表示装置
【課題】表示装置内でシール材部分と画素部及び駆動回路周辺の配線部分とが占める面積が大きく、表示装置を小型化する上で問題となっていた。
【解決手段】画素基板上のシール材で覆われた部分に配線を形成する。なお、この配線を介してシール材に紫外線を照射した時に、配線上部のシール材が紫外線に十分露光される様にこの配線の線幅を設定する。線幅の大きな配線を用いる代わりに、複数の線幅の小さな配線を並列に接続した形状の配線を用いる。これにより、表示装置内で画素部及び駆動回路周辺の配線とシール材とが占める面積を減らし、表示装置を小型化することができる。
【解決手段】画素基板上のシール材で覆われた部分に配線を形成する。なお、この配線を介してシール材に紫外線を照射した時に、配線上部のシール材が紫外線に十分露光される様にこの配線の線幅を設定する。線幅の大きな配線を用いる代わりに、複数の線幅の小さな配線を並列に接続した形状の配線を用いる。これにより、表示装置内で画素部及び駆動回路周辺の配線とシール材とが占める面積を減らし、表示装置を小型化することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、封止構造を有する表示装置に関する。特に、半導体素子（半導体薄膜を用いた素子）を用いたアクティブマトリクス型表示装置に関する。また、アクティブマトリクス型表示装置を、表示部に用いた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラット型ディスプレイとして、ＥＬ素子を有したＥＬ表示装置等の電気光学装置が注目されている。
【０００３】
ＥＬ素子は一対の電極（陽極と陰極）間にＥＬ層が挟まれた構造となっているが、ＥＬ層は通常、積層構造となっている。代表的には、コダック・イーストマン・カンパニーのTangらが提案した「正孔輸送層／発光層／電子輸送層」という積層構造が挙げられる。この構造は非常に発光効率が高く、現在、研究開発が進められているＥＬ表示装置は殆どこの構造を採用している。
【０００４】
また他にも、陽極上に正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層、または正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層の順に積層する構造でも良い。発光層に対して蛍光性色素等をドーピングしても良い。
【０００５】
本明細書において陰極と陽極の間に設けられる全ての層を総称してＥＬ層と呼ぶ。よって上述した正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層等は、全てＥＬ層に含まれる。
【０００６】
そして、上記構造でなるＥＬ層に一対の電極から所定の電圧をかけ、それにより発光層においてキャリアの再結合が起こって発光する。なお本明細書においてＥＬ素子が発光することを、ＥＬ素子が駆動すると呼ぶ。また、本明細書中では、陽極、ＥＬ層及び陰極で形成される発光素子をＥＬ素子と呼ぶ。
【０００７】
なお、本明細書中において、ＥＬ素子とは、一重項励起子からの発光（蛍光）
を利用するものと、三重項励起子からの発光（燐光）を利用するものの両方を示すものとする。
【０００８】
ＥＬ表示装置の構成として、アクティブマトリクス型が挙げられる。
【０００９】
図９に、アクティブマトリクス型ＥＬ表示装置の画素部の構成の例を示す。アクティブマトリクス型ＥＬ表示装置では、各画素が薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと表記する）を有している。ゲート信号線駆動回路から選択信号を入力するゲート信号線（Ｇ１〜Ｇｙ）は、各画素が有するスイッチング用ＴＦＴ９０１のゲート電極に接続されている。また、各画素が有するスイッチング用ＴＦＴ９０１のソース領域とドレイン領域は、一方がソース信号線駆動回路から信号を入力するソース信号線（Ｓ１〜Ｓｘ）に、他方がＥＬ駆動用ＴＦＴ９０２のゲート電極及び各画素が有するコンデンサ９０３の一方の電極に接続されている。コンデンサ９０３のもう一方の電極は、電源供給線（Ｖ１〜Ｖｘ）に接続されている。各画素の有するＥＬ駆動用ＴＦＴ９０２のソース領域とドレイン領域の一方は、電源供給線（Ｖ１〜Ｖｘ）に、他方は、各画素が有するＥＬ素子９０４に接続されている。
【００１０】
ゲート信号線駆動回路によりゲート信号線Ｇ１が選択され信号が入力されると、ゲート信号線Ｇ１に接続されたスイッチングＴＦＴ９０１がオンになる。ここで、ソース信号線駆動回路よりソース信号線Ｓ１〜Ｓｘに信号が入力されると、信号が入力された画素において、ＥＬ駆動用ＴＦＴ９０２がオンになり、電源供給線（Ｖ１〜Ｖｘ）よりＥＬ素子９０４に電流が流れて、ＥＬ素子９０４は発光する。この動作をすべてのゲート信号線Ｇ１〜Ｇｙについて繰り返し、画像の表示を行う。
【００１１】
ＥＬ素子９０４は、陽極と、陰極と、陽極と陰極の間に設けられたＥＬ層とを有する。ＥＬ素子９０４の陽極がＥＬ駆動用ＴＦＴ９０２のソース領域またはドレイン領域と接続している場合、ＥＬ素子９０４の陽極が画素電極、陰極が対向電極となる。逆に、ＥＬ素子９０４の陰極がＥＬ駆動用ＴＦＴ９０２のソース領域またはドレイン領域と接続している場合、ＥＬ素子９０４の陰極が画素電極、陽極が対向電極となる。
【００１２】
なお、本明細書において、対向電極の電位を対向電位という。なお、対向電極に対向電位を与える電源を対向電源と呼ぶ。画素電極の電位と対向電極の電位の電位差がＥＬ駆動電圧であり、このＥＬ駆動電圧がＥＬ層に印加される。
【００１３】
ここで、有機ＥＬ層は、水分や酸素により、劣化するという問題がある。その為、ＥＬ層を形成した後、大気中に出さずに窒素雰囲気中で、紫外線硬化樹脂により封止するのが一般的である。図４にＥＬ表示装置の封止の例を示す。
【００１４】
図４（Ａ）にＥＬ表示装置の上面図を示す。ＥＬ素子を有する画素部４０２、ゲート信号線駆動回路４０３及びソース信号線駆動回路４０４を有する絶縁基板４１上に、画素部４０２、ゲート信号線駆動回路４０３及びソース信号線駆動回路４０４を囲むようにシール材４０１を形成する。この際、後に充填材４３を注入するための注入口として開口部（図示せず）を設けておく。その後スペーサー（図示せず）を撒布してカバー材４２を貼り合わせる。シール材４０１を紫外線照射により硬化させた後、カバー材４２とシール材４０１で囲まれた領域に充填材４３を注入し、充填材４３を封止材（図示せず）により注入口を封止する。
【００１５】
図４（Ｂ）に図４（Ａ）のＡ〜Ａ'の断面図を示す。
【００１６】
なお、ここでは説明を簡単にするため、ゲート信号線駆動回路４０３を構成するＴＦＴ４１３及び画素部４０２を構成するＥＬ駆動用ＴＦＴ４１４とＥＬ素子４１７のみを示す。絶縁基板４１を画素基板と呼ぶことにする。ＥＬ素子４１７は、画素電極４０７とＥＬ層４１６及び対向電極４０８により構成される。シール材４０１により、カバー材４２が取り付けられ、画素基板４１とカバー材４２との間に充填材４３が封入されている。充填材４３には、吸湿性物質（図示せず）が添加されている。この様にして、水分によるＥＬ素子４１７の劣化を防いでいる。
【００１７】
ここで、４０６はＴＦＴ４１３及びＥＬ駆動用ＴＦＴ４１４のゲート絶縁膜、４１５は層間絶縁膜である。
【００１８】
なお、画素部４０２、ゲート信号線駆動回路４０３及びソース信号線駆動回路４０４に入力される信号は、ＦＰＣ（フレキシブルプリントサーキット）基板４１０より配線４１２（４１２ａ〜４１２ｃ）を通して入力される（図４（Ａ）参照）。ここで、配線４１２は、画素基板４１とシール材４０１の間をとおって、ＦＰＣ基板４１０と各駆動回路を接続している。なお、ＦＰＣ基板４１０は、外部入力端子４０９において、異方性導電性膜（図示せず）により、配線４１２と接続されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
ＥＬ表示装置において、ＥＬ素子の劣化を防ぐため、シール材を用いて、画素基板とカバー材を貼り合わせＥＬ素子を封止する必要がある。
【００２０】
ここで、シール材の部分や各駆動回路部分などは、画素部とは異なり、画像を表示しない部分である。従来の表示装置では、表示画面に対して、この画像を表示しない部分の占める割合が大きく、表示装置を小型化する上で問題となっていた。
【００２１】
そこで、表示装置において画素部以外の部分の面積を小さくすることを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
画素基板上のシール材で覆われた部分に、配線を形成する。なお、この配線を介してシール材に紫外線を照射したときに、配線上部のシール材が、紫外線に十分露光される様に、この配線の線幅を設定する。
【００２３】
これにより、表示装置内で、画素部及び駆動回路部周辺の配線とシール材とが占める面積を減らし、表示装置を小型化することができる。
【００２４】
以下に本発明の構成を示す。
【００２５】
本発明によって、 基板と、カバー材と、シール材とを有し、 前記基板上に、複数の画素と、前記複数の画素に信号を入力するための駆動回路とを有し、 前記複数の画素はそれぞれ、ＥＬ素子を有し、 前記カバー材は、遮光性を有し、 前記シール材は、紫外線により硬化する材料を有し、 前記複数の画素と、前記駆動回路とを囲んで、前記基板上に前記シール材を配置し、前記カバー材と前記基板とを、前記シール材をはさんで密着させ、前記ＥＬ素子を密封した表示装置において、 前記シール材と、前記基板との間に第１の配線が形成され、 前記第１の配線は、並列に接続された複数の第２の配線を有することを特徴とする表示装置が提供される。
【００２６】
前記基板上の前記シール材に接する部分は、無機物質により形成されていることを特徴とする表示装置であってもよい。
【００２７】
本発明によって、 第１の基板と、第２の基板と、シール材とを有し、 前記第１の基板上に、複数の画素と、前記複数の画素に信号を入力するための駆動回路とを有し、 前記第２の基板は、遮光性を有し、 前記シール材は、紫外線により硬化する材料を有し、 前記複数の画素と、前記駆動回路とを囲んで、前記第１の基板上にシール材を配置し、前記第２の基板と前記第１の基板とを、前記シール材をはさんで密着させ、前記第１の基板と、前記第２の基板と、前記シール材とによって囲まれた領域に、液晶を封入した表示装置において、 前記シール材と前記第１の基板との間に第１の配線が形成され、 前記第１の配線は、並列に接続された複数の第２の配線を有することを特徴とする表示装置が提供される。
【００２８】
前記第1の基板上の前記シール材に接する部分は、無機物質により形成されていることを特徴とする表示装置であってもよい。
【００２９】
前記並列に接続された複数の第２の配線の幅Ｌと、前記並列に接続された複数の第２の配線の間隔Ｓの比Ｌ／Ｓが、０．７〜１．５の値をとることを特徴とする表示装置であってもよい。
【００３０】
前記並列に接続された複数の第２の配線の幅Ｌは、１００μｍ〜２００μｍの値をとり、 前記並列に接続された複数の第２の配線の間隔Ｓは、５０μｍ〜１５０μｍの値をとることを特徴とする表示装置であってもよい。
【００３１】
前記配線は、前記複数の画素及び前記駆動回路が有するＴＦＴの、ソース配線及びドレイン配線を構成する物質と同じ物質で形成されていることを特徴とする表示装置であってもよい。
【００３２】
本発明によって、 基板上に、複数の画素と、複数の外部入力端子とを有し、 前記複数の画素は、ＥＬ素子を有する表示装置において、 前記ＥＬ素子に電流を供給する陽極線は、前記複数の外部入力端子に接続されていることを特徴とする表示装置が提供される。
【００３３】
本発明によって、 基板上に、複数の画素と、複数の外部入力端子とを有し、 前記複数の画素は、ＥＬ素子を有する表示装置において、 前記ＥＬ素子から電流を引き出す陰極線は、前記複数の外部入力端子に接続されていることを特徴とする表示装置が提供される。
【００３４】
前記複数の外部入力端子のうち、少なくとも１つの外部入力端子は、前記基板の一端の近傍にあり、その他の外部入力端子は、前記基板の一端とは異なる、前記基板の一端の近傍にあることを特徴とする表示装置であってもよい。
【００３５】
前記複数の外部入力端子のうち、少なくとも１つは、第１のＦＰＣ基板に接続され、その他は、第２のＦＰＣ基板に接続されていることを特徴とした表示装置であってもよい。
【００３６】
前記複数の外部入力端子の間の距離が、前記基板の長辺の長さの１／２以上離れていることを特徴とする表示装置であってもよい。
