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Fターム[4K057WA10]の内容

Fターム[4K057WA10]に分類される特許

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【課題】絶縁被膜を表裏に配した絶縁被膜付き電磁鋼板の外形加工を、無歪に、且つ、工程数を少なくしてでき、作業性や生産性の面で優れる絶縁被膜付き電磁鋼板の外形加工方法を提供する。
【解決手段】電磁鋼板10の表裏に絶縁被膜11を配した、絶縁被膜付き電磁鋼板の外形加工方法であって、前記絶縁被膜にレーザ光20を描画照射して、目的とする外形加工形状に対応して絶縁被膜を選択的に除去して、電磁鋼板を選択的に露出させるレーザ光照射工程と、前記レーザ光照射工程で残った絶縁被膜を耐エッチング膜として、前記レーザ光照射工程にて露出した電磁鋼板部をエッチング液30にてエッチングして、電磁鋼板を外形加工するエッチング加工工程とを、順に行う。 (もっと読む)


【課題】エッチング時に残渣の発生が少なく、低発泡な透明導電膜用のエッチング液を提供する。
【解決手段】シュウ酸と、硫酸アンモニウム、アミド硫酸アンモニウムおよびチオ硫酸アンモニウムからなる群の少なくとも1種の化合物と、水を含有するエッチング液を使用する。透明導電膜の残渣が少なく、発泡も少ないので、均一にムラ無く透明導電膜をエッチングすることができる。 (もっと読む)


【課題】塗膜付きめっきプラスチック部品を粉砕することなく、金属めっき層の表面から塗膜を効率よく剥離して、プラスチック部材の純度と歩留りを向上でき、更には金属めっき層の金属成分の純度と歩留りを向上でき、資源の有効利用を図ることが可能な塗膜付きめっきプラスチック部品の処理方法を提供する。
【解決手段】プラスチック部材10の表面に金属めっき層11を介して塗膜12が形成されている塗膜付きめっきプラスチック部品13の処理方法において、塗膜12直下の金属めっき層11を酸で溶融し、塗膜12を剥離する。 (もっと読む)


In、Al及びMoを含む三重膜用のエッチング液組成物は、組成物の総重量に対し、45〜70重量%のリン酸、2〜10重量%の硝酸、5〜25重量%の酢酸、0.01〜3重量%の含フッ素化合物、0.1〜5重量%のリン酸塩、及び残量の水を含む。
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【課題】形状不良なしに微細なパターンを形成し得る含有材料用エッチング剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、(A)第二銅イオン及び第二鉄イオンから選択される少なくとも1つの酸化剤成分0.1〜15質量%、(B)塩化水素0.1〜20質量%、及び(C)下記一般式:
R−O−X−H (1)
(式中、Rは炭素数8〜18のアルキル基を表し、Xはエチレンオキサイドユニット及びプロピレンオキサイドユニットがランダム又はブロック状に重合したポリアルキレンオキサイド基を表す)で表され、且つ数平均分子量が500〜1,500であるノニオン性界面活性剤0.001〜5質量%を含む水溶液からなることを特徴とする銅含有材料用エッチング剤組成物である。 (もっと読む)


【課題】適切にマスクを清浄する方法を提供する。
【解決手段】マスクを清浄するための方法および装置が、説明される。一実施形態において、本発明は、マスクを清浄する方法である。その方法は、マスクを清浄溶液の中に配置することを含む。また、この方法は、予め定められた攪拌レベルで予め定められた時間だけ清浄溶液を攪拌することを含む。 (もっと読む)


【課題】作業効率がよく、エッチングされる基板の材料の選択範囲も大きい、ウェットエッチング方法を提供する。
【解決手段】パターニングされたクロム層2及びレジスト層3を表面に有するガラス基板1をエッチング液4に浸しウェットエッチングする。その際、アルミニウム又は鉄からなる金属棒6がタンク5内のエッチング液4に浸され、所望のタイミングで、クロム層2の露出面2aと金属棒6の端部とが接触される。金属棒6と接触されたクロム層2は電気化学反応等により徐々にエッチングされ小さくなり、ガラス基板1のエッチング液4にさらされる部分が徐々に増え、その部分がウェットエッチングされる。これによりガラス基板1のアンダーカット形状が調節され、ガラス基板1にテーパ面7が形成される。ガラス基板1としては、例えば、石英、白板ガラス、青板ガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、又は鉛ガラス等が適用可能である。 (もっと読む)


