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Fターム[5E315GG01]の内容

印刷回路用の絶縁金属基体 (4,442) | 目的、効果 (812) | 放熱性 (225)

Fターム[5E315GG01]に分類される特許

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【課題】陽極酸化基板によって高放熱特性を維持し、高密度/高集積の特性を持つ陽極酸化放熱基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】貫通ホールが形成された金属層10の全面に陽極酸化層20が形成された陽極酸化基板11、陽極酸化基板11の両面に形成された第1内側回路層30及び第2内側回路層40、それらを連結するために貫通ホールの内壁に形成されたホールメッキ層50、ホールメッキ層50によって電気的に連結された貫通ホールの内部に充填されたプラギングインク60、陽極酸化基板11の両面に形成された第1絶縁層90及び第2絶縁層100を介して形成された第1外側回路層110及び第2外側回路層120、それらを電気的に連結するために貫通ホールまたはプラギングインク60を貫くように挿入された連結部材130を含む。 (もっと読む)


【課題】本発明は、熱伝導率が高く、かつ、近紫外領域の波長の光反射率が高い光半導体発光装置用樹脂成形体材料を提供することを課題とする。加えて、成形した際の成形性も高い光半導体発光装置用樹脂成形体を提供することを課題とする。
【解決手段】(A)ポリオルガノシロキサン、(B)無機充填剤、および(C)硬化触媒を含有し、前記(B)無機充填剤として、一次粒径が0.1μm以上7.0μm以下の、窒化ホウ素または窒化アルミニウムを含有する、半導体発光装置用樹脂成形体用材料により課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】放熱特性が向上した放熱基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】銅基板330、銅基板330の一面に形成されたアルミナ層320、アルミナ層320に形成された第1回路層340からなる放熱基板を用い、アルミナ層320を貫くように開口部390を形成し、開口部390を通じてアルミナ層320から露出された銅基板330にソルダパッド610を付着した後、これに発熱素子600を実装することにより、銅基板330の露出面に発熱素子600が直接実装されるパッケージ700を具現する。 (もっと読む)


【課題】電子部品の熱エネルギーの伝達速度を高めることができる回路板を提供すること。
【解決手段】回路板は、金属パターン層と、熱伝導板部材と、電気絶縁層と、少なくとも1つの電気絶縁材料とを備えている。熱伝導板部材は平面を有する。電気絶縁層は金属パターン層と平面との間に配置され、かつ平面を局所的に覆っている。電気絶縁材料は電気絶縁層に覆われていない平面を覆うとともに、熱伝導板部材に接触している。電気絶縁層は電気絶縁材料を露出させ、電気絶縁材料の熱伝導率は電気絶縁層の熱伝導率より大きい。 (もっと読む)


【課題】高い熱伝導率と高い電気絶縁性を有する樹脂硬化物を形成可能な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂組成物を、ビフェニル骨格を有する2官能エポキシ樹脂と、フェノール樹脂と、重量累積粒度分布の小粒径側からの累積50%に対応する粒子径D50が7μm以上25μm以下である第1のアルミナ群、粒子径D50が1μm以上7μm未満である第2のアルミナ群、及び、粒子径D50が1μm未満である第3のアルミナ群と、を含み、第1から第3のアルミナ群の総質量中の、第1のアルミナ群の含有率が60質量%以上70質量%以下、且つ第2のアルミナ群の含有率が15質量%以上30質量%以下、且つ第3のアルミナ群の含有率が1質量%以上25質量%以下であり、第3のアルミナ群に対する第2のアルミナ群の含有比率(第2のアルミナ群/第3のアルミナ群)が、質量基準で1.2以上1.7以下であるように構成する。 (もっと読む)


【課題】電気的信頼性及び安全性が確保される高電力半導体パッケージを具現することができるプリント基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】プリント基板は、キャビティが形成されたベース基板10、ベース基板10を陽極酸化処理することによって形成された陽極酸化絶縁層20、及びキャビティに形成された回路層52を含む。これは、ベース基板10を準備する段階、ベース基板10にキャビティを形成する段階、キャビティが形成されたベース基板10を陽極酸化処理する段階、及びキャビティに回路層52を形成する段階を含む方法によって製造される。 (もっと読む)


【課題】金属ベース基板の製造時に生じ得る反りを抑制し得るとともに、ヒートシンクへの熱伝導性を向上させることができる、金属ベース基板を提供する。
【解決手段】金属ベース基板1は、互いに対向する第1および第2の主面2および3を有する金属板4と、第1および第2の主面2および3上にそれぞれ形成された第1および第2のセラミック層5および6とを備える。第1および第2の主面2および3の双方に形成されるセラミック層5および6は、反りを抑制する。第2のセラミック層6は、第2の主面3上における枠状領域に沿って位置する枠状部分8を少なくとも含むとともに、枠状部分8に囲まれた領域において第2の主面3の一部を露出させる開口9を有する。開口9は、金属板4にヒートシンクを接合することを可能にし、金属ベース基板1の放熱性を向上させる。 (もっと読む)