【００３７】
本発明によって、 基板と、前記基板上に形成された第１の配線及び複数の画素と、遮光性を有するカバー材と、シール材とを有する表示装置であって、 前記基板上に形成された複数の画素は、前記シール材及び前記カバー材によって密封されており、 前記第１の配線は前記シール材に覆われており、 前記シール材は紫外線により硬化する材料を有しており、 前記第１の配線は、並列に接続された複数の第２の配線を有することを特徴とする表示装置が提供される。
【００３８】
本発明によって、 基板と、前記基板上に形成された第１の配線及び複数の画素と、遮光性を有するカバー材と、シール材とを有する表示装置であって、 前記基板上に形成された複数の画素は、前記シール材及び前記カバー材によって密封されており、 前記複数の画素はＥＬ素子をそれぞれ有しており、 前記第１の配線は前記シール材に覆われており、 前記シール材は紫外線により硬化する材料を有しており、 前記第１の配線は、並列に接続された複数の第２の配線を有することを特徴とする表示装置が提供される。
【００３９】
本発明によって、 基板と、前記基板上に形成された第１の配線及び複数の画素と、遮光性を有するカバー材と、シール材と、液晶とを有する表示装置であって、 前記基板上に形成された複数の画素と、前記液晶とは、前記シール材及び前記カバー材によって密封されており、 前記第１の配線は前記シール材に覆われており、 前記シール材は紫外線により硬化する材料を有しており、 前記第１の配線は、並列に接続された複数の第２の配線を有することを特徴とする表示装置が提供される。
【００４０】
前記表示装置を用いることを特徴とするビデオカメラ、画像再生装置、ヘッドマウントディスプレイ、携帯電話、携帯情報端末であってもよい。
【発明の効果】
【００４１】
ＥＬ表示装置や液晶表示装置などの表示装置において、駆動回路周辺の配線が占める部分や、シール材が形成された部分等、画像を表示しない部分の占める面積が大きく、表示装置の小型化において問題となっていた。
【００４２】
しかし、本発明は、上記構成によって、駆動回路周辺の配線をシール材の部分にも形成することができる。これにより、小型の表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明のＥＬ表示装置の上面図及び断面図。
【図２】本発明のＥＬ表示装置の上面図及び断面図。
【図３】本発明の表示装置の配線の形状を示す図。
【図４】従来のＥＬ表示装置の上面図及び断面図。
【図５】本発明の表示装置の電源線の配線を示す図。
【図６】本発明の液晶表示装置の上面図及び断面図。
【図７】本発明の液晶表示装置の上面図及び断面図。
【図８】本発明の表示装置を用いた電子機器の図。
【図９】ＥＬ表示装置の画素部の構成を示す図。
【図１０】液晶表示装置の画素部の構成を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００４４】
本発明の実施の形態について、図１を用いて説明する。
【００４５】
画素基板上のシール材で覆われた部分に、配線を形成したＥＬ表示装置について説明する。なお、本明細書では、画素基板上のシール材で覆われた部分を、封止領域と呼ぶことにする。
【００４６】
図１（Ａ）に、本発明のＥＬ表示装置の上面図を示す。画素基板７０１上に画素部７１１及びゲート信号線駆動回路７０２、ソース信号線駆動回路７０３が形成されている。この周りを囲んでシール材７０４が形成され、カバー材７０５が貼り付けられている。ＦＰＣ基板７０６は、外部入力端子７０７によって画素基板７０１上に接続されている。配線７０８は、外部入力端子７０７において、ＦＰＣ基板７０６からの信号を受け取り、ゲート信号線駆動回路７０２に伝達する、信号線や電源線等の複数の配線を示す。配線７０９は、外部入力端子７０７において、ＦＰＣ基板７０６からの信号を受け取り、ソース信号線駆動回路７０３に伝達する、信号線や電源線等の複数の配線を示す。配線７１０（配線７１０ａ及び配線７１０ｂ）は、外部入力端子７０７において、ＦＰＣ基板７０６からの信号を受け取り、画素部７１１に伝達する、電源線等の複数の配線を示す。ここで、配線７０８〜７１０は、封止領域に形成されている。
【００４７】
図１（Ｂ）は、図１（Ａ）のＡ〜Ａ'の部分を示した断面図である。
【００４８】
なおここでは説明を簡単にするため、ゲート信号線駆動回路７０２を構成する素子としてＴＦＴ７１２、画素部７１１を構成する素子としてＥＬ駆動用ＴＦＴ７１３のみを示す。ＥＬ駆動用ＴＦＴ７１３のソース領域もしくはドレイン領域のどちらか一方が、ＥＬ素子７２１の画素電極７１４と接続され、ＥＬ素子７２１に入力される電流を制御する。ここで、７１６は層間絶縁膜、７１５はＥＬ層、７１７は絶縁膜、７１８は対向電極、７１９は充填材、７２０はゲート絶縁膜である。なお、ここでは、層間絶縁膜７１６は無機物質によって形成されているものとする。
【００４９】
ＴＦＴ７１２及びＥＬ駆動用ＴＦＴ７１３のソース配線及びドレイン配線を構成する物質と同様の物質を用い、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂが形成されている。
【００５０】
なお、配線７０８〜７１０のうち配線７０９については、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂと同様に形成されるので、説明を省略する。
【００５１】
ここで、シール材７０４として紫外線により硬化する材料を用いる場合が多い。また、カバー材７０５として遮光性を有する材料を用いる場合が多い。そのため、カバー材７０５側から紫外線照射してもシール材７０４を露光することができず、シール材７０４を硬化させることができない。そこで、画素基板７０１側から、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂを介して紫外線照射し、シール材７０４を露光させる必要がある。
【００５２】
ここで、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂのうち、ビデオ信号線やパルス線などは、比較的幅の狭い配線を用いる。一方、画素部の電源供給線へ電流を供給する電源線や、ソース信号線駆動回路やゲート信号線駆動回路の電源線等に入力される電圧は、ビデオ信号線やパルス線に入力される電圧と比べて大きい。そのため、これらの電源線は、ビデオ信号線やパルス線と比較して幅の広い配線を使用する必要がある。
【００５３】
しかし、幅の広い配線を用いると、配線を介して紫外線を照射した場合に配線の陰になったシール材部分に、十分に紫外線が照射されない。すると、シール材が十分に硬化しない可能性がある。
【００５４】
そこで、本発明では、次のような配線の形状を考えた。その模式図を図３（Ａ）に示す。なお、図３（Ａ）は、図１の封止領域の一部６６６の拡大図に相当する。
【００５５】
図３（Ａ）では、配線（第１の配線）７１０ｂのうち、ある１本の電源線７７７に注目している。電源線７７７は、配線（第２の配線）Ａ１〜Ａ６を並列に接続することにより形成されている。ここで、この様な形状の配線７７７を介してシール材７０４に紫外線を照射する場合の説明をする。
【００５６】
なお、ここでは、１本の電源線７７７を６本の配線Ａ１〜Ａ６を並列に接続することによって構成しているが、本発明はこの構成に限定されない。一般に、１本の配線が、ｎ（ｎは、２以上の自然数）本の配線（第２の配線）Ａ１〜Ａｎを並列に接続することによって構成されていてもよい。
【００５７】
図３（Ｂ）は、図３（Ａ）のＡ〜Ａ'の断面図である。図３（Ｂ）において、図３（Ａ）と同じ符号は同じ部分を示す。
【００５８】
図３（Ｂ）において、画素基板側から紫外線を照射すると配線Ａ１〜Ａ６の上のシール材の部分６６０は陰になるが、配線の幅Ｌが十分に小さく、かつ配線の間隔Ｓが十分に大きいとき、照射された紫外線は陰６６０の部分にも回り込む。
なお、配線のすぐ上部６００の部分は紫外線によって露光されないが、配線幅が大きい場合と比べて、この６００の部分は十分に小さく、全体としてシール材を十分に露光することができる。
【００５９】
具体的には、配線Ａ１〜Ａ６の幅Ｌが１００μｍ〜２００μｍの値を取り、配線Ａ１〜Ａ６のそれぞれの配線間の間隔Ｓが５０μｍ〜１５０μｍの値をとり、Ｌ／Ｓが０．７〜１．５になるような形状の配線の場合、その配線を介して照射された紫外線は、配線上部のシール材を十分に露光し、シール材を十分に硬化することができる。
【００６０】
更に好ましくは、配線Ａ１〜Ａ６の幅Ｌが１５０μｍ以下の値を取り、配線Ａ１〜Ａ６のそれぞれの配線間の間隔Ｓが、１００μｍ以上の値をとり、Ｌ／Ｓが、１．５以下の値となるような形状の配線の場合、その配線上部のシール材を十分に硬化することができる。
【００６１】
なお、図３では、配線７１０ｂのうち、ある１本の電源線７７７に注目したが、封止領域に形成された、その他の配線幅が問題となる配線においても、同様の形状とすることができる。
【００６２】
この様に、封止領域に配線を形成することができる。これにより、画素部以外の領域の面積を少なくすることができ、表示装置を小型化することができる。
【００６３】
以下に、本発明の実施例について説明する。
【実施例１】
【００６４】
本実施例では、発明の実施の形態とは異なった構成のアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置について図２を用いて説明する。なお、図１と同じ部分は、同じ符号を用いて表す。
【００６５】
図２（Ａ）に、本発明のＥＬ表示装置の上面図を示す。画素基板７０１上に画素部７１１及びゲート信号線駆動回路７０２、ソース信号線駆動回路７０３が形成されている。この周りを囲んでシール材７０４が形成され、カバー材７０５が貼り付けられている。ＦＰＣ基板７０６は、外部入力端子７０７によって画素基板７０１上に接続されている。配線７０８は、外部入力端子７０７において、ＦＰＣ基板７０６からの信号を受け取り、ゲート信号線駆動回路７０２に伝達する、信号線や電源線等の複数の配線を示す。配線７０９は、外部入力端子７０７において、ＦＰＣ基板７０６からの信号を受け取り、ソース信号線駆動回路７０３に伝達する、信号線や電源線等の複数の配線を示す。配線７１０ａ及び配線７１０ｂは、外部入力端子７０７において、ＦＰＣ基板７０６からの信号を受け取り、画素部７１１に伝達する、電源線等の複数の配線を示す。ここで、配線７０８〜７１０は、封止領域に形成されている。
【００６６】
図２（Ｂ）は、図２（Ａ）のＡ〜Ａ'の部分を示した断面図である。
【００６７】
なおここでは、説明を簡単にするため、ゲート信号線駆動回路７０２を構成する素子としてＴＦＴ７１２、画素部７１１を構成する素子としてＥＬ駆動用ＴＦＴ７１３のみを示す。ＥＬ駆動用ＴＦＴ７１３のソース領域もしくはドレイン領域のどちらか一方が、ＥＬ素子７２１の画素電極７１４と接続され、ＥＬ素子７２１に入力される電流を制御する。ここで、層間絶縁膜７１６、ＥＬ層７１５、絶縁膜７１７、対向電極７１８、充填材７１９、ゲート絶縁膜７２０である。なお、ここでは、層間絶縁膜７１６は有機物質によって形成されているものとする。
【００６８】
ＴＦＴ７１２及びＥＬ駆動用ＴＦＴ７１３のソース配線及びドレイン配線を構成する物質と同様の物質を用い、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂが形成されている。
【００６９】
なお、配線７０８〜７１０のうち配線７０９については、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂと同様に形成されるので、説明を省略する。
【００７０】
層間絶縁膜７１６として、有機物質が使用されているため、この有機物質上に直接、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂを形成すると密着性が悪い。
また、有機物質から配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂを構成する材料に不純物が導入されて配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂが劣化するなどの問題がある。そこで、有機物質で形成された層間絶縁膜７１６を除いて配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂを形成する必要がある。
【００７１】
