【課題】回転棚のような移動棚の可動範囲の制限をなくし、所定のポッドをより短い距離及び時間で、移動棚の払い出し位置まで移動させることが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】複数の基板が収容される基板収容器が搬入出されるロードポートと、前記基板収容器を複数収納する移動可能な容器収納棚と、基板を移載する際に基板収容器が載置される移載棚と、前記ロードポートと、前記容器収納棚と、前記移載棚との間で前記基板収容器を搬送する容器搬送装置と、前記移載棚に載置された基板収容器内の基板の移載を行う基板移載装置と、少なくとも前記容器搬送装置、前記基板移載装置の駆動を制御する制御装置とを備え、前記容器収納棚には、基板収容器が載置されることにより変位するフラグを備え、前記容器収納棚の周囲には、前記フラグを検出するための基板収容器検出センサが固定して設けられることを特徴とする基板処理装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】直線的に移動する部材を有するリニア軸においてその近傍からファンを無くすとともに、リニア軸の近傍からファンを廃止しても発塵を防止することができる機構と、それを備えた基板搬送装置を提供すること。
【解決手段】発塵防止機構を、ベース部材１３４においてスライド部材１０７の進退方向の前端部分および後端部分に形成された前端開口および後端開口１５５と、ベース部材１３４において前端開口と後端開口との間に形成された中央開口１５６と、前端開口と後端開口との間にあって中央開口１５６を覆うように設置され、前端と後端とが前端開口と後端開口とにそれぞれ到達する内部カバー１７１と、前端開口および後端開口をそれぞれ覆う補助カバー１７２と、によって構成し、スライド部材によるポンプ作用を発生させる。 （もっと読む）

【課題】 基板保護、装置保護のための基板有無検出、および衝突検出を小型、低コストな１つのセンサにて精度よく検出し、基板の大型化に対する鉛直方向の振動についても同時に低減できる基板搬送用装置を提供する。
【解決手段】 エンドエフェクタに取り付けたひずみセンサと、ひずみセンサ出力から基板有無を検出する基板有無検出部と、衝突有無を検出する衝突有無検出部と、鉛直方向の振動を低減する振動低減部を備える。 （もっと読む）

【課題】プラズマクリーニング装置におけるプラズマクリーニング処理に適したオブジェクトを提供する。
【解決手段】プラズマクリーニング装置におけるプラズマクリーニング処理に適したオブジェクトを提供する。このオブジェクトは、第１外表面領域と、第２外表面領域とを含む。オブジェクトは、第２外表面領域を覆うように該オブジェクトと接続可能な取り外し可能カバーと協働するように構成および配置される。取り外し可能カバーと接続されたオブジェクトは、プラズマクリーニング装置内でクリーニングされるよう適合されている。クリーニングの際、プラズマクリーニング装置は第２外表面領域に存在する粒子にさらされず、プラズマクリーニング装置内で第１外表面領域がクリーニングされる。 （もっと読む）

【課題】基板をトレイに載置して搬送して処理を行う複数の処理室を有する基板処理装置において、処理室間を搬送する際に基板回転させる機構をなくし、且つ装置の大型化を防止することを課題とする。
【解決手段】基板処理装置を、第一の真空室から第二の真空室に向かう第一の直線方向に沿ってトレイを搬送する第一のトレイ搬送機構、第一の真空室から第三の真空室に向かう第二の直線方向に沿ってトレイを搬送する第二のトレイ搬送機構、前記第一の真空室の第二の搬送機構の真空室側の構成を搬送レベルから退避させて前記第一の真空室及び前記第二の真空室の間で前記第一の直線方向に沿ってトレイを搬送し、前記第一の真空室の前記第一のトレイ搬送機構の真空室側の構成を前記搬送レベルから退避させて前記第一の真空室及び前記第三の真空室の間で前記第二の直線方向に沿ってトレイを搬送する構成とする。 （もっと読む）

【課題】処理モジュールが連結されている搬送機構部に、複数の搬送ロボットが配され、複数の搬送ロボット間で被処理体の受け渡しが行われる線形ツールの処理システムにおいて、被処理体を搬送する搬送ルートが複数ある場合に、最も高いスループットが得られる搬送ルートを決定する技術を提供する。
【解決手段】線形ツールの処理システムにおいて、被処理体を搬送する搬送ルートが複数ある場合、各々の搬送ルートにおけるスループットを比較し、最もスループットの高い搬送ルートを選択する手段によって、搬送ルートを決定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数の基板保持具を用い、移載及び回収位置が反応炉直下ではなかった場合でも基板の保持状態を確認でき、一方の基板保持具にて異常を検知した場合に該一方の基板保持具から正常な基板を回収すると共に、他方の基板保持具からも同様に正常な基板を回収できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板７を保持する複数の基板保持具２１a、２１bと、基板７に所定の処理を行う反応炉１１と、前記基板保持具２１a、２１bに対して基板７の移載と回収を行う基板移載機４１と、前記基板保持具２１a、２１bを識別する識別手段と、基板７の保持状態を検知する検知部と、前記基板移載機４１を制御する制御部とを具備し、該検知部が基板７の異常を検知した際には、前記制御部は検知した基板７の保持状態、前記識別手段による識別結果に基づき、基板７を前記基板移載機４１により回収する。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバのシール性能が改善されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】装置は、第１本体と、第１本体に対して移動可能である第２本体と、第１本体、第２本体、およびシールによって第２空間から第１空間が分離されるように第１本体と第２本体の間に配置されるシールであって、第１本体からある距離に位置するシールと、第１本体とシールの間に流体流を作り出し、第１空間と第２空間の間に非接触シールを生成して第１本体と第２本体の間の移動を可能にするように配置された流体供給源と、第１本体と第２本体の互いに対する移動の間、距離を制御するように構成されたコントローラと、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダに塵埃をなるべく付着させないような技術が求められている。
【解決手段】複数の半導体基板を接合して製造される半導体デバイスの製造方法であって、重ね合わされた複数の半導体基板を加熱して接合する接合ステップと、接合ステップにより接合された複数の半導体基板を冷却室で冷却する冷却ステップと、接合ステップに先立って複数の半導体基板を冷却室に載置し、複数の半導体基板の温度と冷却室の温度差によって生じる熱泳動により複数の半導体基板に付着した塵埃を除去する塵埃除去ステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】１つのピックを前進及び後退させることで未処理の被処理体と処理済みの被処理体とを入れ替えすることが可能な載置台構造を提供する。
【解決手段】被処理体Ｗを収容することができる容器４６内に設けられて、搬入される被処理体を載置するための載置台構造において、載置台５８と、ベース台６４と、ベース台を昇降させる昇降手段７２と、ベース台に設けられ、その上端部で被処理体を支持する複数の第１のピン部６６と、載置台の外周側に位置されると共に外側へ屈伸復帰可能にベース台に起立させて設けられ、第１のピン部よりも長く設定されると共にその上端部で載置台上の被処理体とは異なる被処理体を支持する複数の第２ピン部６８と、ベース台の上昇時に第２ピン部を一時的に外側へ展開させる展開機構６９とを備える。これにより１つのピックを前進及び後退させることで未処理の被処理体と処理済みの被処理体とを入れ替える。 （もっと読む）

