説明

Fターム[5E343BB23]の内容

プリント配線の製造 (50,760) | 導体パターンの形状、構造・材料 (16,522) | 導体材料(サーメット等) (10,751) | 金属単体 (9,947) | 1B族(Au) (5,412)

Fターム[5E343BB23]の下位に属するFターム

Cu (2,840)
Ag (1,389)

Fターム[5E343BB23]に分類される特許

161 - 180 / 1,183


【課題】焼結プリフォームを使用する、少なくとも2つの部品を接続するための方法を提供すること。
【解決手段】本発明のプリフォームは、硬化したペーストを含有する少なくとも1つの構造化要素を有する表面を有する担体を含み、この硬化したペーストは、(a)少なくとも1つの有機化合物を含有するコーティングを有する金属粒子、ならびに(b)(b1)有機過酸化物、(b2)無機過酸化物、(b3)無機酸、(b4)1〜4個の炭素原子を有する有機酸の塩、(b5)1〜4個の炭素原子を有する有機酸のエステル、および(b6)カルボニル錯体からなる群から選択される少なくとも1つの焼結助剤を含有し、硬化したペーストを有するこの担体の表面は、当該ペーストの構成成分と反応性ではない。 (もっと読む)


【課題】 基材に対して十分な密着性を有する導電パターンを印刷法により形成する方法を提供する。
【解決手段】 実施形態の導電パターンの形成方法は、絶縁基材上に第1のインクにより第1のインク層を形成する工程と、前記第1のインク層に紫外線を照射して熱可塑性樹脂の硬化膜を得る工程と、前記硬化膜上に第2のインクを所定のパターンで印刷して、その全体が前記絶縁基材に直接接しないように第2のインク層を得る工程と、前記第2のインク層を焼成する工程とを具備することを特徴とする。前記第1のインクはカチオン重合性化合物および光酸発生剤を含有し、熱可塑性樹脂の硬化膜は前記カチオン重合性化合物を重合させることにより得られる。前記第2のインクは、導電性の粒子または焼結により導電性を発現する粒子を含有し、第2のインク層の焼成によって、前記粒子の焼結体としての導電パターンが得られる。 (もっと読む)


【課題】高精細かつ密着性に優れた金属配線を製造できると共に、ビアの接続信頼性に優れた多層配線基板を高歩留まりで製造することができる、生産性に優れた多層配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】(A)金属配線を備える配線基板の表面に絶縁層を形成する工程と、(B)ビアホールを形成する工程と、(C)デスミア処理を行う工程と、(D)仮支持体と、仮支持体上にめっき触媒またはその前駆体と相互作用を形成する官能基、及び、重合性基を含有するポリマーを含む樹脂層とを備える樹脂層形成用積層フィルムを、絶縁層上に、樹脂層とデスミア処理が施された絶縁層とが接するようにラミネートし、積層体を得る工程と、(E)前記積層体から前記仮支持体を剥離する工程と、(F)ビアホールの壁面および樹脂層にめっき触媒またはその前駆体を付与し、めっきを行う工程と、を備える多層配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】解像性とテント信頼性に優れた感光性樹脂組成物、並びに、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物を(A)成分:バインダーポリマーと、(B)成分:エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する重合性化合物と、(C)成分:光重合開始剤と、を含有し、前記(B)成分が、下記一般式(I)で表される化合物を含んで構成する。


(式中、Rは2価の有機基を示し、Rは一般式(II)で表される基を示す。Rは水素原子又はメチル基を示し、Xはアルキレン基を示し、nは10〜25の整数を示す) (もっと読む)


【課題】絶縁層に多数のホールを形成し、形成されたホールにメッキ層を充填して回路パターンを形成することにより、厚さが薄く製造工程が単純で原材料浪費を最小化した単層印刷回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】多数のホール11を備えており、備えられたホール11にメッキ層12が充填されて回路パターンを形成している絶縁層10と、絶縁層10の一面に積層され絶縁層10に形成された回路パターンを保護し、ホール14が形成されて絶縁層10のメッキ層12の一部が露出されるようにする第1の保護層13と、絶縁層10の第1の保護層13が形成された面の反対面に形成されて、絶縁層10に形成された回路パターンを保護する第2の保護層15と、を含む。 (もっと読む)


