【課題】薄膜トランジスタにおいて透明導電膜とＡｌ合金膜が直接接続する構造を備えた表示装置であって、上記腐食防止用塗料の塗布や剥離といった更なる工程を設けることなく、ピンホール腐食を防止することのできる表示装置を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタにおいて透明導電膜とＡｌ合金膜が直接接続する構造を備えた表示装置であって、前記Ａｌ合金膜が、Ｎｉおよび／またはＣｏを０．１５原子％以下（０原子％を含まない）、Ｇｅを０．２原子％以上２．０原子％以下、およびＬａ、Ｇｄ、ＮｄおよびＹよりなる群から選択される１種以上の元素を０．０５原子％以上１．０原子％以下含有し、かつ、前記Ａｌ合金膜の表面において観察される腐食孔のアスペクト比（腐食深さ／腐食直径）が０．１２以下であることを特徴とする表示装置。 （もっと読む）

【課題】キャパシタ専用の領域を設置、又は増やすことなく、キャパシタを設けることで、設計の自由度を高める。
【解決手段】発光表示装置１０は、基板２１０と、基板２１０の上方に設けられた半導体層２２０、半導体層２２０上に設けられたゲート絶縁膜２３０、ゲート絶縁膜２３０上に設けられたゲート電極１０３ｇ、並びに、ソース電極１０３ｓ及びドレイン電極１０３ｄを含む駆動トランジスタ１０３と、ゲート電極１０３ｇ上に設けられた層間絶縁膜２４０と、駆動トランジスタ１０３ｇを用いて構成される駆動回路によって発光駆動される有機ＥＬ素子１０４と、ゲート電極１０３ｇの上方領域内であって、層間絶縁膜２４０上に配置されたキャパシタ電極１０２ｂとを備え、キャパシタ電極１０２ｂは、ゲート電極１０３ｇとの間でキャパシタ１０２を構成している。 （もっと読む）

【課題】電気光学ディスプレイを提供すること。
【解決手段】電気光学ディスプレイは、基板（１００）と、該基板（１００）の実質的に１つの面に配置された非線形デバイス（１０２）と、該非線形デバイス（１０２）と接続されている画素電極（１０６）と、電気光学媒体（１１０）と、該画素電極（１０６）に対して該電気光学媒体（１１０）の反対面上の共通電極（１１２）とを備える。該ディスプレイの様々なパーツの係数は、該ディスプレイが湾曲しているとき、中立軸または中立面が該非線形デバイス（１０２）の該平面に実質的に横たわっているように調製されている。 （もっと読む）

【課題】蛍光体の体色と表示面の色が異なっていても、光源の非点灯時において、蛍光体の体色が外部から視認されることのない表示装置を実現する。
【解決手段】上端開口を有するケース部材12と、ケース部材12の上端開口を閉塞し、白色の表示面14aを有する透光性基板14と、ケース部材12内に配置されるＬＥＤ16を有しており、また、上記透光性基板14の背面側に、赤色の体色を有する蛍光体20R、緑色の体色を有する蛍光体20Gが被着形成された透明シート18を配置して成り、上記蛍光体20R，20Gの表面に、白色顔料22を付着した。 （もっと読む）

【課題】純銀薄膜が用いられた上部電極において、断線を生じにくくさせた有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板ＳＢ上に、複数の画素が配列された表示領域ＤＲと、表示領域ＤＲから離れてその外側に配置され、複数の画素に電位を供給する電源部ＣＣと、を有する有機ＥＬ表示装置であって、複数の画素のそれぞれは、下部電極Ａｎと、下部電極Ａｎの上側に積層される発光層を含む有機膜ＥＬと、銀薄膜ＡＧを含み、発光層の上側で他の画素と共通する層により形成される上部電極と、を有し、上部電極は、表示領域ＤＲから電源部ＣＣに向かって延伸して、電源部ＣＣと電気的に接続され、銀薄膜ＡＧは、表示領域ＤＲと電源部ＣＣの間において配置される部分を有し、表示領域ＤＲと電源部ＣＣの間における銀薄膜ＡＧの少なくとも一部の下地には、電子対供与体を有する下地層が配置される、ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。 （もっと読む）

【課題】高い光取出し効率を有し、高精細な表示を可能としつつ半球状レンズの加工精度及びアライメント精度に優れる有機電界発光表示装置を提供すること。
【解決手段】円形の副画素と該円形の副画素と異なる発色を示し該円形の副画素の外周に配される円環状の副画素とを含む画素を有する有機電界発光表示部と、前記円形の副画素の略中心に中心軸が一致するように前記画素上に配される半球状レンズとを有し、前記円環状の副画素の最外周の直径が、前記半球状レンズのレンズ直径に対して６０％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