なお、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂを形成する部分の層間絶縁膜７１６を取り除く工程は、ＴＦＴ７１２や画素ＴＦＴ７１３のソース配線及びドレイン配線を形成する際、それらのＴＦＴのソース領域に達するコンタクトホールを形成する時に同時に行うことができる。
【００７２】
また、シール材７０４として、紫外線により硬化する材料を用いる場合が多い。また、カバー材７０５として遮光性を有する材料を用いる場合が多い。そのため、カバー材側から紫外線照射してもシール材を硬化させることができない。そこで、画素基板７０１側から、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂを介して紫外線照射し、シール材７０４を硬化させる必要がある。しかし配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂとして、幅の広い配線を用いると、配線の陰になったシール材７０４の部分は、十分に紫外線が照射されずシール材７０４が十分に硬化しない可能性がある。
【００７３】
そこで、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂとして、１本の幅の広い配線を用いる代わりに、図３に示した様に、複数の配線を並列に接続したものを用いる。
【００７４】
具体的には、複数の配線の幅Ｌが１００μｍ〜２００μｍの値をとり、複数の配線の間隔Ｓが５０μｍ〜１５０μｍの値をとり、複数の配線の幅Ｌと複数の配線の間隔Ｓとの比Ｌ／Ｓが、０．７〜１．５になるような形状の配線を用いる。
このような形状の配線の場合、その配線を介して照射された紫外線は、配線上部のシール材を十分に露光し、シール材を十分に硬化することができる。
【００７５】
更に好ましくは、複数の配線の幅Ｌが１５０μｍ以下の値を取り、複数の配線の間隔Ｓが、１００μｍ以上の値をとり、Ｌ／Ｓが、１．５以下の値となるような形状の配線の場合、その配線上部のシール材を十分に硬化することができる。
【００７６】
この様に、封止領域に配線を形成することができる。これにより、画素部以外の領域の面積を少なくすることができ、表示装置を小型化することができる。
【実施例２】
【００７７】
本実施例では、アクティブマトリクス型ＥＬ表示装置の画素部の電源供給線に電流を供給する電源線の配線例について説明する。
【００７８】
ここで、再び図１（Ａ）を参照する。ＥＬ素子７２１を駆動する電流は、配線７１０ａ及び配線７１０ｂの電源線を通って、画素部７１１の電源供給線に入力される。画素部７１１の電源供給線は、７１０ａ及び７１０ｂの電源線により、２箇所から電流が供給されている。
【００７９】
一方、図４に示した従来のＥＬ表示装置では、画素部４０２の電源供給線は、４１２ａの電源線より、１箇所から電流が供給されている。本発明のアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置において、画素部の２箇所から画素部に電流を供給している理由を説明する。
【００８０】
１つのＦＰＣ基板が接続された外部入力端子が一箇所にあり、画素部の一方から、電流が供給される場合と、外部入力端子が二箇所に分割してあり、それぞれにＦＰＣ基板（第１のＦＰＣ基板及び第２のＦＰＣ基板）が接続され、画素部の２方向から電源供給線に電流が供給される場合の、電源線の配線例を図５に模式的に示す。電源線として、ＥＬ素子の陽極に接続する陽極線と、陰極に接続する陰極線を示す。図５（Ａ）は、外部入力端子７０７が一箇所にある。一方、図５（Ｂ）では外部入力端子７０７を二箇所（基板の一端及び前記基板の一端とは異なる基板の一端近傍）に分割し、それぞれから、陽極線及び陽極線を画素部に配線している。
【００８１】
図５（Ａ）では、陽極線及び陰極線の入力口から離れた側の電源供給線では、Ｒ１の長さの分だけ配線抵抗が増加し、それによる電位降下のため、電源供給線よりＥＬ素子に印加される電圧が低下し、画質の低下を招く。
【００８２】
一方、図５（Ｂ）では、一方の陽極線及び陰極線の入力口１から離れた側に、もう一方の入力口２を設け、入力口１及び入力口２の両方から電源供給線に電流を供給する。これにより、配線抵抗による電圧の低下に由来する、画質の低下を軽減することができる。
【００８３】
なお、図５（Ｂ）の様に外部入力端子を２箇所に設ける際、この２つの外部入力端子間の距離を、画素部の形成された基板の長辺の長さの１／２以上離すことで、配線抵抗による電圧の低下に由来する画質の低下を軽減する効果が高まる。
【００８４】
なお、配線抵抗がそれ程問題とならない場合は、外部入力端子を１箇所に形成してもよい。
【００８５】
なお、本実施例は、発明の実施の形態や実施例１と組み合わせて実行することが可能である。
【実施例３】
【００８６】
本実施例では、封止領域部分に配線を形成する手法を用いた液晶表示装置について説明する。
【００８７】
液晶表示装置の駆動方法としては、アクティブマトリクス型が挙げられる。
【００８８】
まず、図１０にアクティブマトリクス型液晶表示装置の画素部の構成を示す。
アクティブマトリクス型液晶表示装置では、各画素がそれぞれＴＦＴを有している。ゲート信号線駆動回路からの選択信号が入力されるゲート信号線（Ｇ１〜Ｇｙ）は、各画素が有する画素ＴＦＴ１００２のゲート電極に接続されている。また、各画素の有する画素ＴＦＴ１００２のソース領域とドレイン領域は、一方がソース信号線駆動回路から信号が入力されるソース信号線（Ｓ１〜Ｓｘ）に、他方が、保持容量１００１の一方の電極と、液晶１００３を挟む２つの電極の一方と接続されている。
【００８９】
ゲート信号線Ｇ１に信号が入力されるとゲート信号線Ｇ１に接続されたすべての画素ＴＦＴ１００２のゲート電極に信号が入力され、画素ＴＦＴ１００２は、オンになる。画素ＴＦＴ１００２がオンになった画素に、ソース信号線（Ｓ１〜Ｓｘ）から信号が入力されると、保持容量１００１に電荷が保持され、この保持された電荷により液晶１００３を挟んだ電極間に電圧が印加される。この印加電圧により、液晶分子の配向を制御し、透過光量を制御する。すべてのゲート信号線（Ｇ１〜Ｇｙ）に関してこの動作を繰り返し、画像の表示を行う。
【００９０】
次に、アクティブマトリクス型液晶表示装置の液晶の封止について説明する。
【００９１】
液晶表示装置では、液晶を挟んだ２つの電極間に電圧を印加することによって、液晶の配向を制御し、表示を行う。ここで、電極間に液晶を挟んだ状態を保持する為、それぞれに電極が形成された２つの絶縁基板を、それぞれの電極が向かい合う向きにシール材で接着し、その間に液晶を封入する必要がある。
【００９２】
図６に、液晶表示装置の２つの基板を貼り合わせて、その間に液晶を封入したところの模式図を示す。
【００９３】
図６（Ａ）は、液晶表示装置の上面図である。シール材３０１としては、エポキシ系樹脂等が用いられる。配向膜（図示せず）を形成し、ラビング処理を施された基板３１において、画素部３０２及びゲート信号線駆動回路３０３、ソース信号線駆動回路３０４を囲むようにシール材３０１を形成する。この際、後に液晶を注入する為の注入口として開口部（図示せず）をシール材３０１の一部に形成しておく。次にスペーサー（図示せず）を散布し、もう一方の基板３２と貼り合わせる。
【００９４】
スペーサ−の径によって、基板３１と基板３２との距離が定まったら、基板３１もしくは基板３２を介して、シール材３０１部分に紫外線を照射したり、熱を加えるなどして、シール材３０１を硬化させ、基板３１と基板３２とを密着させる。
【００９５】
なお、熱を加えることによって、シール材３０１を硬化させ、基板３１と基板３２とを貼り合わせる手法では、加圧しながら熱処理する必要があり、基板３１と基板３２の熱膨張により、張り合わせの位置がずれる問題が深刻である。また、熱硬化には時間がかかるという問題もある。その為、熱硬化ではなく、紫外線照射により、シール材を硬化させる工程が多く使用される。
【００９６】
その後、液晶注入口より液晶３３を注入し、封止材（図示せず）により液晶注入口をふさいで液晶３３が外部に流れ出てこないようにする。なお、この封止材としては、熱硬化の材料ではなく、紫外線により硬化する材料を用いる。これは、液晶３３を注入した後に熱を加えた場合、液晶３３が劣化するのを防ぐためである。
【００９７】
シール材３０１や封止材には、イオンを含む湿気などの液晶を汚染する物質を、通過させないようにする働きもある。
【００９８】
次に、ソース信号線駆動回路及びゲート信号線駆動回路のそれぞれに入力される信号を伝達する配線について説明する。
【００９９】
外部からのビデオ信号などが、ゲート信号線駆動回路３０３及びソース信号線駆動回路３０４に入力され、画素部３０２に入力される信号が構成される。ここで、外部からゲート信号線駆動回路３０３及びソース信号線駆動回路３０４に入力される信号は、画素基板３１上の外部入力端子３０９に貼り付けられた、ＦＰＣ基板３１０より入力される。ＦＰＣ基板３１０は、外部入力端子３０９において、異方性導電性膜（図示せず）によって画素基板上に形成された配線３１２と接続される。この配線３１２（３１２ａ、３１２ｂ）は、シール材３０１の間を通ってゲート信号線駆動回路３０３及びソース信号線駆動回路３０４に接続されている。
【０１００】
配線３１２ａは、外部入力端子３０９において、ＦＰＣ基板３１０からの信号を受け取り、ゲート信号線駆動回路３０３に伝達する配線である。配線３１２ｂは、外部入力端子３０９において、ＦＰＣ基板３１０からの信号を受け取り、ソース信号線駆動回路３０４に伝達する配線である。ここで、配線３１２ａ及び配線３１２ｂは、画素基板３１上のシール材３０１に覆われた部分（封止領域）に形成されている。
【０１０１】
図６（Ｂ）に図６（Ａ）のＢ〜Ｂ'の断面図を示す。なお、図６（Ａ）と同じ部分は、同じ符号で表す。
【０１０２】
ここでは、説明を簡単にするため、ゲート信号線駆動回路３０３を構成するＴＦＴ１１４及び画素部３０２を構成する画素ＴＦＴ３１４のみを示す。画素部及び駆動回路を構成するＴＦＴが形成された基板３１を画素基板と呼ぶことにする。また、画素基板上に取り付けられた電極３０７を画素電極と呼ぶ。もう一方の基板３２は、対向基板と呼ぶことにする。また、対向基板側に取り付けられた電極３０８を対向電極と呼ぶ。この画素電極３０７や対向電極３０８に印加される電圧を制御して画像の表示を行う。
【０１０３】
ここで、３０６はＴＦＴ１１４及びＴＦＴ画素３１４のゲート絶縁膜である。
また、３１５は層間絶縁膜、１１２は遮光層である。なお、ここでは配向膜は図示していない。
【０１０４】
画素ＴＦＴ３１４のソース領域もしくはドレイン領域のどちらか一方が、画素電極３０７と接続し、画素電極３０７に印加される電圧を制御している。なお、ここでは、層間絶縁膜３１５は無機物質によって形成されているものとする。
【０１０５】
ここで、ＴＦＴ１１４や画素ＴＦＴ３１４のソース配線及びドレイン配線を構成する物質と同様の物質を用い、配線３１２が形成されている。
【０１０６】
また、シール材３０１として紫外線により硬化する材料を用いたとする。対向基板３２側から紫外線照射しても、遮光層１１２があるためシール材３０１を硬化させることができない。そこで、画素基板３１側から、配線３１２ａを介して紫外線照射し、シール材３０１を硬化させる必要がある。しかし、配線３１２ａとして幅の広い配線を用いると、配線の陰になったシール材７０４の部分は、十分に紫外線が照射されずシール材７０４が十分に硬化しない可能性がある。
【０１０７】
そこで、配線３１２ａとして、１本の幅の広い配線を用いる代わりに、図３に示した様に、複数の配線を並列に接続したものを用いる。
【０１０８】
具体的には、複数の配線の幅Ｌが１００μｍ〜２００μｍの値をとり、複数の配線の間隔Ｓが５０μｍ〜１５０μｍの値をとり、複数の配線の幅Ｌと複数の配線の間隔Ｓとの比Ｌ／Ｓが、０．７〜１．５になるような形状の配線を用いる。
このような形状の配線の場合、その配線を介して照射された紫外線は、配線上部のシール材を十分に露光し、シール材を十分に硬化することができる。
【０１０９】
更に好ましくは、複数の配線の幅Ｌが１５０μｍ以下の値を取り、複数の配線の間隔Ｓが、１００μｍ以上の値をとり、Ｌ／Ｓが、１．５以下の値となるような形状の配線の場合、その配線上部のシール材を十分に硬化することができる。
【０１１０】
なお、遮光層１１２が画素基板３１側に取り付けられている場合には，シール材３０１を硬化させるために対向基板３２側から紫外線を照射する必要がある。