【課題】環境に好ましくない溶液の使用量を低減し、従来よりも簡潔な工程で製造できる、プリント配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施の形態によるプリント配線基板の製造方法は、各々が第1のオーバーハング部を有し、互いに配列された複数の第1の線状凸部を含む金型を準備する工程と、金型の表面に、未硬化の樹脂からなる未硬化層を形成する工程と、未硬化層を硬化して、各々が第2のオーバーハング部を有し、互いに配列された複数の第2の線状凸部と、隣り合う第2の線状凸部の間に形成される複数の表面部とを含む絶縁基板を形成する工程と、金型から絶縁基板を離型する工程と、第2の凸部の上面と、表面部とに導電膜を形成する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】金属支持層を備える配線回路基板において、導体パターンの良否を精度よく検査することができる配線回路基板の製造方法、および、配線回路基板を提供すること。
【解決手段】
金属支持層2と、金属支持層2の上に形成されるベース絶縁層3と、ベース絶縁層3の上に形成される導体パターン4とを備える回路付サスペンション基板1の製造方法において、ベース絶縁層3の表面を粗化した後、波長435〜500nmの入射光31を発光する光源ユニット22と、カメラユニット23とを備える検査装置21を用いて、入射光31を、その光軸に対して0°超過30°以下の角度θを形成するように傾斜する傾斜光を含むように、回路付サスペンション基板1に照射しながら、カメラユニット23で導体パターン4を撮影し、その良否を検査する。 (もっと読む)


【課題】金属の無電解めっきの触媒として使用される、安定で、コスト効果的な金属ナノ粒子を提供する。
【解決手段】一般式:


(式中、R1は非置換(C14〜C30)アルキルであり、R2およびR3は同じかまたは異なっており、非置換(C1〜C6)アルキルである)を有するアミンオキシドで封入された金属ナノ粒子を含む組成物で、金属ナノ粒子が、銀、金、白金、インジウム、ルビジウム、ルテニウム、ロジウム、オスミウム、イリジウム、銅、コバルト、ニッケルおよび鉄から選択される。 (もっと読む)


【課題】 撥液処理を施すことなく、基板表面に細線化した導電性パターンを高い密着性を以って形成する方法を提供する。
【解決手段】 基板表面に金属と結合する基を持つ化合物層を形成する工程と、
前記化合物層を加熱しながら、前記化合物層表面に金属ナノ粒子分散インクをパターン状に塗布して金属ナノ粒子分散インク層を形成する工程と
前記金属ナノ粒子分散インク層を焼結する工程と
を含むことを特徴とする導電性パターンの形成方法。 (もっと読む)


【課題】被印刷体の表面に、幅の狭い一定幅の格子状の非画線部を隔てて、複数の矩形状の画線部が配列された印刷物品を、精度良く連続的に製造しうる新規な印刷物品の製造方法と、前記製造方法に用いるのに適した印刷用版、およびペーストを提供する。
【解決手段】シリコーンゴムからなり、画線部2に対応する凸部4と非画線部1に対応する格子状の凹溝5とを備え、幅Wが3〜80μm、高低差Dが3〜20μm、長さLが15μm以上である印刷用版6の略全面にペーストを塗布して半乾燥させたのち基板を圧接させることで、凸部4上のペーストのみを基板の表面に転写させる。ペーストとしては、粘度ηが18.6〜374Pa・sで、かつチキソインデックス値TI=η/η10が1.8〜8.6であるものを用いる。 (もっと読む)


【課題】インクジェット方式を用いた微細パターンの形成におけるパターンのにじみが防止され、高速処理を可能とするパターン形成方法及びパターン形成装置並びにヘッド。
【解決手段】基板(10)のパターン形成面(10A)に形成されるパターン(12)を構成するドットが形成される処理対象の打滴位置(14)に対して改質エネルギーが照射され、当該処理対象の打滴位置に改質処理が施され、未処理の処理対象の打滴位置に改質処理が施されている間に、改質処理が施された直後(改質処理が終了してから0.1秒以内)の打滴位置に対してインクジェット方式により液滴が打滴される。改質エネルギーとして、光又はプラズマを適用することができる。 (もっと読む)


【課題】ニッケル層、パラジウム層、金層を順次積層してなる接合部を形成する際に、均一な膜厚を実現できる置換金めっき液及びめっき処理技術を提供する。
【解決手段】導電性金属からなる導体層上に、ニッケル層、パラジウム層、金層を順次積層してなる接合部を形成するための置換金めっき液であって、置換金めっき液は、シアン化金塩、錯化剤、銅化合物を含有するものであり、置換金めっき液中の錯化剤と銅化合物とのモル比が錯化剤/銅イオン=1.0〜500の範囲であり、錯化剤と銅化合物とから形成される化合物のpH4〜6における安定度定数が8.5以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】表面実装部品をはんだ付けにより実装する際のはんだボイドの発生およびそれによるショート不良の発生を防止することが可能なセラミック多層基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】焼結金属からなる外部電極4を備えたセラミック多層基板において、外部電極4の表面の所定の領域にめっき金属層11を形成し、外部電極4の表面の一部にはめっき金属層を形成しないようにして、外部電極のめっき金属層が形成されていない領域から水蒸気などのガスが効率よく排出されるようにする。
外部電極の一部を、表面にめっき金属層が付着しない無機絶縁材料からなる多孔質層により被覆し、外部電極の表面の、多孔質層が配設されていない領域にのみめっき金属層を形成するようにして、多孔質層が形成された領域から水蒸気などのガスが効率よく排出されるようにする。
外部電極を、セラミック粒子を含む焼結金属からなるポーラスな電極とする。 (もっと読む)


