【課題】工業炉設備（特に真空炉設備）において使用される少なくとも１つの真空ポンプを効率的に制御するための方法及び工業炉設備を提供する。
【解決手段】本発明は、制御／調節装置に組み込まれたポンプコントローラを用いて、圧力の経時的変化に応じて、熱処理プロセスの段階ごとに、真空の要否に基づいて、真空ポンプを駆動または停止（Ｐａ）させ、工業炉設備内において熱処理プロセスが実行中であるか否かを問い合わせるステップ（Ｓ１）、熱処理プロセスの現在の段階において真空ポンプが必要か否かを問い合わせるステップ（Ｓ２）、熱処理プロセスの将来の段階において真空ポンプが必要となるか否かを問い合わせるステップ（Ｓ３）及び／または、次に真空ポンプの使用を必要とするまでの時間（Ｔ１）が真空ポンプの所要準備時間（Ｔ２）よりも長いか否かを問い合わせるステップのうちの、少なくとも１つを有するプログラムを使用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被処理物収容部から被処理物を投入可能な状態のままで被処理物通路の出口端を移動させることが容易で作業性の良い被処理物投入装置を提供する。
【解決手段】被処理物を収容する被処理物収容部と、被処理物が気密状態で通過して出口端１２ａから処理装置に投入可能な被処理物通路１２と、前記被処理物収容部から前記被処理物通路１２へと被処理物を気密状態で取り出し可能な被処理物取出機構と、前記被処理物通路１２の処理装置側と被処理物収容部側とを遮断可能な閉鎖部１４と、前記被処理物通路１２のうちで前記閉鎖部１４よりも被処理物収容部側の位置にて、前記被処理物通路を分離及び接合可能なジョイント部１５とが設けられており、前記被処理物通路１２は、前記ジョイント部１５の接合位置を維持したままで、前記出口端が前記接合位置に対して接近・離反するようにして伸縮可能である。 （もっと読む）

【課題】冷却室以外の他の処理室が冷却液で汚染されることを防止可能とする多室型熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理室を含む複数の処理室を備える多室型熱処理装置Ｓ１であって、液体粒子の潜熱により被処理物の冷却を行う前記熱処理室である冷却室３と、前記冷却室３と異なる他の処理室１，２と、前記冷却室３の乾燥を行う乾燥手段１１，１９とを備えており、前記乾燥手段１１，１９は、前記冷却室３内に熱風を供給する熱風供給装置１９を備える。 （もっと読む）

【課題】被処理物の酸化・着色を抑制できる熱処理炉の提供。
【解決手段】被処理物Ｗが搬入される搬入室１０と、搬入室１０から搬送されてきた被処理物Ｗを熱処理する熱処理室２０とを有する真空熱処理炉１であって、搬入室１０内の水分を気化させる気化装置５０と、気化した水分を搬入室１０外に排気する排気装置６０とを有するという構成を採用する。 （もっと読む）

【課題】合金鋼部品の一部分を熱処理するシステム及び方法を提供する。
【解決手段】システム１０は第一エンクロージャ１４と第一エンクロージャ１４に対向する第二エンクロージャ１６とを備える。第一エンクロージャ１４及び第二エンクロージャ１６は合金鋼部品の一部分だけの周囲にチャンバ２２を画成する。システム１０はさらに、チャンバ２２内に合金鋼部品の一部分を加熱する発熱体４２を備える。合金鋼部品を熱処理する方法では、合金鋼部品の第一側面に対して第一エンクロージャ１４を配置し、合金鋼部品の第二側面に対して第二エンクロージャ１６を配置する。本方法ではさらに、第一エンクロージャ１４と第二エンクロージャ１６の間かつ合金鋼部品の一部分だけの周囲に実質的に気密なチャンバ２２を形成し、実質的に気密なチャンバ２２内にある合金鋼部品の部分を加熱する。 （もっと読む）

