【課題】画像検査装置において、被検体からの光を複数の波長帯域に分けて画像を取得して画像検査を行う場合に、簡素な構成により高精度な検査を行うことができるようにする。
【解決手段】画像検査装置５０は、可視光Ｌ_１と、赤外光Ｌ_２とを、導体パターン２に照射する照明部４と、導体パターン２で反射された可視光Ｌ_１および赤外光Ｌ_２を結像する撮像光学系６と、撮像光学系６によって結像された像を撮像する撮像素子８と、導体パターン２と撮像素子８との間の光路上で進退可能に設けられ、可視光Ｌ_１の透過を阻止するとともに赤外光Ｌ_２を透過させる可視光カットフィルタ７ｂと、導体パターン２と撮像光学系６との間の光路上で進退可能に設けられ、赤外光Ｌ_２の透過を阻止するとともに可視光Ｌ_１を透過させる赤外光カットフィルタ７ａと、を備える。 （もっと読む）

【課題】多重パターニングリソグラフプロセスについての定性的及び／又は定量的な評価を得る。
【解決手段】第１設計および少なくとも第２設計から成る目標設計に従って多重パターニングリソグラフプロセスを用いて得られるリソグラフパターンを評価する方法であって、目標設計とリソグラフパターンとを整列させることと、リソグラフパターンと整列した目標設計における第１設計および第２設計のオーバーラップ領域に基づいて、リソグラフパターン内の縫合領域を識別することと、リソグラフパターン内の識別した縫合領域に関して、所定の基準を満足しているか否かを決定することとを含む。 （もっと読む）

【課題】事前の設定の手間を簡略化しつつ正確に検査ポイントを探索することのできるパターンマッチング手法を提供する。
【解決手段】撮影画像の一部の画像領域を抽出し、その画像領域の分割画像をテンプレート画像として設定し、テンプレート画像を回転させながらパターンマッチングを行う。また、このパターンマッチングにより、画像領域内に点対称パターンが存在するか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】確度の高い実装状態の検査を操作性よく実現することができる部品実装装置および部品実装装置における実装状態検査方法を提供する。
【解決手段】基板において検査の対象となる検査範囲を撮像して撮像データを取得する基板撮像動作を、検査装置Ｍ３Ａ、Ｍ６Ａによって実装作業が実行される前後の基板を対象として実行し、取得された実装前画像データと実装後画像データとの差分を求めることにより部品抽出処理部３ａによって部品を抽出し、抽出された部品の形状および位置を予め記憶された正規の部品の形状および位置を示す検査データと比較することにより判定処理部３ｂによって当該基板における部品の実装状態の良否を判定する。これにより、部品および基板の色情報に基づいて部品を認識して抽出する方式における不安定要素を排除して、確度の高い実装状態の検査を操作性よく実現することができる。 （もっと読む）

【課題】ボイドの誤検出を抑制することができる画像を提供すること。
【解決手段】画像処理プログラムは、コンピュータ（画像処理装置）１を、画像作成手段２、除去手段３として機能させる。画像作成手段２は、例えば半田バンプ等の検査対象物を含む複数の部材が重なった状態で撮像されたＸ線透過画像４の、検査対象物以外の部材の構造情報に基づいて、検査対象物以外の部材の形状それぞれにおける（Ｘ線）透過濃度を有する画像を作成する。除去手段３は、画像作成手段２により作成された画像を用いて、Ｘ線透過画像４の複数の部材が重なった部位の検査対象物以外の部材の占める透過濃度の影響を除去する。 （もっと読む）

【課題】ノズルの軌跡に応じた塗布領域を基板の撮影画像と共に表示できる塗布領域表示装置を提供する。
【解決手段】基板を撮影した画像である撮影画像が記憶される撮影画像記憶部１２と、基板に防湿剤を吐出するノズルの軌跡であって、ノズルが防湿剤を吐出する際の軌跡を示す情報である軌跡情報を受け付ける軌跡情報受付部１３と、軌跡情報受付部１３が受け付けた軌跡情報を蓄積する軌跡情報蓄積部１４と、軌跡情報蓄積部１４が蓄積した軌跡情報によって示される、防湿剤の吐出時のノズルの軌跡に対して、ノズルの吐出幅を付加した領域である塗布領域を算出する塗布領域算出部１５と、撮影画像と塗布領域算出部１５が算出した塗布領域とを表示する表示部１６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フォトマスクの特性を検出することができるフォトマスクの特性検出装置およびフォトマスクの特性検出方法を提供する。
【解決手段】被検出体に形成されたパターンの光学像に基づいて検出データを作成する検出データ作成部と、前記パターンに関する参照データを作成する参照データ作成部と、特性の検出対象となるパターンに対応する参照パターンと、前記参照パターンの位置情報と、を前記参照データから抽出する抽出部と、前記参照パターンに基づいて特性を検出する領域を設定するとともに、前記位置情報に基づいて前記検出データから前記特性の検出対象となるパターンを抽出する第１の領域設定部と、前記特性を検出する領域における前記特性の検出対象となるパターンの特性を受光面上に結像された光学像を光電変換することで検出する検出部と、前記検出された特性を集計する集計部と、を備えたことを特徴とするフォトマスクの特性検出装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】効率的に検査領域を設定することが可能な半導体装置の欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】ＮｏｎパターンＤｉｅ１０及びパターンＤｉｅ１１を比較して第１の仮パターンを取得し、第１の仮パターン第１の微細部分の集合とし、第１の仮パターンのＹ座標それぞれについて、隣り合った第１の微細部分間のＸ軸方向の座標差が所望の値より大きくなる第１の微細部分を抽出し、抽出された第１の微細部分から第１のエッジ領域を規定し、ＮｏｎパターンＤｉｅ及びパターンＤｉｅを９０度回転させて比較して第２の仮パターンを抽出し、第２の仮パターンを第２の微細部分の集合とし、第２の仮パターンのＹ座標それぞれについて、隣り合った第２の微細部分間のＸ軸方向の座標差が所望の値より大きくなる第２の微細部分を抽出し、抽出された第２の微細部分から第２のエッジ領域を規定し、第１及び第２のエッジ領域に囲まれている領域を検査領域として導出する。 （もっと読む）

