【課題】 銅エッチング廃液からより濃度の高い塩酸を回収する方法及び塩酸蒸発後の濃縮液中の銅も電解等により簡便に回収することができる方法の提供。
【解決手段】 塩化銅と塩酸を主成分とする銅エッチング廃液に燐酸を加えて加熱することにより、塩酸を蒸発し、その蒸発蒸気を凝縮して塩酸を回収するものであり、濃度１５％以上の塩酸を回収することができる。
その際には、塩酸の一部を蒸発させて塩酸を回収し、その後濃縮液を希釈して残りの塩酸を蒸発させて最初の塩酸より濃度の低い塩酸を回収するのが好ましい。
また、塩酸蒸発後の濃縮液からは、結晶を析出させて燐酸第２銅を回収するか、該濃縮液を希釈して電解することにより金属銅を回収するのがよい。
さらに、その際には該金属銅を回収した後の電解液を前記銅エッチング廃液に燐酸分として循環して繰返し使用するのがよい。 （もっと読む）

本発明は、被処理物である固体もしくは固体の集合体あるいはジェル状の物体に、化学反応性液体を所定速度で吹き付けてエッチングする液相エッチング方法と、被処理物を保持する機構と保持された被処理物に化学反応性液体を吹き付ける為のノズル構造を有する液相エッチング装置を提供する。本発明により、エッチングの精度を維持しつつ、エッチング速度を大幅に向上させることが出来る。
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【課題】 エッチング液のエッチング速度をコントロールし、液あたりの悪い部分のエッチング性を向上させ、液あたりの差によるエッチング速度差の少ないエッチング液を提供する。
【解決手段】 ベースのエッチング液と抑制剤とを含む金属のエッチング液であり、エッチング速度がエッチング液の攪拌速度に非依存または逆依存することを特徴とした金属のエッチング液である。 （もっと読む）

【課題】 銅エッチング液の低コスト性を満足させながら、優れたエッチング速度を付加し、塩化水素による臭気環境を改善することのできる、銅エッチング液が提供されていない。
【解決手段】 エッチング装置５において、濃度が約２ｍｏｌ／Ｌである塩化第二銅を主成分とし、１．５ｍｏｌ／Ｌ以下の濃度となるように塩化第二鉄を添加したことを特徴とするエッチング液によりエッチングを行い、エッチング装置５の使用済みエッチング液に含有される、塩化第二銅と塩化第二鉄との濃度をサンプリング装置３において計測し、塩化第二銅の濃度と塩化第二鉄の濃度とを、薬剤補充量調整装置４において調整してエッチング前の濃度になるように濃度制御を行う。 （もっと読む）

【課題】 動圧溝パターンの形成工程を簡略化して、動圧軸受装置の製造コストの低減を図ることである。
【解決手段】 軸部材の素材２ａ’の外周面２ａ１にインクジェット法によりインク１２を供給してマスキングパターン１を形成した後、非マスク部１ｂの素材表面をエッチングで除去する。さらに溶剤を用いてマスキング１ａを除去することにより動圧溝パターンＡを形成する。 （もっと読む）

本発明は、透明基板（１）上の導電性層（２）を化学エッチングする装置に関し、該装置は、該基板（１）を支持する支持手段（４）と溶液（５）を吹き付ける手段とを備えている。本発明の特徴は、上記吹き付け手段（５）が上記基板上方に配置された複数のノズル（５０）から成り、該ノズルは、エッチング対象である上記層上に少なくとも２種類の溶液（７、８）を、別々に、または相互に、またはノズル部での混合液として、同時に吹き付けことである。
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【課題】従来よりも作業性に優れる被膜付き部材の製造方法を提供しようとするもの。
【解決手段】帯状体７に複数の部材８が連設する金属シート９を両面エッチングにより形成し、前記部材８と帯状体７との境界に部材８側が高くなる段差10をハーフエッチングにて形成するエッチング工程と、前記段差10が形成された側の面に被膜を形成する被膜形成工程と、前記被膜が形成された面の段差10の下方側で部材８を帯状体７から分断する切断工程とを有する。被膜を形成する被膜形成工程は部材を帯状体から分断する切断工程の前に行うようにしているので、帯状体に複数の部材が連設している状態で被膜形成を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 粒状晶を有する電解銅箔の結晶粒を制御し、該電解銅箔の表面をエッチング粗化することで樹脂との密着力を増大させる銅箔の製造方法を提供し、該銅箔を使用したプリント配線板を提供する。
【解決手段】 本発明は、電解ドラムをカソードとし、該電解ドラムに銅箔を電析せしめて製箔した電解銅箔を５０℃以上の雰囲気中で加熱処理し、該電解銅箔の少なくとも一方の表面が粒状晶であり、該表面から少なくとも深さＸまでの領域の平均粒径が０．３μｍ以上である未処理銅箔とし、該未処理銅箔の前記粒状晶表面を化学エッチングにより、該粒状晶表面から前記深さＸまでエッチング処理する銅箔の製造方法である。
また、本発明は前記製造方法で製造した銅箔を基板に張り合わせたプリント配線板である。 （もっと読む）

