【課題】本発明は、表面波共振と表面波共振以外の共振との判別を容易に行うことができるプラズマ密度測定子、プラズマ密度測定装置、プラズマ処理装置、およびプラズマ密度測定方法を提供する。
【解決手段】一端が閉塞された筒状を呈する管部と、前記管部の内部であって、前記閉塞された端部の側に設けられた高周波信号の送受信を行う送受信部と、前記管部の内部に設けられ、前記送受信部と電気的に接続された伝送部と、前記伝送部と前記管部の内壁との間に設けられ、前記管部の軸方向長さ寸法よりも短い長さ寸法を有し、高周波エネルギーを吸収する第１の吸収体と、前記管部の外周面に設けられ、前記管部の軸方向長さ寸法よりも短い長さ寸法を有し、高周波エネルギーを吸収する第２の吸収体と、を備えたことを特徴とするプラズマ密度測定子が提供される。 （もっと読む）

【課題】被処理物の外側に位置する保護部の交換頻度を少なくするため、保護部の長寿命化を図るプラズマ処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】内部を真空とすることが可能な処理室１に、被処理物Ｓを載置する載置部３と、ガスを供給するためのガス供給部２とを備えたプラズマ処理装置において、載置部３は、被処理物Ｓの外周側に配置されたマスクリング３３を有し、ガス供給部２は、被処理物Ｓの上部に位置し、プラズマ処理用のガスを供給する中心側開口部２２ａ、中間開口部２２ｂと、マスクリング３３の上部若しくは外側に位置し、マスクリング３３に堆積物を生じさせるガスを供給する外周側開口部２２ｃとを有する。 （もっと読む）

【課題】 ダミー基板を使用しても、製品の生産を中断することなく、製品の生産を続けることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】 被処理基板Ｗに処理を施す処理室２１ａ又は２１ｂを備えた処理部２と、処理室２１ａ又は２１ｂに、被処理基板Ｗを搬入出する搬入出室３１と、搬入出室３１に設けられ、被処理基板Ｗを収容する被処理基板キャリアＣが取り付けられる被処理基板用ロードポート３２ａ乃至３２ｃと、搬入出室３１に設けられ、ダミー基板Ｗｄを収容するダミー基板キャリアＣｄが取り付けられるダミー基板用ロードポート３３と、搬入出室３１に設けられ、ダミー基板Ｗｄを格納するダミー基板格納部３４と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】電力増幅部に影響を与える反射波電力のスプリアス成分のみを検出して、増幅部の保護を図るための制御を的確に行うことができる高周波電源装置を提供する。
【解決手段】反射波電力に含まれる基本周波数成分及びスプリアス成分の内、検出対象とする複数の周波数のそれぞれに対して一定の差を有する周波数の複数の第３の高周波信号Ｓ31，Ｓ32，…を高周波発生部１０３から時系列的に発生させ、これら第３の高周波信号を乗算部１２１で反射波検出信号Ｓrと乗算することにより、検出対象とする反射波電力の基本周波数成分及びスプリアス成分を一定の周波数を有する差周波数信号に変換し、これらの差周波数信号をフィルタ１２２により抽出して、抽出した差周波数信号のレベルから反射波電力の基本周波数成分及びスプリアス成分を検出する。 （もっと読む）

【課題】基板を加熱する際のエネルギー効率を向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】ＭＭＴ装置１００は、ウエハ２００を処理する処理室２０１と、処理室２０１内に設けられ、ウエハ２００を保持するサセプタ３００と、サセプタ３００内に設けられ、ウエハ２００を加熱するヒータ３１０と、サセプタ３００とヒータ３１０との間に空間が形成されるように配置されたスペーサ３２０とを有する。スペーサ３２０は、例えば石英からなる。また、スペーサ３２０は、サセプタ３００よりも熱容量の小さい材料からなるものとすることが好適である。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】プラズマ処理装置の反応チャンバ内で用いる基板支持体が開示されている。基板支持体は、ベース部材と、ベース部材の上に位置する熱伝導部材とを備える。熱伝導部材は、複数の領域を有しており、熱伝導部材の各領域は、個別に加熱および冷却される。熱伝導部材の上には、静電チャックが配置される。静電チャックは、プラズマ処理装置の反応チャンバ内で基板を支持するための支持面を有する。冷液源および温液源が、各領域の流路と流体連通している。バルブ構成は、流路内を循環する温液および冷液の混合比を調節することにより、液体の温度を独立的に制御するよう動作可能である。別の実施形態では、供給ラインおよび移送ラインに沿って配置された加熱素子が、液体源からの液体を、流路に循環する前に加熱する。 （もっと読む）