【課題】処理結果に重複や漏れが発生することを防止すること。
【解決手段】検出装置は、画像表示装置の撮像画像を取得する。また、検出装置は、取得した撮像画像から、該撮像画像から検出する点欠陥又は線欠陥の種別ごとに異なる検出条件を用いて種別ごとに欠陥画素候補を検出する。そして、検出装置は、種別ごとに検出された欠陥画素候補間で、所定の閾値よりも小さい点欠陥候補や所定の閾値よりも小さい線欠陥候補を、前記種別ごとの候補間で移動する。そして、検出装置は、移動後の前記種別ごとの欠陥画素候補から、点欠陥又は線欠陥を決定する。 （もっと読む）

【課題】対象物を効果的に識別する。
【解決手段】模様領域Ａ２の単位領域Ａ３について複数手法で特徴量を求め、抽出領域Ａ４の各単位領域Ａ５について同様に特徴量を求め、これらについて手法ごとに重み付けをして合成された一致度を求め、合成された一致度の値から抽出領域の各単位領域が識別対象か背景かを判定し、当該判定に従って識別対象と背景の境界線を求め、撮像画像における実際の境界線上の位置と判定により取得された境界線との誤差を求め、当該誤差が十分に小さくなるように重み付けのパターンを逐次変更しつ好適化を図り、好適化された重み付けパターンに従って撮像画像から識別対象を識別する。 （もっと読む）

【課題】
撮像する度に発生する異なる歪を算出し、画像毎に異なる歪補正をすることによって、高感度での欠陥検出を可能とし、かつ、歪の無い検査画像を出力する。
【解決手段】
検査画像をビーム走査方向に長い小領域に分割し，領域毎に参照画像と位置合せを行い，検査画像と参照画像の歪状態を補正し、歪補正した検査画像と参照画像の差分を演算して欠陥を検出し、欠陥箇所の歪補正した検査画像と参照画像とをＧＵＩ上に表示するようにした。 （もっと読む）

【課題】 複数の品種に対応することが可能であり、かつ、例えば画像処理ユニットの処理順序や画像処理ユニットに対応するパラメータなどに修正の必要性が生じたときであっても、複数のフローチャートについて編集作業を行う必要がなく、少ない工数でメンテナンスを可能とする。
【解決手段】 個別処理ユニットとして規定された画像処理ユニットについて複数の異なるパラメータ値をもつ個別パラメータが少なくとも一つ含まれるように規定されており、個別パラメータの各々のパラメータ値に対し個別処理ユニット間で共通の識別情報を関連付けて規定された画像処理プログラムを設定する又は受け付ける手段と、識別情報を指定する手段と、個別処理ユニットとして規定された画像処理ユニットの個別パラメータに対して、識別情報に対応したパラメータ値を割り付けて、画像処理を実行する手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】多層パターンに対してテンプレート・マッチングを短時間で且つ正確に行うことができる画像処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】上層パターンと下層パターンをそれぞれSEM画像の間でパターン・マッチングを行ない、上層相関マップと下層相関マップを生成する。上層相関マップと下層相関マップを合成して合成相関マップを生成する。合成相関マップより、相関値が極大値を取る点を、マッチング位置とする。このような予備マッチングの結果を利用して、再度、高精度マッチングを行う。高精度マッチングでは、上層パターンと下層パターンを合成し、合成画像を生成する。この合成画像は層間ズレ情報が含まれている。この層間ズレ付き合成画像とＳＥＭ画像の間でテンプレート・マッチングを行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、実波形とライブラリとの比較に基づいて、形状を推定するに際し、適正な形状推定を行うことができるパターン形状選択方法、及び装置の提案を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、取得された波形をライブラリに参照することによって、パターンの形状を選択する方法、及び装置であって、試料に対する荷電粒子線の照射に基づいて、複数の波形取得条件にて波形情報を取得し、当該複数の波形情報を、複数のパターン形状毎に、異なる波形取得条件で取得された波形情報が記憶されたライブラリに参照することによって、前記ライブラリに記憶されたパターン形状を選択する方法、及び装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】ワイヤの接合部分の接合状態を安定して測定し、当該接合状態の良否の判断のばらつきを抑えることができるワイヤボンド検査装置及びワイヤボンド検査方法を提供する。
【解決手段】撮像装置により撮影される接合痕の画像情報に基づき、ボンディングワイヤが接触していた痕跡部分であるワイヤ接触領域、及び当該ワイヤ接触領域に含まれる領域であってボンディングワイヤが好適に接合されていた痕跡部分としてボンディングワイヤの一部分が残存するワイヤ残存領域における、シェアツールが近接する側のエッジをそれぞれ検出し、これらエッジの輪郭形状に基づき、ワイヤ接触領域及びワイヤ残存領域をそれぞれ楕円近似する。そして、これら近似楕円の面積をワイヤ接触領域及びワイヤ残存領域の面積としてそれぞれ求め、これら面積の比であるワイヤ接合率を、ワイヤの接合部分の検査の用に供される情報として算出する。 （もっと読む）