【課題】コンタクトピンの接触による劣化を抑制できる表面電極を備えた回路基板、その製造方法、及び、コンタクトピンと表面電極との接続構造を得る。
【解決手段】回路基板10の表面に形成され、かつ、コンタクトピン6の接触を受けるピン接触用端子電極15は、回路基板10上に設けられた表面電極12に補強用金属板16が溶接にて固着されている。補強用金属板16は、Cuを主成分とするコア金属材17の表面にNiを主成分とする第1めっき層18、Auを主成分とする第2めっき層19が形成されている。 (もっと読む)


【課題】 基板の接続面に垂直及び水平方向の衝撃が加えられても、十分に優れた落下強度を実現することが可能な端子構造及び電子デバイスを提供すること。
【解決手段】 金、銀及び銅から選ばれる少なくとも一種の金属を含む導体層40、導体層の上にニッケル及びリンを含む第一の層52、第一の層の上に第一の層よりもリンに対するニッケルの原子比が小さく、かつNiPを含む第二の層54、第二の層の上にNi−P−Sn系の第一の金属間化合物を含む第三の層56、並びに第三の層の上にNi−Cu−Sn系の第二の金属間化合物を含む第四の層58、が積層された端子12と、端子の第四の層の上にはんだ層75と、を備える端子構造14であって、第三の層の第二の層側の表面粗さをRa1とし、第三の層の第四の層側の表面粗さをRa2とするときに、Ra2がRa1よりも大きい端子構造14、及び当該端子構造を備える電子デバイス300。 (もっと読む)


【課題】 伸縮可能であって、伸長時にも電気抵抗が増加しにくいことに加えて、配線の酸化等による劣化が少なく耐久性に優れた柔軟配線体を提供する。
【解決手段】 柔軟配線体1は、エラストマー製の基材10と、基材10に配置されエラストマーおよび金属フィラーを含む配線11と、を備える。基材10の該エラストマーおよび配線11の該エラストマーは、硫黄、硫黄化合物、有機過酸化物のいずれも含まない。柔軟配線体1は、さらに、エラストマー製のカバーフィルム12を備えてもよい。カバーフィルム12は、配線11を覆うように配置される。カバーフィルム12の該エラストマーは、硫黄、硫黄化合物、有機過酸化物のいずれも含まない。 (もっと読む)


【課題】本発明は、配線間隔を狭くすることができ、微細化に適した回路基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、絶縁層と、上記絶縁層上に形成された配線層とを有する回路基板であって、上記配線層が、第一配線部と、上記第一配線部の側面にめっき法により形成された第二配線部とを有し、上記第一配線部および上記第二配線部の頂面の位置が一致していることを特徴とする回路基板を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】線状パターンの描画時に複数個のドット形状になることを回避して均一な線形状を形成する。
【解決手段】機能性成分を含有する液体をインクジェットヘッドから吐出し、インクジェットヘッドから順次吐出された複数の液滴を非浸透性の媒体に付着させ、これら液滴同士が媒体上でつながった線状パターンを形成する。このとき、媒体に対する液体の後退接触角を10°以下とする。非浸透性媒体上に順次着弾した液滴同士は媒体上で合一し、描画後の形状が1つの線形状となる。また、媒体に対する液体の静的接触角は10°以上であることが好ましく、吐出周波数は1kHz以上であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】金属ナノ粒子の低温焼結特性を用いて、簡易に、導電性及び機械的強度に優れた金属的接合を得、また導通性に優れた配線パターンを形成できる金属ナノ粒子ペーストを提供する。
【解決手段】(A)金属ナノ粒子と、(B)前記金属ナノ粒子の表面を被覆する保護膜と、(C)カルボン酸類と、(D)分散媒とを含むことを特徴とする金属ナノ粒子ペーストである。 (もっと読む)


【課題】デジタルデータから直接描画可能で、配線パターンの厚みを自由に制御でき、導電性高く、機械的強度に優れたニッケルなどの導電性粒子を使用した回路基板の製造方法及び製造装置の提供。
【解決手段】静電像坦持体上に形成された静電潜像に導電性粒子を現像し、該導電性粒子を転写体に転写する導電性粒子パターン形成工程と、該導電性粒子上から金属インクを塗布するインク塗布工程とからなる事を特徴とする回路基板の製造方法、及び、静電像坦持体と現像器と転写体に導電性粒子を転写する導電性粒子パターン形成部と、該導電性粒子上から金属インクを塗布するインク塗布部とからなる事を特徴とする回路基板の製造装置。 (もっと読む)


161 - 180 / 1,183