【課題】装置を小型化でき、被洗浄物を容易に乾燥することができるようにする。
【解決手段】洗浄籠内に被洗浄物を収容した状態で洗浄する方法において、洗浄時、洗浄液供給手段を用いて処理槽に洗浄液を供給して洗浄籠内に収容した前記被洗浄物を洗浄し、洗浄後、前記洗浄液供給手段を用いて前記処理槽に供給された洗浄液を前記洗浄液供給手段に回収し、すすぎ時、すすぎ液供給手段を用いて前記処理槽にすすぎ液を供給し、すすぎ終了後、前記すすぎ液供給手段を用いて前記処理槽に供給されたすすぎ液を前記すすぎ液供給手段に回収し、乾燥時、ノズルを有する乾燥手段を用いて前記ノズルを前記処理槽の前記洗浄籠内に進入させて熱風を前記被洗浄物に吹き付けるとともに、排出手段を用いて乾燥時に出る液体を前記処理槽から排出し、乾燥後、前記乾燥手段を用いて前記ノズルを前記洗浄籠及び前記処理槽から退出させる。 （もっと読む）

【課題】切削油および金属粉の洗浄性、洗浄廃液の油水分離性および洗浄時の抑泡性のいずれもが優れる金属用液体洗浄剤を提供する。
【解決手段】本発明の金属用液体洗浄剤は、（Ａ）下記一般式（１）で表される非イオン性界面活性剤１〜１０質量％と、（Ｂ）有機酸系キレート剤１〜２０質量％と、（Ｃ）重量平均分子量５０００以上のカチオン性高分子１〜５質量％とを含有し、ｐＨが９以上である。一般式（１）：Ｒ^１Ｏ（ＥＯ）_ｎ（ＰＯ）_ｍＨ、（式中、Ｒ^１は炭素数８〜１１のアルキル基またはアルケニル基、ＥＯはエチレンオキシド、ＰＯはプロピレンオキシドである。ｎはＥＯの平均付加モル数で、１〜１０であり、ｍはＰＯの平均付加モル数で、０〜５である。） （もっと読む）

（ｉ）〜（ｉｖ）を含む組成物：（ｉ）１０〜２５重量％の１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン、好ましくは１６〜２４重量％の１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン、（ｉｉ）６２〜７０重量％のトランス−ジクロロエチレン、好ましくは６３〜６８重量％のトランス−ジクロロエチレン、（ｉｉｉ）１０〜２１重量％のノナフルオロメトキシブタン、好ましくは１１〜１７重量％のノナフルオロメトキシブタン、（ｉｖ）１〜４重量％のノナフルオロエトキシブタン、好ましくは２〜４重量％のノナフルオロエトキシブタン。上記組成物の洗浄剤、溶剤、脱脂剤、およびフラックス除去剤または乾燥剤としての使用。 （もっと読む）

【課題】アルミホイールの製造方法において、鋳造後にノンクロメート表面処理を施した場合であっても、アルミホイールとノンクロメート皮膜との間での十分な密着性と耐食性を達成できる手段の提供。
【解決手段】アルミホイールの製造方法において、当該アルミホイール表面における酸化物Ｓｉに対する金属ＳｉのＳｉ原子割合の比が０．０１〜９となるまで、アルカリビルダー、有機ビルダー及びキレート剤を含有するアルカリ洗浄液で当該アルミホイール表面をケミカルエッチングする清浄化工程を含む、アルミホイール表面の洗浄に際してショットブラスト処理工程の省略が出来ることを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】高倍率に希釈しても、短時間で接着剤を洗浄除去できる洗浄性と、洗浄の際に基材に対してダメージを与えない非侵食性が優れている洗浄剤原液を提供すること。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で表される化合物（ａ）と、水酸化アルキルアンモニウム（ｂ）とを水中に含有することを特徴とする仮止め接着剤用洗浄剤原液。
Ｒ１Ｒ２Ｎ−Ｒ３−ＯＨ （１）
（上記一般式において、Ｒ１、Ｒ２は、水素または炭素数が１〜４のアルキル基を表し、また、Ｒ３は、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、または、−ＣＨ₂−ＣＨ（ＣＨ₃）−を表す。） （もっと読む）