【課題】放熱特性を維持しながら、発熱素子より発生した熱から熱脆弱素子を保護することのできる放熱基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】コア金属層111及びコア金属層111に形成されるコア絶縁層112を含み、第1領域と第2領域とに区分されたコア層110、コア層110の第1領域に形成される回路層120、及びコア層110の第2領域に形成され、ビルドアップ絶縁層131及びビルドアップ回路層132を含むビルドアップ層130を含むことを特徴として、回路層120に発熱素子150を実装してビルドアップ層130に熱脆弱素子151を実装して、発熱素子150から発生する熱によって、熱脆弱素子151が損傷されることを防止する。 (もっと読む)


【課題】放熱特性を維持しながら、発熱素子より発生した熱から熱脆弱素子を保護することのできる放熱基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】コア金属層111及びコア金属層111に形成されるコア絶縁層112を含み、第1領域と第2領域とに区分されたコア層110、コア層110の第1領域に形成される回路層120、コア層110の第2領域に形成され、ビルドアップ絶縁層131及びビルドアップ回路層132を含むビルドアップ層130、コア層110の第2領域とビルドアップ層130の間に形成される接着層140、及びビルドアップ層130に実装されて接着層140に含浸される含浸素子150を含み、回路層120に発熱素子160を実装し、ビルドアップ層130に熱脆弱素子161を実装することにより、発熱素子160の熱による熱脆弱素子161の損傷を防止し、空間を効率的に活用する放熱基板100a及びその製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】放熱性、絶縁性を兼ね備え、かつ、光反射性の高い発光素子用実装基板、発光素子用実装基板の製造方法、発光装置及び発光装置の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム基板12の少なくとも一方の面に、酸化アルミニウム層14が形成され、酸化アルミニウム層14上に少なくとも(A)ポリカルボン酸樹脂、(B)エポキシ樹脂及び/またはオキセタン樹脂および(C)白色フィラーを含む樹脂組成物層16を有する。この樹脂硬化物層16上に、銅パターン層18と銀メッキ層20による導体パターンを備え、銀メッキ層20の一部に接着剤層26によりLEDチップ24が固定され、導体パターンとLEDチップ24とが、ワイヤ22を介して電気的に接合される。 (もっと読む)


【課題】発熱素子の放熱性を維持するために金属コア層を含み、体積アノダイズを通じて熱伝導性が金属コア層より落ちる酸化絶縁コア層を金属コア層と一体に形成し、熱脆弱素子を酸化絶縁コア層に実装して発熱素子と熱脆弱素子を一つの基板にともに実装しても熱脆弱素子を保護することができるハイブリッド型放熱基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、金属コア層110、金属コア層110と一体の形状を有するように金属コア層110の厚さ方向に形成された酸化絶縁コア層120、金属コア層110の一面または両面に形成された酸化絶縁膜層130、及び酸化絶縁コア層120に形成された第1回路パターン140−1及び酸化絶縁膜層130に形成された第2回路パターン140−2で構成された回路層140を含むハイブリッド型放熱基板100及びその製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】加熱による反りや歪みを低減することを可能とした金属樹脂複合材、特に、配線材料、フレキシブル配線材又はプリント配線材などに好適に使用できる金属樹脂複合材を提供する。
【解決手段】金属樹脂複合材1は、基材10と、基材10の表面に設けられ、絶縁性及び弾性を有する樹脂を含んで形成される樹脂層12と、樹脂層12の表面の少なくとも一部に設けられる金属配線層14とを備える。前記樹脂層がアクリル樹脂を含んで形成され、せん断弾性率が104Pa以上107Pa以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】小型化を図ることができる制御基板を効率よく製造することができる制御基板の製造方法、および、かかる制御基板の製造方法により製造された制御基板を提供すること。
【解決手段】制御基板の製造方法は、回路基板2と、回路基板2上に配置された半導体素子3aおよび3bそしてコネクタ4と、蓋部材5とを備える制御基板1を製造する方法である。この製造方法は、回路基板2上に半導体素子3a、3bとコネクタ4をそれぞれ位置決めして固定し、組立体10を得る組立工程と、組立体10に蓋部材5を装着する装着工程とを有する。そして、蓋部材5は、半導体素子3a、3bのそれぞれの外形形状に対応し、装着工程で半導体素子3a、3bが入り込むような形状をなす半導体素子用凹部54a、54bと、コネクタ4の外形形状に対応し、装着工程でコネクタ4が入り込むような形状をなすコネクタ用凹部55とが予め形成されたものとなっている。 (もっと読む)