この時は、配線３１２ａは、照射される紫外線を遮ることは無いので、幅の広い形状のものを用いても問題ない。
【０１１１】
この様に、封止領域に配線を形成することができる。これにより、画素部以外の領域の面積を少なくすることができ、表示装置を小型化することができる。
【実施例４】
【０１１２】
本実施例では、実施例３に述べた構造とは異なる構造の表示装置について、図７を用いて説明する。なお、図７において、図６と同じ部分は同じ符号を用いて表す。
【０１１３】
図７（Ａ）は、本発明の液晶表示装置の上面図である。画素基板３１上に画素部３０２及びゲート信号線駆動回路３０３、ソース信号線駆動回路３０４が形成されている。この周りを囲んでシール材３０１が形成され、対向基板３２が貼り付けられ、間に液晶３３が封入されている。ＦＰＣ基板３１０は、外部入力端子３０９によって画素基板３１上に接続されている。配線３１２ａは、外部入力端子３０９において、ＦＰＣ基板３１０からの信号を受け取り、ゲート信号線駆動回路３０３に伝達する配線である。配線３１２ｂは、外部入力端子３０９において、ＦＰＣ基板３１０からの信号を受け取り、ソース信号線駆動回路３０４に伝達する配線である。ここで、配線３１２ａ及び配線３１２ｂは、封止領域に形成されている。
【０１１４】
図７（Ｂ）は、図７（Ａ）のＢ〜Ｂ'の部分を示した断面図である。ここで、図７（Ａ）と同じ符号は同じ部分を表す。
【０１１５】
ここでは説明を簡単にするため、ゲート信号線駆動回路３０３を構成する素子としてＴＦＴ１１４のみを示す。また、画素部３０２を構成する素子として画素ＴＦＴ３１４のみを示す。画素ＴＦＴ３１４のソース領域もしくはドレイン領域のどちらか一方が、画素電極３０７と接続し、画素電極３０７に印加される電圧を制御している。
【０１１６】
ＴＦＴ１１４や画素ＴＦＴ３１４のソース配線及びドレイン配線を構成する物質と同様の物質を用い、配線３１２が形成されている。なお、ここでは、層間絶縁膜３１５は有機物質によって形成されているものとする。
【０１１７】
層間絶縁膜３１５として、有機物質が使用されているため、この有機物質上に直接、配線３１２を形成すると密着性が悪い。また、有機物質から配線３１２を構成する材料に不純物が導入されて配線３１２が劣化するなどの問題がある。そこで、有機物質で形成された層間絶縁膜３１５を除いて配線３１２を形成する必要がある。
【０１１８】
なお、配線３１２ａを形成する部分の層間絶縁膜３１５を取り除く工程は、ＴＦＴ１１４や画素ＴＦＴ３１４のソース配線及びドレイン配線を形成する際、それらのソース領域及びドレイン領域に達するコンタクトホールを形成する時に同時に行うことができる。
【０１１９】
また、シール材３０１として紫外線により硬化する材料を用いたとする。対向基板３２側から紫外線照射しても、遮光層１１２があるためシール材３０１を硬化させることができない。そこで、画素基板３１側から、配線３１２ａを介して紫外線照射し、シール材３０１を硬化させる必要がある。しかし、配線３１２ａとして幅の広い配線を用いると、配線の陰になったシール材７０４の部分は、十分に紫外線が照射されずシール材７０４が十分に硬化しない可能性がある。
【０１２０】
そこで配線３１２ａとして、１本の幅の広い配線を用いる代わりに、図３に示した様に、複数の配線を並列に接続したものを用いる。
【０１２１】
具体的には、複数の配線の幅Ｌが１００μｍ〜２００μｍの値をとり、複数の配線の間隔Ｓが５０μｍ〜１５０μｍの値をとり、複数の配線の幅Ｌと複数の配線の間隔Ｓとの比Ｌ／Ｓが、０．７〜１．５になるような形状の配線を用いる。
このような形状の配線の場合、その配線を介して照射された紫外線は、配線上部のシール材を十分に露光し、シール材を十分に硬化することができる。
【０１２２】
更に好ましくは、複数の配線の幅Ｌが１５０μｍ以下の値を取り、複数の配線の間隔Ｓが、１００μｍ以上の値をとり、Ｌ／Ｓが、１．５以下の値となるような形状の配線の場合、その配線上部のシール材を十分に硬化することができる。
【０１２３】
なお、遮光層１１２が画素基板３１側に取り付けられている場合には，シール材３０１を硬化させるために対向基板３２側から紫外線を照射する事となる。この時は、配線３１２ａは、照射される紫外線を遮ることは無いので、幅の広い形状のものを用いても問題ない。
【０１２４】
この様に、封止領域に配線を形成することができる。これにより、画素部以外の領域の面積を少なくすることができ、表示装置を小型化することができる。
【実施例５】
【０１２５】
本実施例では、本発明を用いて形成された表示装置を表示媒体として組み込んだ電子機器について説明する。
【０１２６】
その様な電子機器としては、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ヘッドマウントディスプレイ（ゴーグル型ディスプレイ）、ゲーム機、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、携帯情報端末（モバイルコンピュータ、携帯電話または電子書籍等）などが挙げられる。それらの一例を図８に示す。
【０１２７】
図８（Ａ）はパーソナルコンピュータであり、本体２００１、筐体２００２、表示部２００３、キーボード２００４等を含む。本発明の表示装置はパーソナルコンピュータの表示部２００３に用いることができる。
【０１２８】
図８（Ｂ）はビデオカメラであり、本体２１０１、表示部２１０２、音声入力部２１０３、操作スイッチ２１０４、バッテリー２１０５、受像部２１０６等を含む。本発明の表示装置はビデオカメラの表示部２１０２に用いることができる。
【０１２９】
図８（Ｃ）は頭部取り付け型の表示装置の一部（右片側）であり、本体２３０１、信号ケーブル２３０２、頭部固定バンド２３０３、表示モニタ２３０４、光学系２３０５、表示部２３０６等を含む。本発明の表示装置は頭部取り付け型の表示装置の表示部２３０６に用いることができる。
【０１３０】
図８（Ｄ）は記録媒体を備えた画像再生装置（具体的にはＤＶＤ再生装置）であり、本体２４０１、記録媒体（ＣＤ、ＬＤまたはＤＶＤ等）２４０２、操作スイッチ２４０３、表示部（ａ）２４０４、表示部（ｂ）２４０５等を含む。表示部（ａ）は主として画像情報を表示し、表示部（ｂ）は主として文字情報を表示するが、本発明の表示装置は記録媒体を備えた画像再生装置の表示部（ａ）２４０４、表示部（ｂ）２４０５に用いることができる。なお、記録媒体を備えた画像再生装置としては、ＣＤ再生装置、ゲーム機器などに本発明を用いることができる。
【０１３１】
図８（Ｅ）は携帯型（モバイル）コンピュータであり、本体２５０１、カメラ部２５０２、受像部２５０３、操作スイッチ２５０４、表示部２５０５等を含む。本発明の表示装置２５０５は携帯型（モバイル）コンピュータの表示部２５０５に用いることができる。
【０１３２】
以上の様に、本発明の適用範囲は極めて広く、あらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。また、本実施例の電子機器は実施例１〜４のどのような組み合わせからなる構成を用いても実現することができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、封止構造を有する表示装置に関する。特に、半導体素子（半導体薄膜を用いた素子）を用いたアクティブマトリクス型表示装置に関する。また、アクティブマトリクス型表示装置を、表示部に用いた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラット型ディスプレイとして、ＥＬ素子を有したＥＬ表示装置等の電気光学装置が注目されている。
【０００３】
ＥＬ素子は一対の電極（陽極と陰極）間にＥＬ層が挟まれた構造となっているが、ＥＬ層は通常、積層構造となっている。代表的には、コダック・イーストマン・カンパニーのTangらが提案した「正孔輸送層／発光層／電子輸送層」という積層構造が挙げられる。この構造は非常に発光効率が高く、現在、研究開発が進められているＥＬ表示装置は殆どこの構造を採用している。
【０００４】
また他にも、陽極上に正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層、または正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層の順に積層する構造でも良い。発光層に対して蛍光性色素等をドーピングしても良い。
【０００５】
本明細書において陰極と陽極の間に設けられる全ての層を総称してＥＬ層と呼ぶ。よって上述した正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層等は、全てＥＬ層に含まれる。
【０００６】
そして、上記構造でなるＥＬ層に一対の電極から所定の電圧をかけ、それにより発光層においてキャリアの再結合が起こって発光する。なお本明細書においてＥＬ素子が発光することを、ＥＬ素子が駆動すると呼ぶ。また、本明細書中では、陽極、ＥＬ層及び陰極で形成される発光素子をＥＬ素子と呼ぶ。
【０００７】
なお、本明細書中において、ＥＬ素子とは、一重項励起子からの発光（蛍光）
を利用するものと、三重項励起子からの発光（燐光）を利用するものの両方を示すものとする。
【０００８】
ＥＬ表示装置の構成として、アクティブマトリクス型が挙げられる。
【０００９】
図９に、アクティブマトリクス型ＥＬ表示装置の画素部の構成の例を示す。アクティブマトリクス型ＥＬ表示装置では、各画素が薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと表記する）を有している。ゲート信号線駆動回路から選択信号を入力するゲート信号線（Ｇ１〜Ｇｙ）は、各画素が有するスイッチング用ＴＦＴ９０１のゲート電極に接続されている。また、各画素が有するスイッチング用ＴＦＴ９０１のソース領域とドレイン領域は、一方がソース信号線駆動回路から信号を入力するソース信号線（Ｓ１〜Ｓｘ）に、他方がＥＬ駆動用ＴＦＴ９０２のゲート電極及び各画素が有するコンデンサ９０３の一方の電極に接続されている。コンデンサ９０３のもう一方の電極は、電源供給線（Ｖ１〜Ｖｘ）に接続されている。各画素の有するＥＬ駆動用ＴＦＴ９０２のソース領域とドレイン領域の一方は、電源供給線（Ｖ１〜Ｖｘ）に、他方は、各画素が有するＥＬ素子９０４に接続されている。
【００１０】
ゲート信号線駆動回路によりゲート信号線Ｇ１が選択され信号が入力されると、ゲート信号線Ｇ１に接続されたスイッチングＴＦＴ９０１がオンになる。ここで、ソース信号線駆動回路よりソース信号線Ｓ１〜Ｓｘに信号が入力されると、信号が入力された画素において、ＥＬ駆動用ＴＦＴ９０２がオンになり、電源供給線（Ｖ１〜Ｖｘ）よりＥＬ素子９０４に電流が流れて、ＥＬ素子９０４は発光する。この動作をすべてのゲート信号線Ｇ１〜Ｇｙについて繰り返し、画像の表示を行う。
【００１１】
ＥＬ素子９０４は、陽極と、陰極と、陽極と陰極の間に設けられたＥＬ層とを有する。ＥＬ素子９０４の陽極がＥＬ駆動用ＴＦＴ９０２のソース領域またはドレイン領域と接続している場合、ＥＬ素子９０４の陽極が画素電極、陰極が対向電極となる。逆に、ＥＬ素子９０４の陰極がＥＬ駆動用ＴＦＴ９０２のソース領域またはドレイン領域と接続している場合、ＥＬ素子９０４の陰極が画素電極、陽極が対向電極となる。
【００１２】
なお、本明細書において、対向電極の電位を対向電位という。なお、対向電極に対向電位を与える電源を対向電源と呼ぶ。画素電極の電位と対向電極の電位の電位差がＥＬ駆動電圧であり、このＥＬ駆動電圧がＥＬ層に印加される。
【００１３】
ここで、有機ＥＬ層は、水分や酸素により、劣化するという問題がある。その為、ＥＬ層を形成した後、大気中に出さずに窒素雰囲気中で、紫外線硬化樹脂により封止するのが一般的である。図４にＥＬ表示装置の封止の例を示す。
【００１４】
図４（Ａ）にＥＬ表示装置の上面図を示す。ＥＬ素子を有する画素部４０２、ゲート信号線駆動回路４０３及びソース信号線駆動回路４０４を有する絶縁基板４１上に、画素部４０２、ゲート信号線駆動回路４０３及びソース信号線駆動回路４０４を囲むようにシール材４０１を形成する。この際、後に充填材４３を注入するための注入口として開口部（図示せず）を設けておく。その後スペーサー（図示せず）を撒布してカバー材４２を貼り合わせる。シール材４０１を紫外線照射により硬化させた後、カバー材４２とシール材４０１で囲まれた領域に充填材４３を注入し、充填材４３を封止材（図示せず）により注入口を封止する。
【００１５】
図４（Ｂ）に図４（Ａ）のＡ〜Ａ'の断面図を示す。