【課題】構成が簡潔で安価なプラズマ発生用電源装置を提供する。
【解決手段】商用交流電力などの交流電力を整流器で直流電力に変換し、直流電力をインバータで高周波交流電力に逆変換し、高周波交流電力をマッチング部とプラズマ発生装置からなる負荷回路に供給するようにしたプラズマ発生用電源装置において、インバータを駆動するスイッチング周波数を可変することにより、電源電力の調整を行い、プラズマ発生装置へ供給する高周波電流を一定にしたり、高周波電圧を一定にしたり、あるいは、高周波電力を一定にする。 （もっと読む）

【課題】負荷に供給する高周波電力の周波数を変化させても、該高周波電力の電力値を設定値に保つ制御を精密に行うことができる高周波電源装置を提供する。
【解決手段】第１及び第２の高周波信号をそれぞれ発生する第１及び第２の高周波発生部１０１及び１０２と、両高周波信号の周波数の差を一定に保つように両高周波発生部に周波数指令を与える周波数制御部１０４と、第１の高周波信号を増幅する電力増幅部１０５と、進行波電力の検出信号と第２の高周波信号とを乗算して両高周波信号の周波数の差の周波数成分を含む信号を得る乗算部１０７と、乗算部の出力から上記差の周波数成分を有する差周波数信号を抽出するフィルタ１０９と、フィルタにより抽出された差周波数信号のレベルと設定レベルとの比較演算の結果に基づいて進行波電力を設定値に保つように第１の高周波発生部１０５に振幅指令を与えるレベル制御部１１２とを備えた。 （もっと読む）

ガス洗浄装置及びガス洗浄方法が提供される。本発明によるガス洗浄装置は、 反応ガスが流入される反応管と、反応管と連結され、流入された反応ガスをプラズマ化させる反応器と、反応器内のプラズマに水を注入するための水注入部とを備え、別途のヒーターを使用せず、プラズマの熱源を利用して水を蒸気化させるため、非常に経済的なガス洗浄が可能である。さらに、プラズマ化した反応ガスが排出される最適の領域で水を直接蒸気化させて反応ガスを洗浄するため、ガス洗浄の効率も向上する。
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【課題】各基板の堆積処理を行う際に各基板ごとに堆積量のばらつきを従来以上の高精度で抑える。
【解決手段】処理室内を減圧し，所定のガスを導入してプラズマを生起してウエハ上に薄膜を堆積させる堆積処理を実行しながら，モニタ用の窓部を介して処理室内に光を照射し，窓部からの反射光を受光してその反射光強度を監視するステップ（Ｓ１１０）と，堆積処理中の反射光強度の時間変化率を測定し（Ｓ１２０），その測定値に応じて堆積処理の終了時間を算出するステップ（Ｓ１３０）と，終了時間を終点として堆積処理を終了させるステップ（Ｓ１４０）とを有する。 （もっと読む）

【課題】 修正の領域、材料、あるいは種類等における適用範囲を大幅に拡大できる表示装置の修正方法およびその装置の提供。
【解決手段】 基板の表面にパターン欠陥を有する電子回路パターンが形成された表示装置の前記パターン欠陥を修正する修正装置であって、
前記パターン欠陥の領域に局所的なプラズマの照射によって前記パターン欠陥を修正するプラズマ照射手段を備えてなる。 （もっと読む）

【課題】クリーニングによる損傷を防止することができる半導体製造装置及びそのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】ＬＰＣＶＤ装置１において、処理チャンバー１１を設け、処理チャンバー１１の外部に配置され、水素ガスとフッ素ガスとを反応させてフッ化水素ガスを生成すると共に、このフッ化水素ガスを冷却する反応冷却手段２５を設ける。そして、反応冷却手段２５によって冷却されたフッ化水素ガスを、クリーニングガスとして処理チャンバー１１の内部に供給する。 （もっと読む）

本明細書内で開示される実施形態は、概して、チャンバ内の開口を密閉するためのスリットバルブドアアセンブリに関する。スリットバルブの開口を密閉するためにチャンバに対して押し付けられるスリットバルブドアは、スリットバルブの開口が縮むとき、チャンバと共に移動するので、スリットバルブドアとチャンバの間で押し付けられるＯリングは、スリットバルブドア及びチャンバと共に移動できる。従って、チャンバに対するＯリングの摩擦は、ほとんど起こらないかもしれない。摩擦がほとんど無いので、粒子はほとんど発生しないかもしれず、Ｏリングの寿命が延びるかもしれない。Ｏリングのより長い寿命によって、基板のスループットは増加するかもしれない。
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【課題】モーターの回転子の位置と加速度を考慮してバルブの振動を適切に抑制できる半導体用バルブ駆動モーター制御装置を提供する。
【解決手段】半導体装置用バルブ３を駆動するモーター１２と、このモーター１２の回転子の回転を制御する制御手段１４とを備えている。制御手段１４は、モーター１２の回転子の位置を数値化するサーボ回路部２２と加速度を計測する加速度計測部２４と、サーボ回路部２２及び加速度計測部２４からの情報を処理する中央処理部２６とを有する。中央処理部２６は、サーボ回路部２２からの情報に基づいてモーター１２に流れる電流を制御してモーター１２の回転子の位置を目的位置に調整すると共に、加速度計測部２４により計測されたモーター１２の回転子の回転の加速度の変位からモーター１２の振動状態を診断してモーター１２の振動状態の振幅周期と逆位相の回転状態となるように、モーター１２の回転子の回転の加速度を制御する。 （もっと読む）