【課題】 自動分類の信用性を高めるために調整をしなければならない対象を容易に特定することのできる技術を提供すること。
【解決手段】 分類調整装置１４０は、電子顕微鏡１１０から得られた画像データよりより得られる欠陥の特徴量より、当該欠陥を第一のクラス群に分類し、当該第一のクラス群に分類された前記欠陥の前記特徴量より、前記欠陥を第二のクラス群に分類する。そして、前記第二のクラス群に分類された欠陥と、第二のクラス群に分類されるべき欠陥と、を比較することにより分類性能を算出し、算出した分類性能を予め定められた表示形式にして出力部１８０に出力する。 （もっと読む）

【課題】複数のプロセッサの処理能力を効率良く活用してダイ比較検査，セル比較検査，セルダイ混合比較検査を実施可能な外観検査装置を提供する。
【解決手段】検査対象基板の回路パターンの複数の画像データを分割して切り出し、分配する条件を画像処理装置に設定する全体制御コンピュータと、画像処理装置に設定された前記条件に従って画像データを切り出し、複数のプロセッサへ分配する画像分配処理部とを備え、該プロセッサは前記分配された画像データについて欠陥検出処理を行う。 （もっと読む）

【課題】検査対象パターン画像と基準パターンとの比較検査を実時間で行うこと等である。
【解決手段】検査対象パターン画像と前記検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査対象パターンを検査するパターン検査装置であって、前記データから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成する基準パターン生成手段と、前記検査対象パターン画像を生成する検査対象パターン画像生成手段と、前記検査対象パターン画像のエッジを検出するエッジ検出手段と、前記検査対象パターン画像のエッジと前記基準パターンの前記線分もしくは曲線とを比較することにより、前記検査対象パターンを検査する検査手段を備えた。 （もっと読む）

【課題】高次局所自己相関特徴を用いて異常の有無と共にその位置を高い精度で検出できる高速かつ汎用的な異常領域検出装置を提供すること。
【解決手段】異常領域検出装置は、画像データから画素毎に高次局所自己相関によって特徴データを抽出する手段、画素毎に、その画素を含む所定の範囲の画素群について特徴データを加算する手段、正常領域を示す部分空間に対する特徴データの異常さを示す指標を計算する手段、指標に基づき異常判定する手段、異常と判定した画素位置を出力する手段とを備える。変位幅の異なる複数の高次局所自己相関特徴データを抽出してもよい。更に、特徴データから主成分分析手法により主成分ベクトルに基づく正常領域を示す部分空間を求める手段を備えていてもよい。画素対応に異常判定が可能であり、異常領域の位置を正確に検出可能である。 （もっと読む）

【課題】デバイス画像を生成するための方法、システムおよびコンピュータ・プログラムを開示する。
【解決手段】方法は、デバイスの第一および第二画像を撮像するステップであって、該第一および第二画像はオーバーラップする部分を有する、撮像するステップと、オーバーラップする部分を予測して、第一および第二画像を近似的に整列するためのおおよそのシフト量を得るステップと、を含む。方法は、定義された相互相関アルゴリズムを使ってオーバーラップする部分を解析し、第一および第二画像を整列するための厳密なシフト量を計算するステップと、厳密なシフト量を使って第一および第二画像を一緒に結合するステップと、をさらに含む。一つの実施形態において、光学システムを使って画像が撮像され、第一および第二画像を撮像するために、ステージを使ってデバイスまたは光学システムのいずれかが移動され、予測するステップは、ステージの移動量を用いてオーバーラップする部分を予測するステップを含む。 （もっと読む）