【課題】液晶基板等をエッチング又は酸洗した塩化鉄系廃液の処理を行うに際し、これまで着目されていなかった硝酸を含有する塩化鉄系廃液を処理対象とし、当該塩化鉄系廃液からインジウムを金属単体又は合金として効果的に回収することが可能な塩化鉄系廃液の処理方法を提供する。
【解決手段】少なくともインジウム及び塩化第二鉄を含有する塩化鉄系廃液の処理方法であって、塩化鉄系廃液は硝酸を含有するものであり、塩化鉄系廃液に塩酸及び鉄を添加することにより、硝酸を還元除去するとともに、塩化第二鉄を塩化第一鉄に還元する還元工程と、還元された塩化鉄系廃液からインジウムを金属単体又は合金として回収する回収工程と、を包含する。 (もっと読む)


【課題】高価で寿命の短い剥離液を使用せず、剥離後のエッチングもすることなく、連続して効率良く、ニッケルめっきが施された銅又は銅合金屑からニッケルを剥離し、ニッケルめっきが剥離された銅又は銅合金屑を銅又は銅合金の製造用原料として使用する。
【解決手段】電解反応を起すアノードとカソードを含有する硫酸鉄溶液が入った処理槽中に、表面にニッケルめっきが施された銅又は銅合金屑を浸漬し、2Fe3++Ni→2Fe2++Ni2+なる化学反応によりニッケルめっきを剥離すると共に、Fe2+→Fe3++eなる電解反応にて、消費されたFe3+を再生することにより、連続的にニッケルめっきを剥離し、銅又は銅合金の製造用原料として使用する。硫酸濃度50〜600g/l、Fe濃度1〜50g/lの剥離液を用い、電解再生時のカソード電流が5〜100A/dm、アノード電流が0.01〜10A/dmである時に顕著に効果を発揮する。 (もっと読む)


【課題】従来の電解コンデンサ電極用アルミニウム材の製造方法における最終焼鈍前の酸水溶液による処理と焼鈍条件に関する問題点を解決し、より優れたエッチング特性を有する電解コンデンサ電極用アルミニウム材の製造方法等を提供する。
【解決手段】冷間圧延を施したアルミニウム材の表面を、酸水溶液に接触させ、その後の焼鈍を、450℃以上の一定の温度で保持する時間(x)と保持温度(y)との関係が、1.5時間≦x<8時間のとき450℃≦y≦580℃、8時間≦x<10時間のとき450℃≦y≦(660−10x)℃、10時間≦xのとき450℃≦y≦560℃を満たす条件で行う。 (もっと読む)


【課題】酸化感受性が高く、酸化物生成が発生しやすい銅合金や耐蝕性の高い銅合金、或は高純度銅などの組織を観察する際に行うミクロ腐蝕エッチング液および/またはマクロ腐蝕エッチング液として用いることができ、成分の安全性が高く、取り扱い・処理が簡単で、特別な技能や高額な専用設備を用いることなく、汎用性が高く、組織状態や結晶粒界を明確・容易に観察できる被観察面が得られ、特別な廃液処理を必要としない組織観察用エッチング液を提供する。
【解決手段】建浴組成として、硝酸、硫酸、硫酸銅塩、水酸化ナトリウム及び過酸化水素を含有する銅または銅合金の組織観察用エッチング液とする。 (もっと読む)


【課題】 銀又は銀合金をエッチングする際に銀残渣を発生させず、しかもエッチング液を繰り返して使用してもエッチング速度が変化しないエッチング液及びそれを用いたエッチング方法を提供する。
【解決手段】 銀又は銀合金のエッチングにおいて、組成物全体に対し、銅イオンを0.01〜10重量%、硝酸を0.01〜10重量%、燐酸を10〜69重量%、カルボン酸を30〜50重量%含有し、残部は水である銀又は銀合金エッチング用組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】
金とニッケルとが共存する材料の1液でのエッチングを可能にし、さらに金およびニッケルのエッチングレートを制御できるエッチング方法およびエッチング液を提供する。
【解決手段】
ヨウ素系エッチング液において、無機酸または常温で固体の有機酸、および/または有機溶剤を加えて、各成分の配合比を調節したエッチング液とし、金および/またはニッケルをエッチングする。 (もっと読む)


【課題】基板上にニッケル合金からなる第一膜と、銅又はその合金からなる第二膜とを順に重ねてなる積層膜をエッチングする際に、第一膜と第二膜との両方に対してエッチング能力があり、かつ、第一膜と第二膜に対するエッチングレートの差異が少ないエッチング液と、前記積層膜を一つのエッチング液で効率良くエッチングすることが可能なエッチング方法を提供する。
【解決手段】第1のエッチング液は、塩酸と、硝酸とを含む水溶液とする。この水溶液は、燐酸をさらに含むと好ましい。また、第2のエッチング液は、塩酸と、塩鉄(III)とを含む水溶液とする。この水溶液も、燐酸をさらに含むと好ましい。これら第1のエッチング液又は第2のエッチング液を用いて、基板11上にニッケル合金からなる第一膜12と、銅又はその合金からなる第二膜13とを順に重ねてなる積層金属膜14をエッチングする。 (もっと読む)


