【課題】 液晶ディスプレイ、発光ダイオード、有機ＥＬディスプレイ、タッチパネルなどの表示デバイスに用いられる透明酸化物層とＡｇ合金薄膜層との密着性を向上させた積層電極膜およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 透明酸化物層１とＡｇ合金薄膜層２とが積層された積層電極膜であって、Ａｇ合金薄膜層２は、Ｉｎ：０．１〜１．５質量％を含み、残部がＡｇおよび不可避不純物からなる成分組成を有し、透明酸化物層１とＡｇ合金薄膜層２との接合界面に、Ｉｎ酸化物３が形成されている。 （もっと読む）

【課題】従来よりも簡便な構造で額縁領域が見え難く、あるいはタイリングした場合に継ぎ目が無い画像を表示でき、表示品位が高く薄型化、軽量化に適した表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、表示領域１０Ａと表示領域の外側に設けられた額縁領域１０Ｆとを有し、表示領域と額縁領域との間に第１の方向に延びる境界が存在する少なくとも１つの表示パネル１０と、少なくとも１つの表示パネルの観察者側に配置された少なくとも１つの透光性カバー１４とを備える。少なくとも１つの透光性カバーは、境界を跨ぐように配置されたレンズ部１４１であって、表示領域から出射された光の一部を額縁領域の側に屈折させるレンズ部を有し、レンズ部の観察者側表面１４１１は曲面であり、かつ、レンズ部の背面側表面１４１２も曲面であり、いずれもが凸曲面である。 （もっと読む）

【課題】双安定機構を含み、かつ、削減された電力消費のために低電圧で駆動されることが可能な機械的に作動可能なディスプレイを提供する。
【解決手段】本発明は、ＭＥＭＳベースのディスプレイ装置に関する。特に、ディスプレイ装置は、２つの機械的にコンプライアントな電極を有するアクチュエータを含んでもよい。さらに、ディスプレイ装置に含まれる、双安定シャッタ組立体と、シャッタ組立体内でシャッタを支持するための手段とが開示される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、バリア性および狭額縁を同時に実現することが可能であり、さらには放熱性にも優れる電子素子用積層基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、電子素子に用いられる電子素子用積層基板であって、絶縁層貫通孔を有する絶縁層と、上記絶縁層貫通孔に充填された第１導通部と、上記絶縁層上にパターン状に形成され、上記第１導通部上に開口部を有する金属層と、上記電子素子用積層基板の厚み方向に形成され、上記電子素子用積層基板の表裏を導通し、少なくとも上記第１導通部を有する導通部とを有し、上記導通部が上記金属層と導通していないことを特徴とする電子素子用積層基板を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】基板及び／又は絶縁膜との高い密着性を有し、且つ、液晶表示装置などの製造過程で施される熱処理後も低い電気抵抗率を有する新規なＣｕ合金膜を提供する。
【解決手段】基板上にて、基板及び／又は絶縁膜と直接接触するＣｕ合金膜であって、前記Ｃｕ合金膜は基板側から順に、合金成分としてＸ（Ｘは、Ａｇ、Ａｕ、Ｃ、Ｗ、Ｃａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｎ、ＢおよびＮｉよりなる群から選択される少なくとも一種の元素）を含有するＣｕ−Ｍｎ−Ｘ合金層（第一層）と、純Ｃｕ、またはＣｕを主成分とするＣｕ合金であって前記第一層よりも電気抵抗率の低いＣｕ合金からなる層（第二層）で構成されたＣｕ合金膜である。 （もっと読む）

【課題】本発明の実施例は非晶質酸化物薄膜トランジスタ及びその製造方法、ディスプレイパネルを開示する。
【解決手段】前記非晶質酸化物薄膜トランジスタは、ゲート電極、ゲート絶縁層、半導体活性層、ソース電極及びドレイン電極を含む。前記半導体活性層はチャネル層とオーミック接触層を含み、前記チャネル層は前記オーミック接触層に比べ酸素含有量が高い。また、前記チャネル層は前記ゲート絶縁層と接し、前記オーミック接触層は二つの独立したオーミック接触領域に分けられ、かつ前記二つの独立したオーミック接触領域はそれぞれ前記ソース電極、ドレイン電極と接する。 （もっと読む）

