【課題】光軸合わせ作業を簡単且つ迅速に行うことができるＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係るＸ線発生装置は、電子ビームを発生する電子源１、電子源１に対向配置され電子ビームの衝突によりＸ線を発生するターゲット４、前記電子源１と前記ターゲット４との間に配置され電子ビームの通過範囲を制限する絞り孔７ａを有する絞り手段７、前記電子源１と前記絞り手段７との間に配置され電子ビームを偏向する複数の偏向手段２、前記ターゲット４で発生されたＸ線量を検出するＸ線検出手段２０、前記Ｘ線検出手段２０で得られたＸ線検出データに基づいて前記偏向手段２を制御する制御手段２１を備える。制御手段２１は偏向信号にスキャン信号を重畳して各偏向手段２を走査制御し、そのとき表示手段には前記Ｘ線検出手段２０で得られたＸ線検出データに基づいて電子ビームプロファイル、例えばエミッションパターンが表示される。 （もっと読む）

【課題】本発明はエミッタアレイを用いた電子プローブ装置に関し、プローブの径を保持したままでプローブ電流を増加させる電子プローブ装置を提供することを目的としている。
【解決手段】リング状に並べられたＦＥエミッタアレイ１と、該ＦＥエミッタアレイ１のビームを回折面に集束させるためのレンズ２と、回折面に配置された絞り３と、該絞り３の絞り面の縮小像を試料６に照射させるための光学系５とからなり、装置のプローブ径を保ったままでプローブ電流値を増大させるように構成される。 （もっと読む）

【課題】 オペレータによる目視に基づく操作を行うことなく、自動的に、初期設定した大きさの断面の電子ビームを蒸発材料表面上に照射することが出来るようにする。
【解決手段】 蒸発材料３を収容した坩堝４と基板６が設けられたチャンバー１、及び、電子銃７、集束レンズ８、９、走査コイル１１が設けられた鏡筒２を備えており、温度検出器１８が取り付けられたアパーチャ１０を集束レンズ８による電子ビーム集束位置の近傍に配置し、温度検出器１８からのアパーチャ温度信号値を基準値と比較し、その差分を制御装置１３に送る演算回路１９を設け、制御装置１３からの指令により集束レンズ８の集束作用をコントロールする様に成している。 （もっと読む）

【課題】
荷電粒子源の異常放電を正確に検出可能な荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】
荷電粒子源１２と、該荷電粒子源１２に加速電圧を印加する加速電圧源３と、
コアＣにギャップＧを有し前記加速電圧源３と荷電粒子源１２間に1次側巻き線が接続されたトランス３０と、
該トランスの２次側巻き線Ｎ２に流れる電流又は発生する電圧に基づいて１次側巻き線Ｎ１に流れる電流を検出する１次側電流検出回路と、
該１次電流検出回路の出力に基づいて放電を検出する放電検出回路を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 （もっと読む）

【課題】消耗品を交換した場合でも精度を維持できる電子銃ユニットを提供する。
【解決手段】電子ビームを発生する電子源31を設ける。電子源31が発生した電子ビーム28を収束させる収束レンズ32を設ける。収束レンズ32により収束した電子ビーム28の開き角を設定するＮＡアパチャー33を設ける。電子源31の凸部54を収束レンズ32の嵌合孔79に嵌め込んで収束レンズ32の中心軸に対して位置決めする。ＮＡアパチャー33の凸部85を収束レンズ32の嵌合孔76に嵌め込んで収束レンズ32の中心軸に対して位置決めする。電子源31あるいはＮＡアパチャー33などの消耗品を交換した場合でも、精度を維持することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】精度よく非同期回転振れの量を算出する。
【解決手段】回転テーブル３１の回転角度毎の回転振れ量を変位データとして算出し、この変位データを順次メモリ５２ｅに記憶する。そして、メモリ５２ｅに順次記憶された変位データを値の大きさに基づいて並び替え、この並び替えられた変位データのうち順位が中位の変位データの値を基準値とする。変位データをその大きさに基づいて並び変えることにより、非同期回転振れ量を包含する変位データは、並び替えられた変位データのうち高順位、若しくは低順位となるため、並び替えた変位データのうち順位が中位の変位データの値を基準値とすることで、非同期回転振れの影響をほとんど受けていない基準値を算出することができる。そして、この基準値を用いることで、回転テーブル３１の非同期回転振れ量を精度よく算出することができる。 （もっと読む）

【課題】 ＣＮＴカソードでの放電やＣＮＴ飛散による電子放出特性の劣化が少なく、長寿命で信頼性の高い電子線発生装置を提供する。
【解決手段】 放電や劣化の原因である引出し電極のない２極型構造とし、ウェネルトとカソード、アノード間の相対位置を変えることにより電子ビームの電流値およびビーム径を制御することができる。 （もっと読む）