【要 約】
【課 題】製造コストの増大を抑制しつつ表面欠陥の少ない表面清浄性に優れる金属製品を得ることが可能な金属製品処理の前処理装置およびその方法を提供する。
【解決手段】廃液タンク（５）と不純物除去装置（４）間は逆洗用の循環配管(９，１０)で接続し、かつ廃液タンク（５）と水処理設備間を水処理送り配管（８）で接続してなる金属製品処理の前処理装置。この前処理装置を用い、不純物除去装置（４）の洗浄時に、水処理設備に送るまでの間、廃液タンク（５）内に一時的に溜められた使用済み洗浄液を、不純物除去装置（４）の逆洗系統に流し、不純物除去装置（４）の逆洗液として循環させて再利用したのち、不純物を含む使用済み逆洗液を水処理設備へ送る金属製品処理の前処理方法。 （もっと読む）

【課題】建築鋼構造物等に対して、旧塗膜の剥離、酸化被膜の除去の後に再塗装を行うために、自然環境に優しく、また粉塵の発生や騒音も少ない作業環境を改善した素地調整工法を提供すること。
【解決手段】金属基材上の酸化皮膜及び有機被膜や無機被膜の旧塗膜を除去するための素地調整工法において、
該旧塗膜上に塗膜浸透軟化剤を塗布する工程、
該塗膜浸透軟化剤と共に該旧塗膜を剥離・除去する工程、
該旧塗膜が除去された金属基材上に黒皮除去剤を塗布する工程、
該黒皮除去剤と共に酸化被膜を除去する工程、
を有するブラスト処理を必要としないことを特徴とする素地調整工法。 （もっと読む）

【課題】高速度鋼基板がＴｉＮ硬質層、ＴｉＣＮおよび／またはＴｉＡｌＮ硬質層のいずれによって被覆されているかに関わりなく、工業上はるかに容易かつ柔軟に前記基板の層除去を行い得る方法を、提案する。
【解決手段】ＴｉＮ，ＴｉＣＮ，ＴｉＡｌＮからなる少なくとも一つの層を備えた、高速度鋼からなる物体の層を除去するために、過酸化水素と、塩基、ならびにリン酸塩、ホスホン酸塩、ホスホン酸のグループのうちの一つの物質とを有する、アルカリ性溶液が使用される。 （もっと読む）

【課題】鋼帯の洗浄方法におけるリンス工程において、リンス剤として界面活性剤を含有する水溶液を用いて、かつ、リンス剤を循環して使用しても、安定したリンス効果が得られる鋼帯の洗浄方法を提供する。
【解決手段】鋼帯に付着する汚れを洗浄剤により洗浄する洗浄工程（１）と前記洗浄工程（１）が施された後の前記鋼帯をリンス剤Ｗによりリンスするリンス工程（２）を有する鋼帯の洗浄方法であって、前記リンス工程（２）で用いるリンス剤は、下記一般式（１）：