【課題】真空脱ガス設備の真空排気装置のブースター内においてダストが水分により付着して固化するのを防止することである。
【解決手段】溶鋼の真空脱ガス処理設備の真空槽１から排ガスを排出して減圧する真空排気設備のブースター１３のダスト付着防止方法おいて、ブースター１３内を高圧水洗浄してダストを除去し、次いで真空脱ガス処理前で待機中の保熱されている真空槽１の排熱をブースター１３内部に引き込んで乾燥させた後に真空脱ガス処理を開始することによってダストがブースター内表面に付着して固着するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】あらゆる流れを、例えば水平方向から垂直方向へ方向転換させて流れを均質化すると共に、背圧を出来る限り生じさせずに、この種の工業炉において処理される材料／半製品を含む装入物にガス流を誘導するように方向付けるような、効率の高い方法及び構造の簡易な装置を実現する。
【解決手段】金属材料／金属半製品の熱処理のために、工業炉（１）においてガス流（５）を誘導するための方法及び装置であって、一方向に流れる当初のガス流（６）を、互いに間隔（２．７）をおいて配置された複数の面（２．２）に向けて誘導し、面（２．２）間の当初のガス流（６）を、当初の流れ方向（６）から向きを変えた流れ方向（７）に分割し、均質化及び均一化して処理室（１．１）に誘導することによって、結果的に、装入物に向けられたガス流（５）が、熱処理及び冷却効率を向上させ、エネルギー消費量を低下させるようにした方法及び装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＨＤＤＲ法を用いた磁性材料用の粉末の製造に適した反応炉及び磁性材料用粉末の製造方法を提供すること。
【解決手段】反応炉１は、ＨＤＤＲ反応により磁性材料用粉末を製造するものである。反応炉１は、外容器１０と、外容器冷却手段である本体側冷却媒体通路１０Ｂｃ及び蓋側冷却媒体通路１０Ｃｃと、内容器２０と、内容器駆動手段である内容器駆動装置１８と、加熱器２と、気体導入口１２Ｉ及び気体排出口１２Ｅと、気体流れ制御手段である導風体１５と、を含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】
スパッタリング装置のバッキングプレート等、冷却水の導入が必要な箇所におけるリークチェックの作業性を向上させた真空処理装置を提供する。
【解決手段】
カソードを構成する処理室隔壁に設けられた導入菅の開口部と、バッキングプレート内の導入菅を接続する場合、導入菅と空隙である中間層（大気）とを封止（シール）する第１のＯリングと、中間層（大気）と真空である処理室内を封止（シール）する第２のＯリングが配置され、第１のＯリングと第２のＯリングの間の空隙である中間層（大気）に、処理室外の大気と連通しているリークテストポートが設けられている。 （もっと読む）

【課題】脱脂工程後の焼結工程時においても加熱室内の雰囲気の清浄性を確保することができ、また、加熱室自体の耐久性を向上させることができ、さらに、冷却工程時、材料を短時間で均一に冷却することができる一室型真空炉を提供する。
【解決手段】補助排気管４は炉体１と同軸上に加熱室２０内と連通して配置され、可動排気管４ａと固定排気管４ｂとからなる。固定配管４ｂの外径は可動排気管４ａの内径より小径で下部加熱室部２０ｂから加熱室２０内に挿通している。可動排気管４ａの外径は炉体１内に連通接続する主排気管５の内径より小径で固定排気管４ｂに外装され、上昇位置と下降位置との間を昇降自在に支持されている。主排気管５の内径は可動排気管４ａの外径より大径で可動排気管４ａに所定隙間をもって外装されている。可動排気管４ａの上昇位置において、可動排気管４ａの下端部が主排気管５内に、また、固定排気管４ｂの下端部が可動排気管４ａ内に遊嵌状態で位置する。 （もっと読む）