【課題】 表示装置において、光硬化型樹脂からなるシール材の領域に重なる引き出し配線部分のシール材に充分に光照射できると共に、引き出し配線の抵抗値が比較的小さく、シール材の領域において引き出し配線の一部分が断線しても抵抗値の増加が少なく、冗長性に優れたシール材の領域における引き出し配線構造を提供する。
【解決手段】 液晶表示装置１００を構成するアレイ基板１０と対向基板２０とが、光硬化型樹脂からなるシール材４０で貼り合わされ、少なくとも１種類の引き出し配線６は、シール材４０の領域において、引き出し配線６方向に平行な第１の枝配線部７ａの端部と、引き出し配線６方向に対して斜め方向の第２の枝配線部７ｂの端部とを繋げることにより構成された六角形状の配線経路８を複数並べて配置した蜂の巣構造をしている。 （もっと読む）

【課題】熱収縮率のばらつきの小さい無アルカリガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】常温から１０℃／分の速度で昇温し、保持温度４５０℃で１０時間保持し、１０℃／分の速度で降温（図１に示す温度スケジュールで熱処理）したときの熱収縮率の絶対値が５０ｐｐｍ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量％で表示して、ＳｉＯ₂：４０〜７０％，Ｂ₂Ｏ₃：５〜２０％，Ａｌ₂Ｏ₃：１０〜２５％，ＭｇＯ：０〜１０％，ＣａＯ：０〜２０％，ＳｒＯ：０〜２０％，ＢａＯ：０〜１０％，Ｌｉ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｎａ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｋ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｃｌ：０％を超え１．５％以下，を含み、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが０．０６％を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。 （もっと読む）

【課題】記憶効果の特性を有する表示素子を使用して、画面全体として良好な表示特性が得られる表示パネルを備えた大型の映像表示装置を実現する。
【解決手段】映像表示装置は、表示タイル４１と、複数の表示タイル４２が接合されて構成される表示パネルとを備えた構成であり、表示タイル４１、４２は、記憶効果の特性を有する表示素子３０の配列により構成される。表示タイル４１は、表示素子３０が一定間隔で配列されて、かつ他の表示タイル４２と接合した場合に、他の表示タイル４２の表示素子３０との間隔も一定間隔になるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】ＳＧＺＯ系酸化物半導体薄膜において、低温アニールによる低抵抗化が起こらず、成膜時の抵抗値と低温アニール後の抵抗値が同等となる組成を明らかとし、再現性が高く、大面積デバイス、特にフレキシブルデバイス作製に適した製造方法を提供する。
【解決手段】構成元素の組成比をＳｎ:Ｇａ:Ｚｎ＝ａ:ｂ:ｃとした場合、組成比が、ａ＋ｂ＝２、且つ１≦ａ≦２、且つ１≦ｃ≦１１／２、且つｃ≧−７ｂ／４＋１１／４を満たす酸化物半導体薄膜を基板上に成膜する成膜工程と、成膜工程後、酸化性雰囲気中で１００℃以上３００℃未満の熱処理を施す熱処理工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ガスリーク（ｌｅａｋ）の発生が少なく、また抵抗上昇が抑制され、且つ表面クラック又は損傷の発生が少ないアドレス電極を提供する。
【解決手段】アルミニウム含有層及び銀含有層が積層された二重層を含む、アドレス電極。 （もっと読む）

【課題】視認性の向上した有機発光ディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】第１基板と；第１基板と対向するように配置された第２基板と；第１基板と第２基板との間に配置されて有機発光素子を含むディスプレイ部と；第１基板と第２基板との間にディスプレイ部を取り囲むように配置され、第１基板と第２基板とを接合させる密封材と；ディスプレイ部を覆うように密封材の内側に配置され、光変色性材料を含む充填材と；を備え、光変色性材料は、４７０ｎｍ〜４９０ｎｍ波長の光を吸収する第１光変色性材料、及び５５０ｎｍ〜５８０ｎｍ波長の光を吸収する第２光変色性材料を含む有機発光ディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】フルカラーまたはそれに準じる表示が可能であって高コントラストの画像表示が可能な電気泳動表示装置およびその駆動方法、電子機器を提供する。
【解決手段】本発明の電気泳動表示装置は、互いに対向配置された第１および第２基板と、第１基板および第２基板の間に配置され、第１色に着色された複数の第１帯電粒子および第２色に着色された第２帯電粒子と、これら第１および第２帯電粒子を保持する分散媒とを有する電気泳動層と、第１基板の電気泳動層側に配置され互いに独立駆動される第１画素電極および第２画素電極と、第２基板の電気泳動層側に配置される対向電極と、電気泳動層より第１基板側の位置に設けられる反射電極と、を備え、第１帯電粒子が、第１波長領域で透過性を有するとともにそれ以外の波長領域で吸収性を有し、第２帯電粒子が、第２波長領域で反射性を有するとともにそれ以外の波長領域で吸収性を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】画像表示装置の配線等として用いられる銅導電膜を形成する際に、生産性を大きく低下させることなく、段差構造体の最大線幅が最小線幅に対して４倍以上である場合においても均一なめっき高さでめっきを行ない、段差構造体間での抵抗ばらつきの小さい銅配線パターンを容易に形成できるようにする。
【解決手段】基材上に並列配置され、かつ最大線幅が最小線幅の４倍以上である複数の段差構造体を横断被覆する銅導電膜４の形成において、電解めっき液の液導電率を６０Ｓ／ｍ以上とし、かつ銅導電膜４の膜厚を段差構造体の最大高さに対して２倍以上とする。 （もっと読む）

