給ノズルから導入する燃焼ガスとの容量を調整してフレーム中に存在するセラミックス微粉末の温度を制御し、また燃焼生成ガスにより加速して、要求蛍光性と高温での密着性、および光触媒による洗浄性を有する溶射皮膜を形成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 大気プラズマ溶射法で、Ｙ_２Ｏ_３の溶射膜を備えたプラズマエロージョンに強いプラズマ処理容器内部材の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のプラズマ処理容器内部材の製造方法は、１組のアノード１１とカソード１２を有するプラズマ溶射装置を用いて従来と同じ方法で気孔率５％以上のＹ_２Ｏ_３の溶射膜２１を形成する。その後、この溶射膜２１の上に、気孔率が５％未満のＹ_２Ｏ_３の溶射膜２２を形成する。気孔率が５％未満の溶射膜の形成方法は、つぎの通りである。１組のアノードとカソード間で放電し、作動ガスを供給して発生するプラズマに、粒径が１０〜４５μｍのＹ_２Ｏ_３の粉末状素材を供給する。粒径を通常のプラズマ溶射の場合より小さくすることで、気孔率が５％未満のＹ_２Ｏ_３の溶射膜２２を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 大気プラズマ溶射法で、Ｙ_２Ｏ_３の溶射膜を備えたプラズマエロージョンに強いプラズマ処理容器内部材の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のプラズマ処理容器内部材の製造方法は、１組のアノード１１とカソード１２を有するプラズマ溶射装置を用いて従来と同じ方法で気孔率５％以上のＹ_２Ｏ_３の溶射膜２１を形成する。その後、この溶射膜２１の上に、気孔率が５％未満のＹ_２Ｏ_３の溶射膜２２を形成する。気孔率が５％未満の溶射膜の形成方法は、つぎの通りである。１組のアノードとカソード間で放電し、作動ガスを供給して発生するプラズマに、粒径が１０〜４５μｍのＹ_２Ｏ_３の粉末状素材を供給する。粒径を通常のプラズマ溶射の場合より小さくすることで、気孔率が５％未満のＹ_２Ｏ_３の溶射膜２２を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】セラミックス粉末を使用して溶射によりセラミックス皮膜を製造する場合、プラズマ溶射を用いた場合は、フレーム温度が15000℃から30000℃にもなる。また従来のフレーム溶射はフレーム温度が2200℃から3400℃になり粉末が容易に溶融し、また昇華、分解することにより、溶射粉末と異なる変態した皮膜、組成が変わる皮膜となる。低温で溶射することにより要求を満足する機能性を有する優れた皮膜を得る安価な方法を提供する。
【解決手段】 従来のフレーム溶射と異なり、ガンの燃焼室の後に、溶射粉末と燃焼ガスを供給ノズルから
フレームの軸に向けて燃焼ガスとスラリー状溶射微粉末を噴射し、燃焼室に導入の酸素量と供給ノズルから導入する燃焼ガスとの容量を調整してフレーム中に存在するセラミックス微粉末の温度を制御し、また燃焼生成ガスにより加速して、要求機能特性と密着性を有する皮膜を形成したことを特徴とする。 （もっと読む）

基材の被覆方法は、１４〜２０重量％のＣｒ、５〜８重量％のＡｌ、８〜１２重量％のＣｏ、３〜７重量％のＴａ、０．１〜０．６重量％のＨｆ、０．１〜０．５重量％のＹ、約１重量％以下のＳｉ、０．００５〜０．０２０重量％のＺｒ、０．０４〜０．０８重量％のＣ、０．０１〜０．０２重量％のＢを含み、残部はニッケル（Ｎｉ）及び不可避不純物である、レニウムを実質的に含まないボンドコート組成物の内側ボンドコート層を、基材上に堆積させる工程と、内側ボンドコート層を覆うアルミニウム含有層を形成する工程と、適宜、アルミニウム含有層を覆う遮熱コーティング組成物を堆積させる工程とを含む。 （もっと読む）

金属基材用のコーティング系は、ボンドコート内側層と、ボンドコート内側層を覆うアルミニウム含有層とを含む、強化ボンドコートを含む。ボンドコート内側層は、１４〜２０重量％のＣｒ、５〜８重量％のＡｌ、８〜１２重量％のＣｏ、３〜７重量％のＴａ、０．１〜０．６重量％のＨｆ、０．１〜０．５重量％のＹ、約１重量％以下のＳｉ、０．００５〜０．０２０重量％のＺｒ、０．０４〜０．０８重量％のＣ、０．０１〜０．０２重量％のＢを含み、残部はＮｉ及び不可避不純物である、レニウムを実質的に含まないボンドコート組成物を堆積させることによって形成される。このコーティング系は、イットリア安定化ジルコニアとすることができる任意選択の遮熱コーティングを含む。 （もっと読む）