【課題】基板の処理空間にガスを均一に供給するようにしたガス供給装置及びこれを用いた基板処理装置を提供する。
【解決手段】第１のガスを提供する第１のガス供給源２１０；上記第１のガスの供給経路を提供する第１の供給ライン２１１；上記第１の供給ラインに連結され、上記第１のガスを供給場所の複数個所に供給する複数の第１の分岐ライン２１３；第２のガスを提供する第２のガス供給源２３０；上記第２のガスの供給経路を提供する第２の供給ライン２３１；及び、上記第２のガスを分類させる複数の第２の分岐ライン２３３；を備えて、複数の上記第２の分岐ライン２３３は、複数の上記第１の分岐ライン２１３の各々に一つずつ連結されることによって、基板の処理空間に対応される領域を分割してガスを供給することができるため、基板処理による工程の均一性を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】装置の小型化および低コスト化が可能であるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】チャンバ１と、チャンバ１内に対向して配置される上部電極５およびウエハＷを支持する下部電極３と、プラズマ生成用の第１の高周波をイオン加速用の第２の高周波で変調し、変調されて形成された合成波を増幅して得られる高周波電力を下部電極３に印加する高周波電力供給機構２０とを具備し、高周波電力供給機構２０は、第１の高周波を発振する第１発振器３１と、第２の高周波を発振する第２発振器３２と、第１の高周波を前記第２の高周波で変調させる変調器３３と、変調度を調整する変調度調整部３４，３５と、得られた合成波を増幅して所定の高周波電力を生成する高周波電源２２と、マッチャー２３とを有する。 （もっと読む）

【課題】 真空容器として十分な機械的強度を維持しつつ、軽量化を図ると共に、その材料費および加工費を極力軽減できる真空容器を提供する。
【解決手段】 プラズマ処理容器１００ａは、角筒形状に成形された下部容器１と、この下部容器１に組み合わされる上部容器１０とを有している。上部容器１０は、枠体２１と、この枠体２１に絶縁部材２３を介して連結されたシャワーヘッド２５と、これら枠体２１およびシャワーヘッド２５の上方に配設された梁構造体２７とを備え、シャワーヘッド２５を構成するベース板３１は大気圧の外部空間に露出している。 （もっと読む）

【課題】プラズマエッチングにおいて反応ガスのＨＦ濃度を高め、エッチングレートを向上させる。
【解決手段】フッ素含有原料とＨ_２Ｏ又はＯＨ基含有化合物とを含む原料ガスを大気圧近傍の生成部５のプラズマ空間５ｂに通し、ＨＦとＣＯＦ_２又はＦ_２とを含む反応ガスを生成する。反応ガスを輸送路１０で被処理物９の配置部２へ輸送し、エッチングを行なう。輸送工程中に反応ガスを凝縮部７で凝縮させて凝縮体を得、その後凝縮体を気化部８で気化させる。 （もっと読む）

【課題】被処理物の位置によって処理量に差が出るのを抑制できる表面処理装置を提供する。
【解決手段】表面処理装置１に処理ガスの給排部２０と被処理物９の移動手段２０を設ける。給排部２０の供給ライン３０の共通供給路３２から複数の供給枝路３３を分岐させ、各供給枝路３３の吹出し口３３ａを被処理物９との対向面２４に開口させる。吸引ライン４０の共通吸引路４２に合流する複数の吸引枝路４３の吸引口４３ａを対向面２４に開口させる。対向面２４のほぼ全体が被処理物９と対向しているときの対向面２４と被処理物９との間の処理路３のコンダクタンスＳ１と、複数の供給枝路３３及び複数の吸引枝路４３の並列コンダクタンスＳ２とが、Ｓ２＜７５００×Ｓ１になるようにする。 （もっと読む）

【課題】電力損失にともなう発熱の問題を生じさせずに、かつ簡易に電力合成することができる電力合成器を提供すること。
【解決手段】電力合成器１００は、筒状をなす本体容器１と、本体容器１の側面に設けられた電力を電磁波として導入する複数の電力導入ポート２と、複数の電力導入ポート２にそれぞれ設けられた複数の給電アンテナ６と、複数の給電アンテナ６から本体容器１内に放射された電磁波を空間合成する合成部１０と、合成部１０で合成された電磁波を出力する出力ポート１１とを具備し、給電アンテナ６は、電力導入ポート２から電磁波が供給される第１の極２１および供給された電磁波を放射する第２の極２２を有するアンテナ本体２３と、アンテナ本体２３から側方へ突出するように設けられた、電磁波を反射させる反射部２４とを有する。 （もっと読む）