イオン交換性でありかつ少なくとも１つの粗面化表面を有するガラス物品。粗面化表面は、２０°の入射角で測定したときに９０未満の反射画像鮮明度ＤＯＩを有する。そのようなガラス物品を含むピクセル型ディスプレイシステムも提供する。 （もっと読む）

【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能なディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイを提供する。
【解決手段】ＳｉＯ₂を４０〜７０重量％、Ａｌ₂Ｏ₃を０．１〜２０重量％、Ｎａ₂Ｏを０〜２０重量％、Ｌｉ₂Ｏを０〜１５重量％、ＺｒＯ₂を０．１〜９重量％含有し、Ｌｉ₂ＯとＮａ₂Ｏの合計含有量が３〜２０重量％であるガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】配線としての積層膜の電気抵抗を低減し消費電力も低減することができるようにする。
【解決手段】本発明は、絶縁性透明基板２上に回路配線を備えた電子装置用配線基板１において、回路配線は、銅と微量の添加元素とからなる配線本体５と、配線本体５の外周側に形成された、絶縁性透明基板に接している第１の被膜層６１と、絶縁性透明基板に接していない第２の被膜層６２とを有し、第１および第２の被膜層６１，６２は、膜厚みが異なるとともに、厚み大である被膜層６１は、透明な酸化物導電膜を形成しうる無機元素の酸化物と、添加元素の酸化物とを含む複合酸化物であり、第１および第２の被膜層６１，６２中の添加元素の濃度は、配線本体５中の添加元素の濃度よりも高い、ことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】表示装置内でシール材部分と画素部及び駆動回路周辺の配線部分とが占める面積が大きく、表示装置を小型化する上で問題となっていた。
【解決手段】画素基板上のシール材で覆われた部分に配線を形成する。なお、この配線を介してシール材に紫外線を照射した時に、配線上部のシール材が紫外線に十分露光される様にこの配線の線幅を設定する。線幅の大きな配線を用いる代わりに、複数の線幅の小さな配線を並列に接続した形状の配線を用いる。これにより、表示装置内で画素部及び駆動回路周辺の配線とシール材とが占める面積を減らし、表示装置を小型化することができる。 （もっと読む）

【課題】 広範囲にわたって全導電性領域に、断切れ及び上層配線層との間のリーク電流の発生のない、均一な膜厚の銅配線層を形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】 ガラス基板上に薄膜トランジスタ及び配線を有する半導体装置を製造する方法において、ガラス基板上に下地絶縁層を形成する工程と、前記下地絶縁層上に下地バリア層を形成する工程と、前記下地バリア層上にシード層を形成する工程と、前記シード層を前記配線に対応する形状にパターニングしてシード層パターンを形成する工程と、前記シード層パターンの表面に銅配線層を無電解めっき法で形成する工程と、前記銅配線層マスクとして前記下地バリア層をパターニングする工程と、前記銅配線層を被覆するように絶縁層を形成する工程とを備えたことを特徴する半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬディスプレイや液晶ディスプレイなどの表示装置において、半導体層と例えばソース電極やドレイン電極を構成するＡｌ系膜とを安定して直接接続させることが可能であるとともに、ウェットプロセスで用いる電解質液中で、半導体層とＡｌ系膜との間でガルバニック腐食が生じにくく、Ａｌ系膜の剥離を抑制することのできる配線構造を提供する。
【解決手段】基板１の上に、基板１側から順に、薄膜トランジスタの半導体層４と、半導体層４と直接接続するＡｌ合金膜６と、を備えた配線構造であって、半導体層４は酸化物半導体からなり、Ａｌ合金膜６は、Ｎｉおよび／またはＣｏを含む。 （もっと読む）

【課題】ガラスフィルムの表面品位が良好であるにもかかわらず、ガラスフィルムを順次引き出す際に、剥離による帯電が生じ難いガラスロールを創案することにより、可撓性デバイスの表示特性や生産性等を高めること。
【解決手段】本発明のガラスロールは、フィルム厚２００μｍ以下のガラスフィルムをロール状に巻き取ったガラスロールであって、ガラスフィルムの誘電率が７以下であり、且つ平均表面粗さＲａが１０Å以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ソース電極とドレイン電極のドライエッチングレートの低下や、エッチング残さを引き起こすことがなく、半導体層と、ソース電極やドレイン電極といった配線金属の間からバリアメタルを省略することができる薄膜トランジスタ基板および表示デバイスを提供する課題とする。
【解決手段】半導体層１、ソース電極２、ドレイン電極３、透明導電膜４を有する薄膜トランジスタ基板において、ソース電極２とドレイン電極３は、ドライエッチング法によるパターニングで形成されたＧｅ：０．３〜１．２原子％、Ｎｉ：０．１〜１．０原子％未満、Ｌａおよび／またはＮｄ：０．１原子％〜１．０ 原子％を含有するＡｌ合金薄膜より成り、半導体層１と直接接続している。 （もっと読む）