【課題】放熱性、絶縁性及びピール強度に優れた金属ベース回路基板の実現に有利な技術を提供する。
【解決手段】本発明の回路基板用積層板1は、金属基板2と、前記金属基板2上に設けられ、液晶ポリエステルと50体積%以上の無機充填材とを含有し、前記無機充填材は窒化アルミニウム及び酸化アルミニウムの少なくとも一方と窒化硼素とからなり、前記無機充填材に占める前記窒化硼素の割合は35乃至80体積%の範囲内にある絶縁層3と、前記絶縁層上に設けられた金属箔4とを具備している。 (もっと読む)


【課題】プリント基板に形成される回路層の回路配線の間にゾルゲル層を形成して放熱特性を向上させることができ、回路層の回路配線の間に発生する電気的短絡を防止することができるうえ、回路層の形成されていない金属基板の他面の陽極酸化層を除去することにより放熱効果を増加させることができるプリント基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のプリント基板は、金属基板10と、金属基板10を陽極酸化処理して形成される陽極酸化層20と、陽極酸化層20に形成される回路層30、31と、陽極酸化層20を露出させる、回路層30、31の回路配線の間に光触媒剤でコーティング処理した後、コーティング処理された光触媒剤を硬化させて形成される第1ゾルゲル層50とを含む。 (もっと読む)


【課題】放熱層3bを有するフレキシブル回路基板において、薄型化を達成しつつ容易に曲げ加工を施すことが可能であり、かつ放熱層3bの平面性を維持することが可能なフレキシブル回路基板を提供する。
【解決手段】回路素子と電気的に接続可能な配線層3a、絶縁層2、及び放熱層3bを少なくとも有するフレキシブル回路基板において、配線層3aは、引っ張り強度250MPa以下で且つ厚さが50μm以下の銅箔によって形成され、放熱層3bは、引っ張り強度400MPa以上で且つ厚さが70μm以上の銅箔によって形成されている。 (もっと読む)


【課題】金属基板と絶縁フィルムと導電箔とを有する金属ベース回路基板において、絶縁フィルムの熱伝導性および密着性を改善する。
【解決手段】液晶ポリエステルと溶媒と熱伝導充填材とを含み、この熱伝導充填材が体積平均粒径10μm以上の窒化ホウ素である液状組成物を調製する。この液状組成物の流延物から溶媒を除去して絶縁フィルム3を形成する。金属基板2の表面に絶縁フィルム3を積層し、絶縁フィルム3の表面に導電箔5を積層して、3層構造の金属ベース回路基板1を形成する。これにより、液晶ポリエステルに熱伝導充填材を高充填する場合であっても、絶縁フィルム3の熱伝導率および密着強度が増大する。 (もっと読む)


【課題】温度上昇時に反りやクラックが発生するのを防止し得る絶縁層を備えるアルミニウム基板その他の高熱伝導性基板を提供すること。
【解決手段】金属製の基材から成るベース層12を備える金属ベースの基板10であって、該ベース層の少なくとも片方の面に絶縁層20が形成されており、該絶縁層はベース層に接する多孔質層22と該多孔質層上に形成される緻密層24とを有しており、ここで該多孔質層は、ガラスで構成されるマトリックスと無機フィラーとを有しており、ベース層に接する部位における多孔率が少なくとも30%であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】多孔性構造の酸化絶縁層を含んで放熱性が向上され、酸化絶縁層にエンベッドされた回路層を含んで微細パターンの形成が可能である放熱基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の放熱基板100は、金属コア層10、金属コア層10の一面または両面に形成されて、金属コア層10に接触するバリア層及び直径が異なる第1ポアと第2ポアを含んでバリア層に連結された多孔性層で構成された第1絶縁層20、第1絶縁層20にエンベッドされ、多孔性層の第2ポアに充填されて第2ポアの側面で連結された第1回路層30、及び第1絶縁層20の多孔性層上に形成された第2絶縁層40を含む。また、本発明の放熱基板100は、第1回路層30が第2ポアの一部を充填して、第2絶縁層40が第1絶縁層20と平坦面を成すように第2ポアに充填されたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で絶縁性および放熱性に優れた金属ベース回路基板及び金属ベース回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様に係る金属ベース回路基板は、金属板11上に配置された熱硬化性樹脂シート12a(第1の熱硬化性樹脂層)と、熱硬化性樹脂層シート12a上に配置された電子部品実装位置に開口を設けた絶縁シート13(絶縁層)と、絶縁シート13の開口に配置された熱伝導経路部材15と、絶縁シート13及び熱伝導経路部材15の上に配置された熱硬化性樹脂シート12b(第1の熱硬化性樹脂層)と、熱硬化性樹脂シート12bの電子部品実装位置に配置された放熱ランド14b及び放熱ランドから間隔をおいて配置された導電回路14aとを備え、これらを加熱加圧により一体化して形成される。 (もっと読む)


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