【課題】白色のＹ_２Ｏ_３溶射粉末材料を用いて、黒色の酸化イットリウム溶射皮膜を形成するための技術を提案する。
【解決手段】白色の溶射用Ｙ_２Ｏ_３粉末材料を用い、プラズマ・ジェット発生用作動ガスとして、Ａｒ、Ｈｅなどの不活性ガス中に水素ガスを添加した混合ガスによるプラズマ溶射法によって、プラズマ熱源中に含まれる原子状の水素が有する強い還元作用で、Ｙ_２Ｏ_３粉末の酸素の一部が消失したＹ_２Ｏ_３−ｘの黒色粒子に変化させて、基材表面に、黒色酸化イットリウム溶射皮膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、大気プラズマ溶射法で、気孔率が５％未満のＹ_２Ｏ_３の溶射膜を備えたプラズマ処理容器内部材と、その製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のプラズマ処理容器内部材の製造方法は、複数組のアノード１０１とカソード１０２を溶射方向に延びる中心軸ａの周囲に配置し、各アノード１０１とカソード１０２間に発生するプラズマ流を収束器１１０で合流させて前記中心軸上の先端に開口する１のノズル１２０から大気中に放射するプラズマ溶射装置１００を用い、該プラズマ溶射装置１００の前記中心軸ａ上で粉末投入パイプ１１５からＹ_２Ｏ_３の粉末状素材を供給する。複数のアノードとカソードにより高温のプラズマを生成し、中心軸後方からＹ_２Ｏ_３の粉末状素材を供給するため、高温で低粘性の溶融粒子となり、基材の表面に気孔率５％未満の溶射皮膜を形成することができる。 （もっと読む）

【解決手段】基板の最表層に希土類酸化物溶射膜を有することを特徴とするウエハの提供。
【効果】プラズマエッチング装置、プラズマ成膜装置のクリーニング、安定化時に半導体ウエハの減肉を防ぐことができ、膜硬度が高いため、ダミーウエハとして用いた場合、その寿命を向上させることができるウエハ。 （もっと読む）

【課題】遮熱コーティング用のアルミナ保護皮膜、特にガスタービン部品の種々の表面に使用する遮熱コーティング用の溶射アルミナ系保護皮膜を提供する。
【解決手段】溶射アルミナ系皮膜１８を遮熱コーティング１６上に堆積して、タービンエンジン部品などの物品１０にＣＭＡＳ抑制と耐汚損性の両方を付与する。アルミナ系皮膜はＣＭＡＳの融点をタービンエンジン部品の運転温度を超える温度に上昇させる。溶射アルミナ系皮膜の表面粗さは４．０μｍ未満〜０．７５μｍである。アルミナ系皮膜は、その総重量に基づいて６０重量％以上のアルミナを含有する。 （もっと読む）

【課題】Ｎｉ基又はＣｏ基超合金タービン部品の耐酸化性を改良する。
【解決手段】タービン部品の表面に、白金アルミナイドの第１内側層１４と、第１内側層上に設けられたＭＣｒＡｌＸ合金（式中、ＭはＦｅ、Ｎｉ及びＣｏから選択され、Ｘはイットリウム又は他の希土類元素から選択される。）を含む第２外側耐酸化性層１６とを堆積することによって、タービン部品表面に二層保護皮膜１２を成膜する。 （もっと読む）

【課題】溶射前に基材表面を特定の処理手段を組み合わせた粗面化と清浄化により、基材と得られる溶射皮膜とが過酷な条件下であっても密着可能な密着性を有する溶射方法を提供する。
【解決手段】金属基材表面をブラスト処理し、次いで該金属基材表面に法線方向から外力を作用させた状態で減圧アーククリーニング処理を行った後、溶射処理をする金属基材表面に密着性に優れた溶射皮膜を形成する溶射方法。 （もっと読む）

【課題】 溶射固化し形成された溶射体（被覆体）の表面（被覆体表面）に存する凹凸を平滑化する方法を提供する。
【解決手段】既存の溶射体である被覆体の凹凸を有する被覆体表面に酸素を含む気体と共に溶射体被覆材料を吹き付け、溶射体被覆材料が被覆体表面において溶融することで被覆体表面に溶着し被覆体表面を覆うことにより該凹凸を平滑化する方法であって、該溶射体被覆材料は、耐火性粒子と、金属粒子と、耐火性粒子の軟化点よりも低い軟化点を有する軟化性粒子と、を含むものである、方法である。 （もっと読む）