【課題】ワークの焼入れ処理を行う場合に、該ワークの上面、側面および下面に均一な冷却ガスを接触させ、ワークの焼入れ処理（冷却）を極めて高精度で均一に行う、ワークのガス冷却装置およびガス冷却方法を提供する。
【解決手段】ワークを入れる減圧密閉容器と、減圧密閉容器内を真空にする真空ポンプと、減圧密閉容器内に冷却ガスを供給する冷却ガス供給源と、を備え、減圧密閉容器は上蓋、底板、外筒および内筒から成り、外筒と内筒の間に設けられる冷却媒体が流れる冷却流体流路と、内筒の中心部に設けられるワークを保持する支持台と、内筒と支持台の間に配置される中間筒と、中間筒と内筒、上蓋および底板との間にそれぞれ形成される冷却ガス流路と、中間筒と支持台の間に設けられ、冷却ガスをワークの側面に向けて整流する整流機構と、中間筒の上部中央に配置される循環ファンと、循環ファンを駆動させるためのモーターと、を備えるガス冷却装置。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成により、適宜的に、熱処理空間の内部の雰囲気を熱処理空間の外部に対して完全に独立させることが可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】真空加熱炉１０は、真空容器１２、および真空容器１２に対して着脱可能な炉芯管３０を備える。真空容器１２は、炉芯管端部支持部２２、炉芯管導入部２５、挿通孔１９１を有する第１のマッフル蓋体１８２および第１の断熱材蓋体２０２、ならびに挿通孔１９３を有する第２のマッフル蓋体１８４および第２の断熱材蓋体を備える。第２のシール部３４は、炉芯管側フランジ部材３４８、真空用ベローズ３４２、およびガス流入出ユニット３５０を備え、炉芯管３０を真空容器１２に気密に接続可能にするように構成される。 （もっと読む）

【課題】ホッパーからの添加材によって弁体や弁座が損傷することなく、
ホッパーと真空脱ガス槽との間を確実且つ安定的に開放又は遮断する真空脱ガス設備の真空弁を得る。
【解決手段】真空脱ガス槽４に連通する第２連通孔１１の弁室側に開口した孔口１１ｂを、ホッパーに連通する第１連通孔１０の弁室側に開口した孔口１０ｂの鉛直下に設け、弁座１３を、上記弁室１２内における上記第１連通孔１０の孔口１０ｂ周りを取囲む環状に形成すると共に、弁部材１４を、上記弁体１５と、弁室１２内において、弁体１５を真空脱ガス槽４の真空圧に抗して弁座１３に弁室１２側から密接させて該弁座１３を閉鎖する閉弁位置と、弁体１５を上記第１連通孔１０の孔口１０ｂの鉛直下及び第２連通孔１１の孔口１１ｂの鉛直上を避ける位置に移動させて弁座１３を開放する開弁位置とに切り換える弁開閉機構１６を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】溶融金属中の含有ガスの脱ガスと蒸気圧の高い金属成分の除去により製品不良を少なくするとともに、真空精錬装置内の処理ガスを再利用してコスト低減を図ることを課題とする。
【解決手段】溶融金属を収納する真空精錬装置１と、該真空精錬装置に接続され，真空精錬装置内を１気圧以下に保持しえる高真空ポンプ１０と、真空精錬装置内で溶融金属を攪拌する攪拌手段と、真空精錬装置内で生じる処理ガスを精製する精製器１１、精製器に接続するコンプレッサ付き粗引きポンプ１２と、真空精錬装置内にフラックス及び不活性ガスを導入するガス導入回転手段６を具備し、真空精錬装置１、高真空ポンプ１０、精製器１１及びコンプレッサ付き粗引きポンプ１２がループ状になるように順次接続されている。 （もっと読む）

金属製の外殻と、外殻上に形成される又は接合される１以上の冷却水路と、炉ライニングとを含む、酸化条件下、高温プロセスを実施するための炉。炉ライニングは、外殻の内壁に隣接して位置する相対的に高い熱伝導度層を含む支持ライニングと、当該相対的に高い熱伝導度層の内方に位置する作用ライニングとを含む。支持ライニングは、グラファイトライニング又はグラファイトを含有するライニングを含んでいてもよい。作用ライニングが摩滅した場合には、支持ライニングを通る熱伝達速度は、支持ライニング上に保護凝固層を形成するために十分に高い。 （もっと読む）