【００１６】
なお、ここでは説明を簡単にするため、ゲート信号線駆動回路４０３を構成するＴＦＴ４１３及び画素部４０２を構成するＥＬ駆動用ＴＦＴ４１４とＥＬ素子４１７のみを示す。絶縁基板４１を画素基板と呼ぶことにする。ＥＬ素子４１７は、画素電極４０７とＥＬ層４１６及び対向電極４０８により構成される。シール材４０１により、カバー材４２が取り付けられ、画素基板４１とカバー材４２との間に充填材４３が封入されている。充填材４３には、吸湿性物質（図示せず）が添加されている。この様にして、水分によるＥＬ素子４１７の劣化を防いでいる。
【００１７】
ここで、４０６はＴＦＴ４１３及びＥＬ駆動用ＴＦＴ４１４のゲート絶縁膜、４１５は層間絶縁膜である。
【００１８】
なお、画素部４０２、ゲート信号線駆動回路４０３及びソース信号線駆動回路４０４に入力される信号は、ＦＰＣ（フレキシブルプリントサーキット）基板４１０より配線４１２（４１２ａ〜４１２ｃ）を通して入力される（図４（Ａ）参照）。ここで、配線４１２は、画素基板４１とシール材４０１の間をとおって、ＦＰＣ基板４１０と各駆動回路を接続している。なお、ＦＰＣ基板４１０は、外部入力端子４０９において、異方性導電性膜（図示せず）により、配線４１２と接続されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
ＥＬ表示装置において、ＥＬ素子の劣化を防ぐため、シール材を用いて、画素基板とカバー材を貼り合わせＥＬ素子を封止する必要がある。
【００２０】
ここで、シール材の部分や各駆動回路部分などは、画素部とは異なり、画像を表示しない部分である。従来の表示装置では、表示画面に対して、この画像を表示しない部分の占める割合が大きく、表示装置を小型化する上で問題となっていた。
【００２１】
そこで、表示装置において画素部以外の部分の面積を小さくすることを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
画素基板上のシール材で覆われた部分に、配線を形成する。なお、この配線を介してシール材に紫外線を照射したときに、配線上部のシール材が、紫外線に十分露光される様に、この配線の線幅を設定する。
【００２３】
これにより、表示装置内で、画素部及び駆動回路部周辺の配線とシール材とが占める面積を減らし、表示装置を小型化することができる。
【００２４】
以下に本発明の構成を示す。
【００２５】
本発明によって、 基板と、カバー材と、シール材とを有し、 前記基板上に、複数の画素と、前記複数の画素に信号を入力するための駆動回路とを有し、 前記複数の画素はそれぞれ、ＥＬ素子を有し、 前記カバー材は、遮光性を有し、 前記シール材は、紫外線により硬化する材料を有し、 前記複数の画素と、前記駆動回路とを囲んで、前記基板上に前記シール材を配置し、前記カバー材と前記基板とを、前記シール材をはさんで密着させ、前記ＥＬ素子を密封した表示装置において、 前記シール材と、前記基板との間に第１の配線が形成され、 前記第１の配線は、並列に接続された複数の第２の配線を有することを特徴とする表示装置が提供される。
【００２６】
前記基板上の前記シール材に接する部分は、無機物質により形成されていることを特徴とする表示装置であってもよい。
【００２７】
本発明によって、 第１の基板と、第２の基板と、シール材とを有し、 前記第１の基板上に、複数の画素と、前記複数の画素に信号を入力するための駆動回路とを有し、 前記第２の基板は、遮光性を有し、 前記シール材は、紫外線により硬化する材料を有し、 前記複数の画素と、前記駆動回路とを囲んで、前記第１の基板上にシール材を配置し、前記第２の基板と前記第１の基板とを、前記シール材をはさんで密着させ、前記第１の基板と、前記第２の基板と、前記シール材とによって囲まれた領域に、液晶を封入した表示装置において、 前記シール材と前記第１の基板との間に第１の配線が形成され、 前記第１の配線は、並列に接続された複数の第２の配線を有することを特徴とする表示装置が提供される。
【００２８】
前記第1の基板上の前記シール材に接する部分は、無機物質により形成されていることを特徴とする表示装置であってもよい。
【００２９】
前記並列に接続された複数の第２の配線の幅Ｌと、前記並列に接続された複数の第２の配線の間隔Ｓの比Ｌ／Ｓが、０．７〜１．５の値をとることを特徴とする表示装置であってもよい。
【００３０】
前記並列に接続された複数の第２の配線の幅Ｌは、１００μｍ〜２００μｍの値をとり、 前記並列に接続された複数の第２の配線の間隔Ｓは、５０μｍ〜１５０μｍの値をとることを特徴とする表示装置であってもよい。
【００３１】
前記配線は、前記複数の画素及び前記駆動回路が有するＴＦＴの、ソース配線及びドレイン配線を構成する物質と同じ物質で形成されていることを特徴とする表示装置であってもよい。
【００３２】
本発明によって、 基板上に、複数の画素と、複数の外部入力端子とを有し、 前記複数の画素は、ＥＬ素子を有する表示装置において、 前記ＥＬ素子に電流を供給する陽極線は、前記複数の外部入力端子に接続されていることを特徴とする表示装置が提供される。
【００３３】
本発明によって、 基板上に、複数の画素と、複数の外部入力端子とを有し、 前記複数の画素は、ＥＬ素子を有する表示装置において、 前記ＥＬ素子から電流を引き出す陰極線は、前記複数の外部入力端子に接続されていることを特徴とする表示装置が提供される。
【００３４】
前記複数の外部入力端子のうち、少なくとも１つの外部入力端子は、前記基板の一端の近傍にあり、その他の外部入力端子は、前記基板の一端とは異なる、前記基板の一端の近傍にあることを特徴とする表示装置であってもよい。
【００３５】
前記複数の外部入力端子のうち、少なくとも１つは、第１のＦＰＣ基板に接続され、その他は、第２のＦＰＣ基板に接続されていることを特徴とした表示装置であってもよい。
【００３６】
前記複数の外部入力端子の間の距離が、前記基板の長辺の長さの１／２以上離れていることを特徴とする表示装置であってもよい。
【００３７】
本発明によって、 基板と、前記基板上に形成された第１の配線及び複数の画素と、遮光性を有するカバー材と、シール材とを有する表示装置であって、 前記基板上に形成された複数の画素は、前記シール材及び前記カバー材によって密封されており、 前記第１の配線は前記シール材に覆われており、 前記シール材は紫外線により硬化する材料を有しており、 前記第１の配線は、並列に接続された複数の第２の配線を有することを特徴とする表示装置が提供される。
【００３８】
本発明によって、 基板と、前記基板上に形成された第１の配線及び複数の画素と、遮光性を有するカバー材と、シール材とを有する表示装置であって、 前記基板上に形成された複数の画素は、前記シール材及び前記カバー材によって密封されており、 前記複数の画素はＥＬ素子をそれぞれ有しており、 前記第１の配線は前記シール材に覆われており、 前記シール材は紫外線により硬化する材料を有しており、 前記第１の配線は、並列に接続された複数の第２の配線を有することを特徴とする表示装置が提供される。
【００３９】
本発明によって、 基板と、前記基板上に形成された第１の配線及び複数の画素と、遮光性を有するカバー材と、シール材と、液晶とを有する表示装置であって、 前記基板上に形成された複数の画素と、前記液晶とは、前記シール材及び前記カバー材によって密封されており、 前記第１の配線は前記シール材に覆われており、 前記シール材は紫外線により硬化する材料を有しており、 前記第１の配線は、並列に接続された複数の第２の配線を有することを特徴とする表示装置が提供される。
【００４０】
前記表示装置を用いることを特徴とするビデオカメラ、画像再生装置、ヘッドマウントディスプレイ、携帯電話、携帯情報端末であってもよい。
【発明の効果】
【００４１】
ＥＬ表示装置や液晶表示装置などの表示装置において、駆動回路周辺の配線が占める部分や、シール材が形成された部分等、画像を表示しない部分の占める面積が大きく、表示装置の小型化において問題となっていた。
【００４２】
しかし、本発明は、上記構成によって、駆動回路周辺の配線をシール材の部分にも形成することができる。これにより、小型の表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明のＥＬ表示装置の上面図及び断面図。
【図２】本発明のＥＬ表示装置の上面図及び断面図。
【図３】本発明の表示装置の配線の形状を示す図。
【図４】従来のＥＬ表示装置の上面図及び断面図。
【図５】本発明の表示装置の電源線の配線を示す図。
【図６】本発明の液晶表示装置の上面図及び断面図。
【図７】本発明の液晶表示装置の上面図及び断面図。
【図８】本発明の表示装置を用いた電子機器の図。
【図９】ＥＬ表示装置の画素部の構成を示す図。
【図１０】液晶表示装置の画素部の構成を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００４４】
本発明の実施の形態について、図１を用いて説明する。
【００４５】
画素基板上のシール材で覆われた部分に、配線を形成したＥＬ表示装置について説明する。なお、本明細書では、画素基板上のシール材で覆われた部分を、封止領域と呼ぶことにする。
【００４６】
図１（Ａ）に、本発明のＥＬ表示装置の上面図を示す。画素基板７０１上に画素部７１１及びゲート信号線駆動回路７０２、ソース信号線駆動回路７０３が形成されている。この周りを囲んでシール材７０４が形成され、カバー材７０５が貼り付けられている。ＦＰＣ基板７０６は、外部入力端子７０７によって画素基板７０１上に接続されている。配線７０８は、外部入力端子７０７において、ＦＰＣ基板７０６からの信号を受け取り、ゲート信号線駆動回路７０２に伝達する、信号線や電源線等の複数の配線を示す。配線７０９は、外部入力端子７０７において、ＦＰＣ基板７０６からの信号を受け取り、ソース信号線駆動回路７０３に伝達する、信号線や電源線等の複数の配線を示す。配線７１０（配線７１０ａ及び配線７１０ｂ）は、外部入力端子７０７において、ＦＰＣ基板７０６からの信号を受け取り、画素部７１１に伝達する、電源線等の複数の配線を示す。ここで、配線７０８〜７１０は、封止領域に形成されている。
【００４７】
図１（Ｂ）は、図１（Ａ）のＡ〜Ａ'の部分を示した断面図である。
【００４８】
なおここでは説明を簡単にするため、ゲート信号線駆動回路７０２を構成する素子としてＴＦＴ７１２、画素部７１１を構成する素子としてＥＬ駆動用ＴＦＴ７１３のみを示す。ＥＬ駆動用ＴＦＴ７１３のソース領域もしくはドレイン領域のどちらか一方が、ＥＬ素子７２１の画素電極７１４と接続され、ＥＬ素子７２１に入力される電流を制御する。ここで、７１６は層間絶縁膜、７１５はＥＬ層、７１７は絶縁膜、７１８は対向電極、７１９は充填材、７２０はゲート絶縁膜である。なお、ここでは、層間絶縁膜７１６は無機物質によって形成されているものとする。
【００４９】
ＴＦＴ７１２及びＥＬ駆動用ＴＦＴ７１３のソース配線及びドレイン配線を構成する物質と同様の物質を用い、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂが形成されている。
【００５０】
なお、配線７０８〜７１０のうち配線７０９については、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂと同様に形成されるので、説明を省略する。
【００５１】
ここで、シール材７０４として紫外線により硬化する材料を用いる場合が多い。また、カバー材７０５として遮光性を有する材料を用いる場合が多い。そのため、カバー材７０５側から紫外線照射してもシール材７０４を露光することができず、シール材７０４を硬化させることができない。そこで、画素基板７０１側から、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂを介して紫外線照射し、シール材７０４を露光させる必要がある。
【００５２】
ここで、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂのうち、ビデオ信号線やパルス線などは、比較的幅の狭い配線を用いる。一方、画素部の電源供給線へ電流を供給する電源線や、ソース信号線駆動回路やゲート信号線駆動回路の電源線等に入力される電圧は、ビデオ信号線やパルス線に入力される電圧と比べて大きい。そのため、これらの電源線は、ビデオ信号線やパルス線と比較して幅の広い配線を使用する必要がある。
【００５３】