【課題】 エッチング溶液及びこれを利用した磁気記憶素子の形成方法を提供する。
【解決手段】 エッチング溶液は純水及び有機酸を含む。有機酸はカルボキシル基と水酸基とを有する。有機酸は前記純水に対して０．０５質量％乃至５０質量％含まれる。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムの基材にダメージを与えることなく、付着したタンタル成分を選択的にエッチング除去する。
【解決手段】フッ化物、リン酸及び／又はリン酸塩を含んでなるエッチング用組成物を用いることにより、アルミニウム基材にダメージを与えることなく、付着したタンタルを選択的にエッチング除去する。フッ化物としてはフッ酸、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化アンモニウム、リン酸としてはオルトリン酸、メタリン酸、ポリリン酸等が用いられ、その他の成分として過酸化水素を含んでも良い。 （もっと読む）

【課題】 銅又は銅合金表面の置換めっき前処理用のソフトエッチング液であって、置換めっき後の外観及び半田付け性に優れるソフトエッチング液、及び、当該ソフトエッチング液を用いためっき方法を提供する。
【解決手段】 銅又は銅合金表面の置換めっき前処理用ソフトエッチング液であって、過酸化水素又は過硫酸塩と、無機酸と、カルボキシル基を２個以上有する有機酸と、を含むことを特徴とするソフトエッチング液、及び当該ソフトエッチング液にて銅又は銅合金表面をソフトエッチングした後、直接に置換めっき皮膜を形成することを特徴とするめっき方法。 （もっと読む）

【課題】 疎水性の障壁によるメニスカスの分離および閉じ込め。
【解決手段】 多くの実施形態の１つにおいて、基板を処理するための方法が提供される。該方法は、第１の流体メニスカスと第２の流体メニスカスとを基板の表面上に生成する工程を有する。このとき、第１の流体メニスカスは、第２の流体メニスカスにほぼ隣接する。このメニスカスは、また、第１の流体メニスカスと第２の流体メニスカスとを障壁によって分離する工程も有する。 （もっと読む）

【課題】処理槽内の処理液の温度分布を略均一にすることにより、良好な基板処理を可能とする基板処理装置を提供する。
【解決手段】薬液調合槽５０のヒータ５３および処理槽２０のヒータ２９によってエッチング液の液温をエッチング温度に加温して維持する。また、エッチング温度以上のガス吐出温度に維持された窒素ガスを窒素ガス供給ノズル１２から処理槽２０の上部付近に向けて供給する。これにより、エッチング液２１からの熱移動を補償でき、エッチング液２１の各部分における温度分布を略均一に維持できるため、良好なエッチング処理を実行できる。 （もっと読む）

【課題】 基板面内において、エッチング量の均一化を図ることのできる基板のエッチング装置を提供する。
【解決手段】 エッチング槽１と、ガラス基板３１を保持するカセット３０と、エッチング槽１内に設けられカセット３０を保持するカセットホルダ２０と、カセット３０を保持し上下に移動してカセット３０を前記エッチング槽１から出し入れするアクチュエータ４０とを備え、カセットホルダ２０をモータ１０によりエッチング槽１内で回転させ、カセット３０をエッチング槽１に入れる姿勢に対して、カセット３０の移動する移動軸に平行に略１８０°回転した姿勢で前記カセット３０をエッチング槽１から取り出すように構成した。 （もっと読む）

本発明は工具または部品から硬質材料層系を除去するための方法および装置であり、除去方法を改善するために、クロムおよびアルミニウムを含有する少なくとも１つの層が基材に直接被着され、該基材は強力な酸化剤を含むアルカリ溶液を用いて膜除去される。
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