【課題】イオン源装置のセンタリング調整を容易に効率よく行うこと。
【解決手段】本実施の形態では、ソースヘッドと引出電極の中心軸が一直線となり、イオンビーム軸と同軸になっているか否かをレーザビームによって確認する。このため、イオンビーム軸上にレーザビームを発射する発光部５５をソースヘッドの代わりにハウジング５に取り付け、一方、引出電極３には、このレーザビームを反射する反射部５６を取り付ける。発光装置２２は、レーザビームを発光する機能のほかに、レーザビームを検出する機能も備えており、反射部５６で反射したレーザビームを検出してその強度を制御装置４１に出力する。イオン源６は、ハウジング５の端面で位置決めされるため、レーザビームの強度が最大となるように引出電極３を位置調整することにより、イオンビーム軸をイオン源６と引出電極３の中心軸と一致させることができる。 （もっと読む）

【課題】 リボン状のイオンビームのＸ方向における進行角を、Ｙ方向（長手方向）における複数位置において簡単な方法で測定する測定方法を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム測定方法は、イオンビーム２の進行方向Ｚの上流側および下流側にそれぞれ設けられていて複数のビーム検出器１２、２２をＸ方向にそれぞれ有していてＹ方向に可動の二つのビームモニタ１０、２０を用いて、互いにＹ方向における実質的に同じ位置において、イオンビーム２のＸ方向における中心位置ｘ₁ 、ｘ₂ をそれぞれ測定し、測定した中心位置間のＸ方向における距離Ｌ₂ および二つのビームモニタ１０、２０間のＺ方向における距離Ｌ₁ に基づいてイオンビーム２のＸ方向における進行角θを測定し、しかも両ビームモニタ１０、２０をＹ方向に移動させて進行角θの測定をＹ方向における複数の位置において行うものである。 （もっと読む）

【課題】 簡単に電子線光学系のアライメントを行う電子線光学系の調整方法を提供する。
【解決手段】 標準パターンのうち１個だけが他の標準パターンと異なった特殊パターンである標準パターン面を使用し、電子レンズＬ１のパワーを変調することにより、この特殊パターンの中心からの主光線が電子レンズＬ１の中心を通るように、標準パターン面の位置合わせを行う。そして、電子レンズＬ２のパワーを変調することにより、特殊パターンの中心からの主光線が電子レンズＬ１、Ｌ２の中心を通るように偏向器Ｄ１を調整する。その後、電子レンズＬ３のパワーを変調することにより、特殊パターンの中心からの主光線が電子レンズＬ１、Ｌ２、Ｌ３の中心を通るように偏向器Ｄ２を調整する。その後、特殊パターンの像が結像面の中心に形成されるように偏向器Ｄ３を調整する。 （もっと読む）

【課題】
電子線源装置フィラメントの断線・変形を的確に予測・判定し、従来の装置における使用可能なフィラメントの交換による不必要な資源消費および交換費用の発生ならびに、突然の断線や変形発生時の後追い処理による工程の混乱を防止し、測定時間、保守管理工数を低減する。
【解決手段】
フィラメント電流測定回路１１によってフィラメント電流を常時測定し、演算回路１２によって点灯時間零時点におけるフィラメント電流と現在のフィラメント電流の比を常時演算し、比が予め定めた限界比を下回ったときはフィラメントＦの寿命時間到達、また予め定めた上限比を上回ったときはフィラメント異常と判定し、ディスプレイ１３に適切なメッセージを表示する。 （もっと読む）