しかし、幅の広い配線を用いると、配線を介して紫外線を照射した場合に配線の陰になったシール材部分に、十分に紫外線が照射されない。すると、シール材が十分に硬化しない可能性がある。
【００５４】
そこで、本発明では、次のような配線の形状を考えた。その模式図を図３（Ａ）に示す。なお、図３（Ａ）は、図１の封止領域の一部６６６の拡大図に相当する。
【００５５】
図３（Ａ）では、配線（第１の配線）７１０ｂのうち、ある１本の電源線７７７に注目している。電源線７７７は、配線（第２の配線）Ａ１〜Ａ６を並列に接続することにより形成されている。ここで、この様な形状の配線７７７を介してシール材７０４に紫外線を照射する場合の説明をする。
【００５６】
なお、ここでは、１本の電源線７７７を６本の配線Ａ１〜Ａ６を並列に接続することによって構成しているが、本発明はこの構成に限定されない。一般に、１本の配線が、ｎ（ｎは、２以上の自然数）本の配線（第２の配線）Ａ１〜Ａｎを並列に接続することによって構成されていてもよい。
【００５７】
図３（Ｂ）は、図３（Ａ）のＡ〜Ａ'の断面図である。図３（Ｂ）において、図３（Ａ）と同じ符号は同じ部分を示す。
【００５８】
図３（Ｂ）において、画素基板側から紫外線を照射すると配線Ａ１〜Ａ６の上のシール材の部分６６０は陰になるが、配線の幅Ｌが十分に小さく、かつ配線の間隔Ｓが十分に大きいとき、照射された紫外線は陰６６０の部分にも回り込む。
なお、配線のすぐ上部６００の部分は紫外線によって露光されないが、配線幅が大きい場合と比べて、この６００の部分は十分に小さく、全体としてシール材を十分に露光することができる。
【００５９】
具体的には、配線Ａ１〜Ａ６の幅Ｌが１００μｍ〜２００μｍの値を取り、配線Ａ１〜Ａ６のそれぞれの配線間の間隔Ｓが５０μｍ〜１５０μｍの値をとり、Ｌ／Ｓが０．７〜１．５になるような形状の配線の場合、その配線を介して照射された紫外線は、配線上部のシール材を十分に露光し、シール材を十分に硬化することができる。
【００６０】
更に好ましくは、配線Ａ１〜Ａ６の幅Ｌが１５０μｍ以下の値を取り、配線Ａ１〜Ａ６のそれぞれの配線間の間隔Ｓが、１００μｍ以上の値をとり、Ｌ／Ｓが、１．５以下の値となるような形状の配線の場合、その配線上部のシール材を十分に硬化することができる。
【００６１】
なお、図３では、配線７１０ｂのうち、ある１本の電源線７７７に注目したが、封止領域に形成された、その他の配線幅が問題となる配線においても、同様の形状とすることができる。
【００６２】
この様に、封止領域に配線を形成することができる。これにより、画素部以外の領域の面積を少なくすることができ、表示装置を小型化することができる。
【００６３】
以下に、本発明の実施例について説明する。
【実施例１】
【００６４】
本実施例では、発明の実施の形態とは異なった構成のアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置について図２を用いて説明する。なお、図１と同じ部分は、同じ符号を用いて表す。
【００６５】
図２（Ａ）に、本発明のＥＬ表示装置の上面図を示す。画素基板７０１上に画素部７１１及びゲート信号線駆動回路７０２、ソース信号線駆動回路７０３が形成されている。この周りを囲んでシール材７０４が形成され、カバー材７０５が貼り付けられている。ＦＰＣ基板７０６は、外部入力端子７０７によって画素基板７０１上に接続されている。配線７０８は、外部入力端子７０７において、ＦＰＣ基板７０６からの信号を受け取り、ゲート信号線駆動回路７０２に伝達する、信号線や電源線等の複数の配線を示す。配線７０９は、外部入力端子７０７において、ＦＰＣ基板７０６からの信号を受け取り、ソース信号線駆動回路７０３に伝達する、信号線や電源線等の複数の配線を示す。配線７１０ａ及び配線７１０ｂは、外部入力端子７０７において、ＦＰＣ基板７０６からの信号を受け取り、画素部７１１に伝達する、電源線等の複数の配線を示す。ここで、配線７０８〜７１０は、封止領域に形成されている。
【００６６】
図２（Ｂ）は、図２（Ａ）のＡ〜Ａ'の部分を示した断面図である。
【００６７】
なおここでは、説明を簡単にするため、ゲート信号線駆動回路７０２を構成する素子としてＴＦＴ７１２、画素部７１１を構成する素子としてＥＬ駆動用ＴＦＴ７１３のみを示す。ＥＬ駆動用ＴＦＴ７１３のソース領域もしくはドレイン領域のどちらか一方が、ＥＬ素子７２１の画素電極７１４と接続され、ＥＬ素子７２１に入力される電流を制御する。ここで、層間絶縁膜７１６、ＥＬ層７１５、絶縁膜７１７、対向電極７１８、充填材７１９、ゲート絶縁膜７２０である。なお、ここでは、層間絶縁膜７１６は有機物質によって形成されているものとする。
【００６８】
ＴＦＴ７１２及びＥＬ駆動用ＴＦＴ７１３のソース配線及びドレイン配線を構成する物質と同様の物質を用い、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂが形成されている。
【００６９】
なお、配線７０８〜７１０のうち配線７０９については、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂと同様に形成されるので、説明を省略する。
【００７０】
層間絶縁膜７１６として、有機物質が使用されているため、この有機物質上に直接、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂを形成すると密着性が悪い。
また、有機物質から配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂを構成する材料に不純物が導入されて配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂが劣化するなどの問題がある。そこで、有機物質で形成された層間絶縁膜７１６を除いて配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂを形成する必要がある。
【００７１】
なお、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂを形成する部分の層間絶縁膜７１６を取り除く工程は、ＴＦＴ７１２や画素ＴＦＴ７１３のソース配線及びドレイン配線を形成する際、それらのＴＦＴのソース領域に達するコンタクトホールを形成する時に同時に行うことができる。
【００７２】
また、シール材７０４として、紫外線により硬化する材料を用いる場合が多い。また、カバー材７０５として遮光性を有する材料を用いる場合が多い。そのため、カバー材側から紫外線照射してもシール材を硬化させることができない。そこで、画素基板７０１側から、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂを介して紫外線照射し、シール材７０４を硬化させる必要がある。しかし配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂとして、幅の広い配線を用いると、配線の陰になったシール材７０４の部分は、十分に紫外線が照射されずシール材７０４が十分に硬化しない可能性がある。
【００７３】
そこで、配線７０８、配線７１０ａ及び配線７１０ｂとして、１本の幅の広い配線を用いる代わりに、図３に示した様に、複数の配線を並列に接続したものを用いる。
【００７４】
具体的には、複数の配線の幅Ｌが１００μｍ〜２００μｍの値をとり、複数の配線の間隔Ｓが５０μｍ〜１５０μｍの値をとり、複数の配線の幅Ｌと複数の配線の間隔Ｓとの比Ｌ／Ｓが、０．７〜１．５になるような形状の配線を用いる。
このような形状の配線の場合、その配線を介して照射された紫外線は、配線上部のシール材を十分に露光し、シール材を十分に硬化することができる。
【００７５】
更に好ましくは、複数の配線の幅Ｌが１５０μｍ以下の値を取り、複数の配線の間隔Ｓが、１００μｍ以上の値をとり、Ｌ／Ｓが、１．５以下の値となるような形状の配線の場合、その配線上部のシール材を十分に硬化することができる。
【００７６】
この様に、封止領域に配線を形成することができる。これにより、画素部以外の領域の面積を少なくすることができ、表示装置を小型化することができる。
【実施例２】
【００７７】
本実施例では、アクティブマトリクス型ＥＬ表示装置の画素部の電源供給線に電流を供給する電源線の配線例について説明する。
【００７８】
ここで、再び図１（Ａ）を参照する。ＥＬ素子７２１を駆動する電流は、配線７１０ａ及び配線７１０ｂの電源線を通って、画素部７１１の電源供給線に入力される。画素部７１１の電源供給線は、７１０ａ及び７１０ｂの電源線により、２箇所から電流が供給されている。
【００７９】
一方、図４に示した従来のＥＬ表示装置では、画素部４０２の電源供給線は、４１２ａの電源線より、１箇所から電流が供給されている。本発明のアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置において、画素部の２箇所から画素部に電流を供給している理由を説明する。
【００８０】
１つのＦＰＣ基板が接続された外部入力端子が一箇所にあり、画素部の一方から、電流が供給される場合と、外部入力端子が二箇所に分割してあり、それぞれにＦＰＣ基板（第１のＦＰＣ基板及び第２のＦＰＣ基板）が接続され、画素部の２方向から電源供給線に電流が供給される場合の、電源線の配線例を図５に模式的に示す。電源線として、ＥＬ素子の陽極に接続する陽極線と、陰極に接続する陰極線を示す。図５（Ａ）は、外部入力端子７０７が一箇所にある。一方、図５（Ｂ）では外部入力端子７０７を二箇所（基板の一端及び前記基板の一端とは異なる基板の一端近傍）に分割し、それぞれから、陽極線及び陽極線を画素部に配線している。
【００８１】
図５（Ａ）では、陽極線及び陰極線の入力口から離れた側の電源供給線では、Ｒ１の長さの分だけ配線抵抗が増加し、それによる電位降下のため、電源供給線よりＥＬ素子に印加される電圧が低下し、画質の低下を招く。
【００８２】
一方、図５（Ｂ）では、一方の陽極線及び陰極線の入力口１から離れた側に、もう一方の入力口２を設け、入力口１及び入力口２の両方から電源供給線に電流を供給する。これにより、配線抵抗による電圧の低下に由来する、画質の低下を軽減することができる。
【００８３】
なお、図５（Ｂ）の様に外部入力端子を２箇所に設ける際、この２つの外部入力端子間の距離を、画素部の形成された基板の長辺の長さの１／２以上離すことで、配線抵抗による電圧の低下に由来する画質の低下を軽減する効果が高まる。
【００８４】
なお、配線抵抗がそれ程問題とならない場合は、外部入力端子を１箇所に形成してもよい。
【００８５】
なお、本実施例は、発明の実施の形態や実施例１と組み合わせて実行することが可能である。
【実施例３】
【００８６】
本実施例では、封止領域部分に配線を形成する手法を用いた液晶表示装置について説明する。
【００８７】
液晶表示装置の駆動方法としては、アクティブマトリクス型が挙げられる。
【００８８】
まず、図１０にアクティブマトリクス型液晶表示装置の画素部の構成を示す。
アクティブマトリクス型液晶表示装置では、各画素がそれぞれＴＦＴを有している。ゲート信号線駆動回路からの選択信号が入力されるゲート信号線（Ｇ１〜Ｇｙ）は、各画素が有する画素ＴＦＴ１００２のゲート電極に接続されている。また、各画素の有する画素ＴＦＴ１００２のソース領域とドレイン領域は、一方がソース信号線駆動回路から信号が入力されるソース信号線（Ｓ１〜Ｓｘ）に、他方が、保持容量１００１の一方の電極と、液晶１００３を挟む２つの電極の一方と接続されている。
【００８９】
ゲート信号線Ｇ１に信号が入力されるとゲート信号線Ｇ１に接続されたすべての画素ＴＦＴ１００２のゲート電極に信号が入力され、画素ＴＦＴ１００２は、オンになる。画素ＴＦＴ１００２がオンになった画素に、ソース信号線（Ｓ１〜Ｓｘ）から信号が入力されると、保持容量１００１に電荷が保持され、この保持された電荷により液晶１００３を挟んだ電極間に電圧が印加される。この印加電圧により、液晶分子の配向を制御し、透過光量を制御する。すべてのゲート信号線（Ｇ１〜Ｇｙ）に関してこの動作を繰り返し、画像の表示を行う。
【００９０】
次に、アクティブマトリクス型液晶表示装置の液晶の封止について説明する。
【００９１】
液晶表示装置では、液晶を挟んだ２つの電極間に電圧を印加することによって、液晶の配向を制御し、表示を行う。ここで、電極間に液晶を挟んだ状態を保持する為、それぞれに電極が形成された２つの絶縁基板を、それぞれの電極が向かい合う向きにシール材で接着し、その間に液晶を封入する必要がある。
【００９２】