【課題】酸化物透明導電膜の上に反射電極用のＡｌ合金膜が直接接続された構造を備えた表示装置において、ＴＭＡＨ水溶液などのアルカリ現像液中での腐食が生じ難く、Ａｌ系合金膜の腐食を有効に防止することが可能な表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に酸化物透明導電膜を形成する第１の工程と、酸化物透明導電膜上にＡｌ合金膜を形成する第２の工程と、Ａｌ合金膜を加熱する第３の工程と、を包含し、Ａｌ合金膜は、Ｃｏを０．１〜４原子％、Ｌａを０．１〜２原子％含有するＡｌ−Ｃｏ−Ｌａ合金などであり、第２の工程における基板温度と第３の工程における加熱温度の関係について、（１）基板を加熱しないときは、加熱温度の下限を２００〜２５０℃に設定し、（２）基板温度を１００℃以上２５０℃以下に加熱するときは、加熱温度の下限を１００〜２００℃に設定する。 （もっと読む）

本開示は、順次的に表示される左目画像及び右目画像の偏光エンコーディングに基づく立体視フラットパネルディスプレイシステムについて記載する。システムは、ライン毎にアドレス指定される液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）パネル、照明バックライトユニット及び偏光制御パネル（ＰＣＰ）を備える。右目画像及び左目画像は、実質的に同期して駆動されるＰＣＰによって偏光状態が制御されるＬＣＤに書き込まれる。バックライトは、連続的に点灯される、若しくは、時間的に、空間的に又はその両方でＰＣＰにより変調される。 （もっと読む）

【課題】安定した電気特性を有する薄膜トランジスタを有する、信頼性のよい半導体装置を提供することを課題の一とする。また、高信頼性の半導体装置を低コストで生産性よく作製することを課題の一とする。
【解決手段】チャネル形成領域を含む半導体層、ソース領域及びドレイン領域を酸化物半導体層とする薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、酸化物半導体層の純度を高め、不純物である水分などを低減する加熱処理（脱水化または脱水素化のための加熱処理）を行う。 （もっと読む）

【課題】透過する光の散乱を抑制して、歪曲現象が防止された、透明な有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】本発明による有機発光表示装置は、透明領域及び前記透明領域を介して互いに隔離した複数の画素領域を含む基板部材と、前記画素領域上に形成された薄膜トランジスター及び蓄電素子と、前記画素領域及び前記透明領域上に形成されて、前記薄膜トランジスター及び前記蓄電素子のうちの一つ以上に各々接続されたゲートライン、データライン、及び共通電源ラインと、前記画素領域上に形成された前記薄膜トランジスター、前記蓄電素子、前記ゲートライン、前記データライン、及び前記共通電源ラインを全て覆う画素電極とを含む。 （もっと読む）

【課題】封着材料層のコーナー部へのレーザ照射に起因するガラス基板や封着層のクラックや割れ、また封着ガラスの発泡による気密性の低下等を抑制することを可能にした封着材料層付きガラス部材およびそれを用いた電子デバイスを提供する。
【解決手段】ガラス基板３は封止領域７を備える。ガラス基板３の封止領域７上には、封着ガラスと低膨張充填材とレーザ吸収材とを含有する封着用ガラス材料からなる封着材料層９が設けられている。枠状の封着材料層９は直線部９ａとコーナー部９ａとで構成されている。封着材料層９は直線部９ａのレーザ吸収材の含有量Ａに対するコーナー部９Ｂのレーザ吸収材の含有量Ｂの比（Ｂ／Ａ）が１０〜９０％の範囲とされている。 （もっと読む）

【課題】ガリウムがドーピングされた酸化亜鉛系伝導体の固溶限界を増加させ、これを通じて、電子濃度・移動度および電気伝導度を向上させるところにある。
【解決手段】ＺｎＯに、ＧａとともにＭｎをコドーピングしてストレスを緩和させることにより、ＺｎＯ内でのガリウムの固溶限界を増加させ、これを通じて、ＧＺＯの電子濃度、移動度および電気伝導度を向上させ、耐湿性などの安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を向上させることができる。好ましくは、前記Ｇａは０．０１〜１０ａｔ％、前記Ｍｎは０．０１〜５ａｔ％の濃度でドーピングされる。より好ましくは、前記Ｇａは２〜８ａｔ％、前記Ｍｎは０．１〜２ａｔ％の濃度でドーピングされる。さらにより好ましくは、前記Ｇａは４〜６ａｔ％、前記Ｍｎは０．２〜１．５ａｔ％の濃度でドーピングされる。前記酸化亜鉛系伝導体は、太陽電池の電極、ＬＣＤのようなディスプレイ装置の電極などに使用される透明伝導体とすることができる。 （もっと読む）