【課題】鋼中の溶質元素濃度が低く、従来であれば明瞭な凝固組織を検出することが困難であった品種、特に炭素濃度が0.01質量%以下の低炭素鋼についても、腐食で凝固組織を顕出し、それによって鋼の凝固組織を検出する方法を提供する。
【解決手段】鋼鋳片の試料の断面を研磨し、試料1の研磨面2を下向きにして、かつ、試料の研磨面2の腐食液3への浸漬深さdを10mm以内として、研磨面2を腐食することを特徴とする鋼の凝固組織検出方法である。好ましくは試料と腐食液の一方又は両方を超音波振動させながら研磨面を腐食する。試料の研磨面(腐食面)を含む試料の一部のみを腐食液中に浸漬して腐食を行うことにより、従来は凝固組織の顕出が困難であった品種、特に炭素濃度が0.01質量%以下の低炭素鋼についても、凝固組織を顕出できる。 (もっと読む)


【課題】配線のエッチング特性を良好に維持することができるエッチング液組成物、これを用いた金属パターンの形成方法及び薄膜トランジスタ表示板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、リン酸40乃至65重量%、硝酸2乃至5重量%、酢酸2乃至20重量%、リン酸塩を含む化合物0.1乃至2重量%、アミノ基とカルボキシル基を同時に含有する化合物0.1乃至2重量%、及び全体組成物の総重量が100重量%となるようにする水を含むエッチング液組成物、これを用いた金属パターンの形成方法及び薄膜トランジスタ表示板の製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】スプレー法によるプリント基板等の大型被エッチング基板のエッチングにおいて、断面のアスペクト比の高い配線パターンを基板面内でのばらつきや斑が少なく均一性良く形成することができるエッチング処理方法およびエッチング処理装置を提供することを目的としている。
【解決手段】スプレーノズルによりスリット状に形成されるエッチング液を被エッチング基板の搬送方向に対して、所定の角度γを成すように噴霧させ、且つ、エッチング液を被エッチング基板の搬送方向に対して直角方向に周期的に揺動、噴霧させ、スプレーノズルの揺動周期T(sec)を前記被エッチング基板の搬送速度V(cm/sec)に対して、T=K・2・S/Vを満足するように揺動動作させるものである。Sは揺動距離(cm)、Kは定数で0.24≦K≦0.33をそれぞれ表す。 (もっと読む)


【課題】アルミホイールの製造方法において、鋳造後にノンクロメート表面処理を施した場合であっても、アルミホイールとノンクロメート皮膜との間での十分な密着性と耐食性を達成できる手段の提供。
【解決手段】アルミホイールの製造方法において、当該アルミホイール表面における酸化物Siに対する金属SiのSi原子割合の比が0.01〜9となるまで、アルカリビルダー、有機ビルダー及びキレート剤を含有するアルカリ洗浄液で当該アルミホイール表面をケミカルエッチングする清浄化工程を含む、アルミホイール表面の洗浄に際してショットブラスト処理工程の省略が出来ることを特徴とする方法。 (もっと読む)


本発明は、無応力電気化学銅研磨(SFP)の処理、SFP処理の間に形成された酸化タンタル又は酸化チタンの除去、及び、XeFガス相エッチングバリア層Ta/TaN又はTi/TiN処理、からなる半導体処理の方法及び装置に関する。第1に、板状の銅フィルムの少なくとも一部がSFPにて研磨される。第2に、SFP処理の間に形成されたバリア金属酸化物がエッチング液によりエッチングされる。最後に、バリア層Ta/TaN又はTi/TiNがXeFガス相エッチングにより除去される。そのため装置は3つのサブ系からなり、それらは無応力銅電解研磨系、バリア層酸化物フィルム除去系、及び、バリア層Ta/TaN又はTi/TiNガス相エッチング系である。
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【課題】基板面内や基板間の厚さのバラツキを低減することができるとともに、製品性能や製造歩留を向上させる基板処理装置を提供する。
【解決手段】液体または気体が送入される槽TKと、槽TKの内部に液体または気体を送り出す機構TB、Aと、を備え、槽TKに被処理基板1を配置し処理を行う基板処理装置であって、被処理基板1と機構TB、Aとの間の被処理基板1近傍に、少なくとも一つの整流板PL1が配置された処理装置。 (もっと読む)


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