図６に、液晶表示装置の２つの基板を貼り合わせて、その間に液晶を封入したところの模式図を示す。
【００９３】
図６（Ａ）は、液晶表示装置の上面図である。シール材３０１としては、エポキシ系樹脂等が用いられる。配向膜（図示せず）を形成し、ラビング処理を施された基板３１において、画素部３０２及びゲート信号線駆動回路３０３、ソース信号線駆動回路３０４を囲むようにシール材３０１を形成する。この際、後に液晶を注入する為の注入口として開口部（図示せず）をシール材３０１の一部に形成しておく。次にスペーサー（図示せず）を散布し、もう一方の基板３２と貼り合わせる。
【００９４】
スペーサ−の径によって、基板３１と基板３２との距離が定まったら、基板３１もしくは基板３２を介して、シール材３０１部分に紫外線を照射したり、熱を加えるなどして、シール材３０１を硬化させ、基板３１と基板３２とを密着させる。
【００９５】
なお、熱を加えることによって、シール材３０１を硬化させ、基板３１と基板３２とを貼り合わせる手法では、加圧しながら熱処理する必要があり、基板３１と基板３２の熱膨張により、張り合わせの位置がずれる問題が深刻である。また、熱硬化には時間がかかるという問題もある。その為、熱硬化ではなく、紫外線照射により、シール材を硬化させる工程が多く使用される。
【００９６】
その後、液晶注入口より液晶３３を注入し、封止材（図示せず）により液晶注入口をふさいで液晶３３が外部に流れ出てこないようにする。なお、この封止材としては、熱硬化の材料ではなく、紫外線により硬化する材料を用いる。これは、液晶３３を注入した後に熱を加えた場合、液晶３３が劣化するのを防ぐためである。
【００９７】
シール材３０１や封止材には、イオンを含む湿気などの液晶を汚染する物質を、通過させないようにする働きもある。
【００９８】
次に、ソース信号線駆動回路及びゲート信号線駆動回路のそれぞれに入力される信号を伝達する配線について説明する。
【００９９】
外部からのビデオ信号などが、ゲート信号線駆動回路３０３及びソース信号線駆動回路３０４に入力され、画素部３０２に入力される信号が構成される。ここで、外部からゲート信号線駆動回路３０３及びソース信号線駆動回路３０４に入力される信号は、画素基板３１上の外部入力端子３０９に貼り付けられた、ＦＰＣ基板３１０より入力される。ＦＰＣ基板３１０は、外部入力端子３０９において、異方性導電性膜（図示せず）によって画素基板上に形成された配線３１２と接続される。この配線３１２（３１２ａ、３１２ｂ）は、シール材３０１の間を通ってゲート信号線駆動回路３０３及びソース信号線駆動回路３０４に接続されている。
【０１００】
配線３１２ａは、外部入力端子３０９において、ＦＰＣ基板３１０からの信号を受け取り、ゲート信号線駆動回路３０３に伝達する配線である。配線３１２ｂは、外部入力端子３０９において、ＦＰＣ基板３１０からの信号を受け取り、ソース信号線駆動回路３０４に伝達する配線である。ここで、配線３１２ａ及び配線３１２ｂは、画素基板３１上のシール材３０１に覆われた部分（封止領域）に形成されている。
【０１０１】
図６（Ｂ）に図６（Ａ）のＢ〜Ｂ'の断面図を示す。なお、図６（Ａ）と同じ部分は、同じ符号で表す。
【０１０２】
ここでは、説明を簡単にするため、ゲート信号線駆動回路３０３を構成するＴＦＴ１１４及び画素部３０２を構成する画素ＴＦＴ３１４のみを示す。画素部及び駆動回路を構成するＴＦＴが形成された基板３１を画素基板と呼ぶことにする。また、画素基板上に取り付けられた電極３０７を画素電極と呼ぶ。もう一方の基板３２は、対向基板と呼ぶことにする。また、対向基板側に取り付けられた電極３０８を対向電極と呼ぶ。この画素電極３０７や対向電極３０８に印加される電圧を制御して画像の表示を行う。
【０１０３】
ここで、３０６はＴＦＴ１１４及びＴＦＴ画素３１４のゲート絶縁膜である。
また、３１５は層間絶縁膜、１１２は遮光層である。なお、ここでは配向膜は図示していない。
【０１０４】
画素ＴＦＴ３１４のソース領域もしくはドレイン領域のどちらか一方が、画素電極３０７と接続し、画素電極３０７に印加される電圧を制御している。なお、ここでは、層間絶縁膜３１５は無機物質によって形成されているものとする。
【０１０５】
ここで、ＴＦＴ１１４や画素ＴＦＴ３１４のソース配線及びドレイン配線を構成する物質と同様の物質を用い、配線３１２が形成されている。
【０１０６】
また、シール材３０１として紫外線により硬化する材料を用いたとする。対向基板３２側から紫外線照射しても、遮光層１１２があるためシール材３０１を硬化させることができない。そこで、画素基板３１側から、配線３１２ａを介して紫外線照射し、シール材３０１を硬化させる必要がある。しかし、配線３１２ａとして幅の広い配線を用いると、配線の陰になったシール材７０４の部分は、十分に紫外線が照射されずシール材７０４が十分に硬化しない可能性がある。
【０１０７】
そこで、配線３１２ａとして、１本の幅の広い配線を用いる代わりに、図３に示した様に、複数の配線を並列に接続したものを用いる。
【０１０８】
具体的には、複数の配線の幅Ｌが１００μｍ〜２００μｍの値をとり、複数の配線の間隔Ｓが５０μｍ〜１５０μｍの値をとり、複数の配線の幅Ｌと複数の配線の間隔Ｓとの比Ｌ／Ｓが、０．７〜１．５になるような形状の配線を用いる。
このような形状の配線の場合、その配線を介して照射された紫外線は、配線上部のシール材を十分に露光し、シール材を十分に硬化することができる。
【０１０９】
更に好ましくは、複数の配線の幅Ｌが１５０μｍ以下の値を取り、複数の配線の間隔Ｓが、１００μｍ以上の値をとり、Ｌ／Ｓが、１．５以下の値となるような形状の配線の場合、その配線上部のシール材を十分に硬化することができる。
【０１１０】
なお、遮光層１１２が画素基板３１側に取り付けられている場合には，シール材３０１を硬化させるために対向基板３２側から紫外線を照射する必要がある。
この時は、配線３１２ａは、照射される紫外線を遮ることは無いので、幅の広い形状のものを用いても問題ない。
【０１１１】
この様に、封止領域に配線を形成することができる。これにより、画素部以外の領域の面積を少なくすることができ、表示装置を小型化することができる。
【実施例４】
【０１１２】
本実施例では、実施例３に述べた構造とは異なる構造の表示装置について、図７を用いて説明する。なお、図７において、図６と同じ部分は同じ符号を用いて表す。
【０１１３】
図７（Ａ）は、本発明の液晶表示装置の上面図である。画素基板３１上に画素部３０２及びゲート信号線駆動回路３０３、ソース信号線駆動回路３０４が形成されている。この周りを囲んでシール材３０１が形成され、対向基板３２が貼り付けられ、間に液晶３３が封入されている。ＦＰＣ基板３１０は、外部入力端子３０９によって画素基板３１上に接続されている。配線３１２ａは、外部入力端子３０９において、ＦＰＣ基板３１０からの信号を受け取り、ゲート信号線駆動回路３０３に伝達する配線である。配線３１２ｂは、外部入力端子３０９において、ＦＰＣ基板３１０からの信号を受け取り、ソース信号線駆動回路３０４に伝達する配線である。ここで、配線３１２ａ及び配線３１２ｂは、封止領域に形成されている。
【０１１４】
図７（Ｂ）は、図７（Ａ）のＢ〜Ｂ'の部分を示した断面図である。ここで、図７（Ａ）と同じ符号は同じ部分を表す。
【０１１５】
ここでは説明を簡単にするため、ゲート信号線駆動回路３０３を構成する素子としてＴＦＴ１１４のみを示す。また、画素部３０２を構成する素子として画素ＴＦＴ３１４のみを示す。画素ＴＦＴ３１４のソース領域もしくはドレイン領域のどちらか一方が、画素電極３０７と接続し、画素電極３０７に印加される電圧を制御している。
【０１１６】
ＴＦＴ１１４や画素ＴＦＴ３１４のソース配線及びドレイン配線を構成する物質と同様の物質を用い、配線３１２が形成されている。なお、ここでは、層間絶縁膜３１５は有機物質によって形成されているものとする。
【０１１７】
層間絶縁膜３１５として、有機物質が使用されているため、この有機物質上に直接、配線３１２を形成すると密着性が悪い。また、有機物質から配線３１２を構成する材料に不純物が導入されて配線３１２が劣化するなどの問題がある。そこで、有機物質で形成された層間絶縁膜３１５を除いて配線３１２を形成する必要がある。
【０１１８】
なお、配線３１２ａを形成する部分の層間絶縁膜３１５を取り除く工程は、ＴＦＴ１１４や画素ＴＦＴ３１４のソース配線及びドレイン配線を形成する際、それらのソース領域及びドレイン領域に達するコンタクトホールを形成する時に同時に行うことができる。
【０１１９】
また、シール材３０１として紫外線により硬化する材料を用いたとする。対向基板３２側から紫外線照射しても、遮光層１１２があるためシール材３０１を硬化させることができない。そこで、画素基板３１側から、配線３１２ａを介して紫外線照射し、シール材３０１を硬化させる必要がある。しかし、配線３１２ａとして幅の広い配線を用いると、配線の陰になったシール材７０４の部分は、十分に紫外線が照射されずシール材７０４が十分に硬化しない可能性がある。
【０１２０】
そこで配線３１２ａとして、１本の幅の広い配線を用いる代わりに、図３に示した様に、複数の配線を並列に接続したものを用いる。
【０１２１】
具体的には、複数の配線の幅Ｌが１００μｍ〜２００μｍの値をとり、複数の配線の間隔Ｓが５０μｍ〜１５０μｍの値をとり、複数の配線の幅Ｌと複数の配線の間隔Ｓとの比Ｌ／Ｓが、０．７〜１．５になるような形状の配線を用いる。
このような形状の配線の場合、その配線を介して照射された紫外線は、配線上部のシール材を十分に露光し、シール材を十分に硬化することができる。
【０１２２】
更に好ましくは、複数の配線の幅Ｌが１５０μｍ以下の値を取り、複数の配線の間隔Ｓが、１００μｍ以上の値をとり、Ｌ／Ｓが、１．５以下の値となるような形状の配線の場合、その配線上部のシール材を十分に硬化することができる。
【０１２３】
なお、遮光層１１２が画素基板３１側に取り付けられている場合には，シール材３０１を硬化させるために対向基板３２側から紫外線を照射する事となる。この時は、配線３１２ａは、照射される紫外線を遮ることは無いので、幅の広い形状のものを用いても問題ない。
【０１２４】
この様に、封止領域に配線を形成することができる。これにより、画素部以外の領域の面積を少なくすることができ、表示装置を小型化することができる。
【実施例５】
【０１２５】
本実施例では、本発明を用いて形成された表示装置を表示媒体として組み込んだ電子機器について説明する。
【０１２６】
その様な電子機器としては、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ヘッドマウントディスプレイ（ゴーグル型ディスプレイ）、ゲーム機、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、携帯情報端末（モバイルコンピュータ、携帯電話または電子書籍等）などが挙げられる。それらの一例を図８に示す。
【０１２７】
図８（Ａ）はパーソナルコンピュータであり、本体２００１、筐体２００２、表示部２００３、キーボード２００４等を含む。本発明の表示装置はパーソナルコンピュータの表示部２００３に用いることができる。
【０１２８】
図８（Ｂ）はビデオカメラであり、本体２１０１、表示部２１０２、音声入力部２１０３、操作スイッチ２１０４、バッテリー２１０５、受像部２１０６等を含む。本発明の表示装置はビデオカメラの表示部２１０２に用いることができる。
【０１２９】
図８（Ｃ）は頭部取り付け型の表示装置の一部（右片側）であり、本体２３０１、信号ケーブル２３０２、頭部固定バンド２３０３、表示モニタ２３０４、光学系２３０５、表示部２３０６等を含む。本発明の表示装置は頭部取り付け型の表示装置の表示部２３０６に用いることができる。
【０１３０】
図８（Ｄ）は記録媒体を備えた画像再生装置（具体的にはＤＶＤ再生装置）であり、本体２４０１、記録媒体（ＣＤ、ＬＤまたはＤＶＤ等）２４０２、操作スイッチ２４０３、表示部（ａ）２４０４、表示部（ｂ）２４０５等を含む。表示部（ａ）は主として画像情報を表示し、表示部（ｂ）は主として文字情報を表示するが、本発明の表示装置は記録媒体を備えた画像再生装置の表示部（ａ）２４０４、表示部（ｂ）２４０５に用いることができる。なお、記録媒体を備えた画像再生装置としては、ＣＤ再生装置、ゲーム機器などに本発明を用いることができる。
【０１３１】
図８（Ｅ）は携帯型（モバイル）コンピュータであり、本体２５０１、カメラ部２５０２、受像部２５０３、操作スイッチ２５０４、表示部２５０５等を含む。本発明の表示装置２５０５は携帯型（モバイル）コンピュータの表示部２５０５に用いることができる。