【課題】外側部材の材質にかかわらず外部への熱の放散を抑制しながら、赤外線による加熱下で真空状態を形成することが可能な真空炉及び、この真空炉を用いた磁場中加熱処理装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、赤外線を透過する素材で形成される内管１４と、内管１４との間に外側空間Ｓ２を形成する外管１６と、外側空間Ｓ２内に配置され、加熱対象物Ｗに対して内管１４を通じて赤外線を照射する加熱手段１８と、加熱可能な位置に加熱対象物Ｗを保持する保持手段２０と、外側空間Ｓ２内で加熱手段１８と外管１６との間を遮るように配置され、加熱手段１８からの赤外線を反射する複数枚の輻射シールド板２２とを備え、各輻射シールド板２２は、外管１６の内面と直交する方向に並び、隣り合う輻射シールド板２２同士がその並び方向に互いに間隔を置くように、それぞれ配置されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】金属シリコン材料の精製時間効率の向上を図る。
【解決手段】電子ビームＥＢを照射して溶解する金属シリコン材料を装填する水冷坩堝１０は、水冷機構を設けた銅製容器１の内面に配置された炭素からなる成形体２を備え、この成形体２は、前記母材よりも高純度のシリコンを含む部位を、溶解した前記母材と触れる側に少なくとも有する。成形体２のかさ密度は、０．１ｇ／ｃｍ^３〜０．５ｇ／ｃｍ^３の範囲内であることが望ましい。また、成形体２の厚さｔは、５ｍｍ＜ｔ≦３０ｍｍであることが望ましい。さらに、成形体２は、炭素繊維またはポーラスカーボンからなる部材であることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】真空槽の内部で被処理物の処理を行うに際して、速やかにかつ繰り返して、所望の量の被処理物を追加装入することが可能な真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空処理装置１は、真空槽１０と、真空槽１０の内部１０ａを真空雰囲気に排気可能な排気手段２０と、真空槽１０の内部で被処理物Ｗに所定の処理を行う処理手段３０と、処理手段３０に被処理物Ｗを供給する供給機構４０とを備え、供給機構４０は、真空槽１０の内部１０ａに設けられ、被処理物Ｗが貯蔵された貯蔵部４１と、貯蔵部４１から被処理物Ｗを所望の量だけ取り出して処理手段３０へ搬送する搬送手段４３とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、加熱炉を効果的に冷却して、短時間で真空槽を大気開放させることが可能な真空加熱装置及び真空加熱処理方法を提供する。
【解決手段】真空加熱装置１は、真空槽１０と、真空槽１０の内部１０ａを真空雰囲気に排気可能な排気手段２０と、真空槽１０の内部１０ａに設けられて被処理物Ｗを収容する加熱炉３１と、加熱炉３１に収容された被処理物Ｗに加熱処理を行う加熱手段３３と、加熱炉３１に向かって不活性気体Ｇを吹き付ける送風手段５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、真空素子の密封方法に関する。
【解決手段】本発明の真空素子の密封装置は、真空室と、それぞれ、第一絞り弁及び第二絞り弁により、前記真空室の両端に繋がれた第一収容室及び第二収容室と、前記第一収容室、前記第二収容室及び前記真空室の内部に運動することができた少なくとも、一つの運送装置とを含む。更に、容器及び第一加熱装置を含む。前記容器は、前記真空室の外部に設置され、入力チューブにより前記真空室に繋がれ、複数の密封素子を収容することに用いられる。前記第一加熱装置は、前記入力チューブと前記第二絞り弁との間に位置する前記真空室の壁に設置され、前記密封素子を加熱、軟化することに用いられる。 （もっと読む）