【課題】ノイズの影響を排除し、高精度、高再現性があり、大規模加速器における複数のビーム位置計測手段を設置する場合に、それぞれのビーム位置計測信号の同期を確保することができる加速器のビーム位置計測装置を提供する。
【解決手段】アナログ信号処理回路２１は、恒温槽４０１を信号処理回路と温度センサー４０３を収納した信号処理部恒温槽４０７と発熱体４０２を収納した温度調整恒温槽４０８とに分割し、温度調整恒温槽４０８を信号処理部恒温槽４０７と距離を置いて配置し、この両者の恒温槽を管路４０９Ａと４０９Ｂで接続し、管路上に送風装置４１０を配置し、そして電源４０４と発熱体スイッチ４０５と温度制御回路４０６とを恒温槽４０１の外部に配置した構成となっている。また、温度センサー４０３からの温度モニタ信号は温度制御回路４０６に入力し、温度制御回路４０６から発熱体スイッチ４０５へ開閉指令を出力する構成とする。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐放射線性及び二次電子放出特性に優れている量子ビームモニタ用電極を提供すること。
【解決手段】本発明の量子ビームモニタ用電極１は、複数のリボン状のカーボングラファイト薄膜２１０が所定間隔おきに一方向に沿って並設されたモニタターゲット２１を備えている。カーボングラファイト薄膜２１０は、厚さが０．５〜１００μｍ、幅が０．０５〜５０ｍｍであることが好ましく、隣接するカーボングラファイト薄膜２１０間の距離は、０．０１〜１００ｍｍであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】イオンビームのプロファイルを決定するためのシステム、方法及び装置が提供される。
【解決手段】装置は、イオンビーム１１０の経路に沿って配置される測定装置１４０、駆動機構１７５、及び駆動機構に回転可能に連結された第１プレート１６５を含む。駆動機構は、イオンビームの経路中、第１軸の周囲に第１プレートが回転するように操作可能であり、測定装置に達するイオンビームを選択的に阻止する。装置は、さらに、駆動機構に回転可能に連結された第２プレート１９３を含み、駆動機構は、第１プレートの回転から独立してイオンビームの経路中、第１軸の周囲で第２プレートが回転するように操作可能であり、さらに、測定装置に達するイオンビームを選択的に阻止する。駆動機構は、さらにイオンビーム中、第１プレート及び／あるいは第２プレートを、直線上、平行移動させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】 フィラメントから照射される電子ビームのビーム電流を自動で一定値に制御し、また、生産ラインに組み込まれたＴＦＴアレイ基板検査装置において、ビーム電流の一定値制御を、生産ラインを停止することなく行う。
【解決手段】 熱電子放出によりフィラメントから電子ビームを放出する電子ビーム発生装置１において、フィラメント３を流れるフィラメント電流を制御するフィラメント電流制御手段４，５を備え、電子ビームのビーム電流を検出し、その検出値をフィラメント電流制御手段にフィードバックすることによってビーム電流を一定値に制御する。フィラメント電流制御手段５は、フィラメント３からＴＦＴアレイ基板１０に向けて照射されるビーム電流の検出値をフィードバックすることによって、電子ビームのビーム電流の一定値制御をより有効に行う。 （もっと読む）

【課題】 電子ビームの軌道の調整作業を容易化して調整精度を向上させると共に，装置の稼動中における電子ビームのずれを容易に検出すること。
【解決手段】 加速器Ｙ１から出射されたイオンビームＬのビーム電流を測定する分割電極１０或いはファラデーカップ２０等のビーム電流測定手段を試料分析装置の測定室７３ａに設け，このビーム電流測定手段によるビーム電流の測定値に基づいてイオンビームＬの軌道位置を検出する。これにより，測定されたビーム電流を電流計測器等でモニタリングしながらイオンビームＬの軌道調整を行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】加工形状を厳密に調整するためには粒子ビームを中性化することが必要である。この中性化を、イオンビームの生成条件や加工条件とは独立に制御可能とし、品質の高い中性粒子ビームを得る。
【解決手段】プラズマを生成しイオンビームを射出するプラズマチャンバ１と、イオンビームを中性化するキャピラリ部２と、キャピラリ部を通過したビームを被加工物に照射する加工チャンバ３とを有する中性粒子線ビーム装置であって、キャピラリ部は、キャピラリ中に中性ガスを供給し排気する手段と、それらを制御しキャピラリ中の中性ガス圧を所定値に設定する制御手段とを有する。 （もっと読む）

耐雑音性が高く、高感度のビーム電流測定を実現することのできる測定装置および測定方法を提供する。
外部磁場遮蔽用の磁気遮蔽部（８）と、前記磁気遮蔽部によって生成された遮蔽空間に配された磁場センサ（２）とを備え、測定すべきビーム電流が生成する磁場を前記磁場センサで測定するビーム電流測定装置であって、前記磁場センサの磁束−帰還電流変換係数を８×１０^−１５ＷＢ／Ａ以上とする。
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【課題】 本発明はＦＩＢ自動加工時のドリフト補正方法及び装置に関し、試料の位置決めとＦＩＢ加工を速やかに行なうことができるＦＩＢ自動加工時のドリフト補正方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】 試料上へのＦＩＢ加工時において、試料上に大小１つずつの参照画像をもつ少なくとも１つの参照画像領域を設定する参照画像設定手段と、ＦＩＢ加工時に前記参照画像領域の画像を読み込む画像読み込み手段２０と、ＦＩＢ加工時に、前記読み込んだ画像からイオンビーム照射前と照射後の画像のずれの方向と量を求める演算制御手段３０と、該演算制御手段３０の出力を受けて画像のずれの方向と量とに基づいて画像のずれを補正してビーム偏向系の補正を行なうビーム偏向系調整手段とを具備して構成される。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ面内の反りの影響を排除して特定の位置に精度良く移動する傾斜荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】基準点として予めステージ平面と同じ水平と高さを決めた視野合せ調整用マーク４７を形成した部位４６をウェーハホールダ上に設けた。試料上の観察点の高さをマーク４７の高さに調整し、その時の傾斜カラムと垂直カラムの視野の既知のオフセットを用いることにより、傾斜カラムと垂直カラムの視野を一致させる。 （もっと読む）