【０１３２】
以上の様に、本発明の適用範囲は極めて広く、あらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。また、本実施例の電子機器は実施例１〜４のどのような組み合わせからなる構成を用いても実現することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素を有する画素部が設けられた第１の基板と、
前記第１の基板と対向する第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、前記画素部を囲む四辺を有するシール材と、
前記シール材の少なくとも一辺に沿って前記シール材と重なり延在する領域を有する、前記第１の基板上に設けられた配線と、を有し、
前記領域において、前記配線は長方形状の複数の開口を有し、
前記複数の開口の長辺は各々平行であり、
前記複数の開口の一方の短辺は各々同一線上にあり、
前記複数の開口の他方の短辺は各々同一線上にあり、
前記複数の開口の長辺方向と、前記シール材の一辺が延在する方向とは平行であることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
複数の画素を有する画素部が設けられた第１の基板と、
前記第１の基板と対向する第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、前記画素部を囲む四辺を有するシール材と、
前記シール材の少なくとも一辺に沿って前記シール材と重なり延在する領域を有する、前記第１の基板上に設けられた配線と、を有し、
前記領域において、前記配線は長方形状の複数の開口を有し、
前記複数の開口の長辺は各々平行であり、
前記複数の開口の一方の短辺は各々同一線上にあり、
前記複数の開口の他方の短辺は各々同一線上にあり、
前記複数の開口の長辺方向と、前記シール材の一辺が延在する方向とは平行であり、
前記シール材は、前記複数の開口を介して紫外線により硬化されていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
複数の画素を有する画素部が設けられた第１の基板と、
前記第１の基板と対向する第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、前記画素部を囲む四辺を有するシール材と、
前記シール材の少なくとも一辺に沿って前記シール材と重なり延在する領域を有する、前記第１の基板上に設けられた配線と、を有し、
前記領域において、前記配線はスリット状の複数の開口を有し、
前記複数の開口の長辺方向と、前記シール材の一辺が延在する方向とは平行であることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
複数の画素を有する画素部が設けられた第１の基板と、
前記第１の基板と対向する第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、前記画素部を囲む四辺を有するシール材と、
前記シール材の少なくとも一辺に沿って前記シール材と重なり延在する領域を有する、前記第１の基板上に設けられた配線と、を有し、
前記領域において、前記配線はスリット状の複数の開口を有し、
前記複数の開口の長辺方向と、前記シール材の一辺が延在する方向とは平行であり、
前記シール材は、前記複数の開口を介して紫外線により硬化されていることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１または２において、
前記複数の開口のうち、隣り合う長辺間の幅Ｌと、短辺の幅Ｓの比Ｌ／Ｓは、０．７〜１．５の値を有することを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項３または４において、
前記複数の開口のうち、隣り合う開口間の幅Ｌと、各スリット幅Ｓの比Ｌ／Ｓは、０．７〜１．５の値を有することを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、
前記第１の基板と、前記第２の基板と、前記シール材とによって囲まれた領域に液晶が封入されていることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一において、
前記配線は、電源線であることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれか一において、
前記配線は、ビデオ信号線よりも幅の広い配線であることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至７のいずれか一において、
前記配線は、パルス線よりも幅の広い配線であることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一において、
前記配線は、前記画素部に設けられた薄膜トランジスタに電気的に接続されるソース配線及びドレイン配線を構成する物質と同じ物質で形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一において、
前記配線は、前記第１の基板上に設けられた外部入力端子において、ＦＰＣ基板と電気的に接続されることを特徴とする表示装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか一に記載の表示装置と、操作スイッチとを有するビデオカメラ、画像再生装置、携帯電話、電子書籍、又は携帯情報端末。
【請求項１４】
請求項１乃至１２のいずれか一に記載の表示装置と操作スイッチとを有する電子機器。
【請求項１】
複数の画素を有する画素部が設けられた第１の基板と、
前記第１の基板と対向する第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、前記画素部を囲む四辺を有するシール材と、
前記シール材の少なくとも一辺に沿って前記シール材と重なり延在する領域を有する、前記第１の基板上に設けられた配線と、を有し、
前記領域において、前記配線は長方形状の複数の開口を有し、
前記複数の開口の長辺は各々平行であり、
前記複数の開口の一方の短辺は各々同一線上にあり、
前記複数の開口の他方の短辺は各々同一線上にあり、
前記複数の開口の長辺方向と、前記シール材の一辺が延在する方向とは平行であることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
複数の画素を有する画素部が設けられた第１の基板と、
前記第１の基板と対向する第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、前記画素部を囲む四辺を有するシール材と、
前記シール材の少なくとも一辺に沿って前記シール材と重なり延在する領域を有する、前記第１の基板上に設けられた配線と、を有し、
前記領域において、前記配線は長方形状の複数の開口を有し、
前記複数の開口の長辺は各々平行であり、
前記複数の開口の一方の短辺は各々同一線上にあり、
前記複数の開口の他方の短辺は各々同一線上にあり、
前記複数の開口の長辺方向と、前記シール材の一辺が延在する方向とは平行であり、
前記シール材は、前記複数の開口を介して紫外線により硬化されていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
複数の画素を有する画素部が設けられた第１の基板と、
前記第１の基板と対向する第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、前記画素部を囲む四辺を有するシール材と、
前記シール材の少なくとも一辺に沿って前記シール材と重なり延在する領域を有する、前記第１の基板上に設けられた配線と、を有し、
前記領域において、前記配線はスリット状の複数の開口を有し、
前記複数の開口の長辺方向と、前記シール材の一辺が延在する方向とは平行であることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
複数の画素を有する画素部が設けられた第１の基板と、
前記第１の基板と対向する第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、前記画素部を囲む四辺を有するシール材と、
前記シール材の少なくとも一辺に沿って前記シール材と重なり延在する領域を有する、前記第１の基板上に設けられた配線と、を有し、
前記領域において、前記配線はスリット状の複数の開口を有し、
前記複数の開口の長辺方向と、前記シール材の一辺が延在する方向とは平行であり、
前記シール材は、前記複数の開口を介して紫外線により硬化されていることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１または２において、
前記複数の開口のうち、隣り合う長辺間の幅Ｌと、短辺の幅Ｓの比Ｌ／Ｓは、０．７〜１．５の値を有することを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項３または４において、
前記複数の開口のうち、隣り合う開口間の幅Ｌと、各スリット幅Ｓの比Ｌ／Ｓは、０．７〜１．５の値を有することを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一において、
前記第１の基板と、前記第２の基板と、前記シール材とによって囲まれた領域に液晶が封入されていることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一において、
前記配線は、電源線であることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれか一において、
前記配線は、ビデオ信号線よりも幅の広い配線であることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至７のいずれか一において、
前記配線は、パルス線よりも幅の広い配線であることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一において、
前記配線は、前記画素部に設けられた薄膜トランジスタに電気的に接続されるソース配線及びドレイン配線を構成する物質と同じ物質で形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一において、
前記配線は、前記第１の基板上に設けられた外部入力端子において、ＦＰＣ基板と電気的に接続されることを特徴とする表示装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか一に記載の表示装置と、操作スイッチとを有するビデオカメラ、画像再生装置、携帯電話、電子書籍、又は携帯情報端末。
【請求項１４】
請求項１乃至１２のいずれか一に記載の表示装置と操作スイッチとを有する電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１１−５４５７０（Ｐ２０１１−５４５７０Ａ）
【公開日】平成２３年３月１７日（２０１１．３．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２２４６３９（Ｐ２０１０−２２４６３９）
【出願日】平成２２年１０月４日（２０１０．１０．４）
【分割の表示】特願２００１−２２０７７４（Ｐ２００１−２２０７７４）の分割
【原出願日】平成１３年７月２３日（２００１．７．２３）
【出願人】（０００１５３８７８）株式会社半導体エネルギー研究所 (5,264)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年３月１７日（２０１１．３．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１０月４日（２０１０．１０．４）
【分割の表示】特願２００１−２２０７７４（Ｐ２００１−２２０７７４）の分割
【原出願日】平成１３年７月２３日（２００１．７．２３）
【出願人】（０００１５３８７８）株式会社半導体エネルギー研究所 (5,264)
【Ｆターム（参考）】
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