で表されるカチオン性界面活性剤（ａ）を含有する水系組成物を使用する。 （もっと読む）

【課題】鉄系金属および非鉄系金属の洗浄において、低温（５０±５℃）で十分な洗浄性能、噴霧洗浄が可能な低起泡性能、および防錆機能を有する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】下記の一般式（１）で表される非イオン界面活性剤、および下記の一般式（２）で表される非イオン界面活性剤を含有することを特徴とする金属洗浄剤組成物。
Ｒ^１−ＣＨ（Ｒ^２）−ＣＨ_２−Ｏ−（ＡＯ^１）ｎ−Ｈ ・・・（１）
（式中、Ｒ^１、Ｒ^２は直鎖または分岐の脂肪族炭化水素基を表し、ＡＯ^１は炭素数が２〜４のオキシアルキレン基を表し、ｎは１〜１００である。ＡＯ^１の付加形態はランダム付加、ブロック付加またはこれらの混合付加である。）
Ｒ^３−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｐ−［（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｑ／（ＡＯ^２）ｒ］−Ｈ ・・・（２）
（式中、Ｒ^３は炭素数８〜１５である脂肪族炭化水素基、ｐ，ｑ，ｒは平均付加モル数（ｐ＝０〜５、ｑ＝０〜１５、ｒ＝０〜５、ｐ＋ｑ＋ｒ＞５）、ＡＯ^２は炭素数３または４のオキシアルキレン基、［（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｑ／（ＡＯ^２）ｒ］はモル比ｑ／ｒのランダム重合鎖である。） （もっと読む）

【課題】処理されたアルミニウム合金板の材料特性、表面特性及び耐食性に優れ、更に処理効率の良好な連続処理方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム合金板に熱処理と表面処理とを含む一連の連続処理を施す方法であって、溶体化処理後にアルミニウム合金板を４０〜１３０℃に冷却する工程と、冷却したアルミニウム合金板をアルカリ溶液で処理することによって、１０ｍｇ／ｍ^２以上のエッチング量でアルカリエッチングを施す工程と、アルカリエッチングを施したアルミニウム合金板を酸溶液で処理することによって、１０ｍｇ／ｍ^２以上のエッチング量で酸エッチングを施す工程と、酸エッチングを施したアルミニウム合金板を５０℃以上で熱処理する工程と、を含むアルミニウム合金板の連続処理方法。 （もっと読む）

【課題】硬質表面に付着した食品・飲料に由来する変質した重度の汚れの洗浄性に優れるとともにアルミニウム腐食とスケール付着・蓄積の両方を防止でき、且つ長期保存安定性により優れた水性液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ剤、（Ｂ−１）カルシウム化合物、（Ｂ−２）マグネシウム化合物、（Ｃ）有機酸又はそのアルカリ金属塩等、並びに、（Ｄ）ホスホン酸又はそのアルカリ金属塩等、及び高分子カルボン酸又はそのアルカリ金属塩等から選ばれる一種以上の化合物、を含有し、（Ｂ−２）／（Ｂ−１）のモル比が特定範囲にある水性液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】短時間に、かつ洗浄廃液処理のＣＯＤＭｎ濃度が低い新缶ボイラの缶内処理方法を提供する。
【解決手段】エルソルビン酸、アスコルビン酸およびそれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも一種と、金属水酸化物と、リン酸塩と、を添加した純水を新設ボイラ缶内に供給し、温度120〜230℃（圧力0.2〜2ＭＰa）の条件下に4〜24時間加熱処理する新設ボイラの缶内処理方法である。エルソルビン酸、アスコルビン酸およびそれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも一種や金属水酸化物、リン酸塩の配合量を特定の量とすることにより、より洗浄、安定化効果が向上した結果が得られる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、強力な脱脂能力があり、かつアルミニウムの溶解を抑えることができるアルミニウム又はその合金表面の前処理方法を提供することを目的とする。また、本発明は、さらに前処理後に行なう表面処理、特に前処理による表面状態の影響を受け易い３価クロム化成処理の外観や耐食性を改善することができるアルミニウム又はアルミニウム合金表面の前処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明によると、アルミニウム化合物を０．１〜１０ｇ／Ｌ含有し、ＰＨが８〜１２であるアルミニウム又はアルミニウム合金用アルカリ脱脂洗浄剤が提供される。また、当該アルカリ脱脂洗浄剤を用いたアルミニウム又はアルミニウム合金の前処理方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】環境汚染を引き起こすリン化合物や窒素化合物を実質的に含有することなくｐＨ値が１０．５〜１２．０の範囲で優れた脱脂洗浄性を発揮することができ、しかも長期間の使用によって油脂類が比較的多量に含有した場合においても脱脂洗浄性を十分に維持することが可能な脱脂液を提供すること。
【解決手段】少なくとも１種のアルカリケイ酸塩を含む２種以上のアルカリビルダーと、下記一般式（１）：
Ｒ^１Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ−Ｈ （１）
（式中、Ｒ^１は、炭素数が１０〜１２であるアルキル基を示し、ｎは、７〜９の整数を示す。）
で表される第一の非イオン系界面活性剤と、下記一般式（２）：
Ｒ^２Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｍ−Ｈ （２）
（式中、Ｒ^２は、１分子中に少なくとも２つの芳香族環を有する基を示し、ｍは、６〜１０の整数を示す。）
で表される第二の非イオン系界面活性剤と、を含むものであり、
ｐＨ値が１０．５〜１２．０であり、且つリン化合物及び窒素化合物を実質的に含まないことを特徴とする脱脂液。 （もっと読む）