【課題】導電性が高く、透明性に優れ、更にコントラスト比が高い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶表示装置は、液晶層と、前記液晶層を介して互いに対向して配置された第１の透明基板及び第２の透明基板と、前記第１の透明基板の前記液晶層とは反対側に配置された透明導電膜とを備え、前記透明導電膜は、前記第１の透明基板の前記液晶層とは反対側の主面上に塗布により形成され、前記透明導電膜は、導電性無機粒子と樹脂成分とを含み、前記導電性無機粒子の平均粒子径が、３０〜１８０ｎｍであり、前記導電性無機粒子の前記透明導電膜の全体に対する重量含有率が、７１％以上８５％未満であり、前記透明導電膜を配置した前記第１の透明基板のヘイズ値が、１．４％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】エレクトロクロミック表示装置の電解質層として有用な、電圧印加よってインピーダンスの制御が可能な（イオン移動度を可変できる）イオン伝導体と、これを用いた低揮発性で信頼性が高いとともに、発消色応答が速くメモリー性にも優れたエレクトロクロミック表示装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも無機または有機の陰・陽対イオンを有する塩からなる電解質と、低分子液晶材料との混合物からなり、交流インピーダンス法により測定されるインピーダンスが、前記低分子液晶材料の配向応答により、印加電圧の増大に応じて変化することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フレキシブル基板に形成されたパターンの寸法精度を容易に向上させることができるフレキシブル基板積層体を提供する。
【解決手段】本発明によるフレキシブル基板積層体１０、一対のフレキシブル基板１１、１２と、一対のフレキシブル基板１１、１２の間に介在された粘着層１３とを備えている。一対のフレキシブル基板１１、１２のうち一方のフレキシブル基板１１に、パターン１４が形成されている。この一方のフレキシブル基板１１のうちパターン１４が形成された部分において、一対のフレキシブル基板１１、１２を貼り合せたことにより生じたひずみが、±０．０１％以内となっている。 （もっと読む）

【課題】ボトムコンタクト構造で、かつセルフアラインのＴＡＯＳ ＴＦＴにおいて、ＴＡＯＳ層のソース領域およびドレイン領域に相当する領域を十分に低抵抗化できる製造方法、およびこのＴＡＯＳ ＴＦＴを用いた表示装置用電極基板の製造方法を得る。
【解決手段】ゲート電極１２、ソース電極１４およびドレイン電極１５上に、ゲート電極１２を跨いでソース電極１４とドレイン電極１５とを繋ぐように第１、第２ＴＡＯＳ層１６、１７を形成するステップと、第１、第２ＴＡＯＳ層１６、１７上に、ゲート電極１２をマスクとしたガラス基板１１側からの露光により島状絶縁膜１８を形成するステップと、ガラス基板１１の全面に、島状絶縁膜１８をマスクとして、島状絶縁膜１８側からプラズマを照射するステップと、島状絶縁膜１８の周囲に露出した第１、第２ＴＡＯＳ層１６、１７をアルカリ溶液に浸すステップとを備える。 （もっと読む）

【課題】発光効率が低下しない表示装置を提供する。
【解決手段】発光部１５が位置する凹部１３が充填膜２７で充填されてから無機膜２８が形成されるので、無機膜２８に亀裂が生じない。無機膜２８はダイヤモンドライクカーボンやＡｌＮのように、気密性と熱伝導性が高い材料で構成されているので、発光部１５に水や酸素が進入し難いだけでなく、発光部１５の熱は無機膜２８に伝達され、発光部１５が高温にならない。更に、第一パネル１０、第二のパネル２０の間の隙間は樹脂膜２９で充填されているので、外部から大気が進入しない。発光部１５は水や酸素や熱によってダメージを受けないので、表示装置１は寿命が長い。 （もっと読む）