【課題】金属配線および低誘電率絶縁膜を有する半導体基板を化学機械研磨した後にその基板表面の汚染を除去する際、金属配線を腐食させず、かつ低誘電率絶縁膜の電気特性を低下させず、また低誘電率絶縁膜に機械的損傷を与えることなく、金属配線上および低誘電率絶縁膜上の残存砥粒、残存研磨くず、金属イオン等の不純物の除去能力が高い洗浄用組成物、これを用いた半導体基板の洗浄方法、およびこの洗浄方法を含む半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の洗浄用組成物は、化学機械研磨後に使用され、架橋構造を有し、平均分散粒径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満である有機重合体粒子（Ａ）および錯化剤（Ｂ）を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

酸性環境の金属腐食を防止するために有用なリン成分を含む処理流体、及び関連する使用方法を提供する。前記処理流体の使用方法の例には、水性塩基流体、弱酸又はその塩、及びリン成分を含む処理流体を提供すること；及び処理流体を地下層に導入することを含むことができる。 （もっと読む）

本発明は、（i）リン酸、二リン酸またはポリリン酸のエステル；（ii）下記一般式（I）：



（式中、基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、各々同じかまたは異なり、水素原子、アルキル基、アルケニル基またはアシル基である）で表されるベンゾトリアゾール誘導体；（iii）一般式：Ｒ⁶−ＰＯ−（ＯＨ）₂ （II）（式中、基Ｒ⁶はアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアリールアルキル基である）で表されるホスホン酸；ならびに（iv）酸源を含有する、腐食しやすい金属または合金の表面の洗浄用酸性組成物に関する。本発明は、さらに使用溶液および洗浄方法に関する。
（もっと読む）

【課題】銅配線の腐食抑制効果（銅腐食抑制効果）が優れ、かつ接触抵抗に影響を及ぼさない銅配線用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】銅腐食抑制剤（ＲＥ）及び水（Ｗ）を含有してなり、２５℃でのｐＨが３〜１４であり、かつ式（１）を満たしてなることを特徴とする銅配線用洗浄剤を用いる。

【数１】


｛式中、Ｅは２５℃での酸化還元電位（Ｖ、ｖｓＳＨＥ）、ｐＨは２５℃でのｐＨを表す。｝

また、上記の銅配線用洗浄剤を半導体基板又は半導体素子に連続的又は断続的に供給して、銅配線を有する半導体基板又は半導体素子を洗浄することを特徴とする半導体基板又は半導体素子の洗浄方法を用いる。
なし （もっと読む）

【課題】 同一水系内で水と接触するアルミニウム材と鉄材及び／又は銅材とを構成要素として含む装置・設備において、それぞれの金属材の表面に付着したスケールを、同時に除去することができるスケール洗浄剤及びそれを用いた金属材表面のスケール除去方法を提供すること。
【解決手段】 乳酸又は乳酸とその塩を含んでなることを特徴とするスケール洗浄剤、及びそれを用いたスケール除去方法。前記スケール洗浄剤には還元剤、スケール再付着防止剤を含んでいてもよい。
なし （もっと読む）