【課題】基板表面の不純物による汚染を防止するために基板の搬送環境を整える。
【解決手段】基板を予備室１から搬送室３を介して処理室２に搬送する工程と、処理室内で基板を処理する工程と、処理済基板を処理室２から搬送室３を介して予備室１に搬送する工程とを有し、基板を搬送する各工程では、基板の存在する室に連通する室の全てに対して、不活性ガスを供給しつつそれぞれの室に接続された排気系の全てより真空ポンプを用いて排気する。 （もっと読む）

【課題】メンテナンスに必要な寸法を減少し専有床面積を減少する。
【解決手段】基板処理装置は、基板を移載する基板移載装置が配置された移載室と、該移載室の背面に配設され、基板を待機させる待機室と、前記待機室の上方に配設され基板を処理する処理室とを備えており、前記基板移載装置は、前記移載室内の幅方向一方側に配置され、前記移載室内の前記幅方向他方側には、前記移載室の雰囲気を清浄するクリーンユニットが配置され、前記幅方向他方側の前記移載室の正面または背面には、開口部と該開口部を開閉する開閉手段とが、前記基板移載装置よりも前記クリーンユニットに近くなるに従って前記移載室の空間が漸次小さくなるように配置されている。 （もっと読む）

【課題】フリーボールベアリングからチャンバ内への粉塵の飛散を防止することができ、しかも受け球を押さえ込んで主球の回転抵抗を増大させるための受け球押さえリングの移動抵抗を、グリスを使用しないノングリス方式にて低く抑えることができる技術の提供。
【解決手段】本体２０の球受け部２３の半球状凹面２１と主球４２との間に挿入して受け球４２を押さえ込むことで主球４２の回転抵抗を増大させるリング状の押さえ片５５を有する受け球押さえリング５０を内蔵するフリーボールベアリング１１０を台板８９ａに固定し、受け球押さえリング５０に固定されたロッド６２を移動して受け球押さえリング５０を待機位置から受け球押さえ位置に移動する押さえ用駆動装置７０が台板８９ａの裏面側に設けられているベアリングユニット、フリーボールベアリング１１０、支持テーブル、搬送設備、ターンテーブルを提供する。 （もっと読む）

【課題】ウエハカセットのドアの開閉に要する時間を短縮してスループットを向上したウエハローディング・アンローディング方法および装置の実現。
【解決手段】取り出し口に設けられた開閉されるドア13を有し、複数のウエハWを収容するウエハカセット10を載置するウエハカセット載置部26と、ドア13を移動するドア移動機構22-25と、ウエハカセット10との間でウエハを搬出・搬入するウエハ搬送アーム30と、を備え、通常時はドア13を閉め、ウエハを搬出・搬入する直前にドアを開き、ウエハを搬出・搬入した後ドアを閉じるウエハローディング・アンローディング装置であって、ドア移動機構は、搬出・搬入するウエハのウエハカセット内の収容位置に応じて、ドアの開き位置を変化させる。 （もっと読む）

【課題】高
スループットに寄与でき、ウェハの開放後においてもパッド上でのウェハがずれず、アライメント精度が高精度でありながら、パーティクル汚染が極めて少ないプリアライナを提供する。
【解決手段】
ウェハを吸引して保持するパッド１が、パッド１の表面から突出してウェハを直接支持し、パッド１の表面とウェハとの間に微小な隙間を形成する複数の支持片１０と、複数の支持片１０の内側に形成され、ウェハとともに略閉空間を形成する第１真空溝１１と、複数の支持片１０の外側に形成され、ウェハとともに略閉空間を形成する第２真空溝１２と、を備え、第１真空溝１１の略閉空間の圧力Ｇ１と第２真空溝の略閉空間の圧力Ｇ２との関係が、Ｇ１≦Ｇ２となるよう第１と第２の真空溝を真空吸引
する。 （もっと読む）

【課題】基板処理室のクリーニング処理を行う間も搬送装置に仕事をさせることで、搬送装置が本来有するスループットを発揮させ、基板処理装置全体のスループットを向上させることができる基板交換方法及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理室と、ロードロック室と、２つの搬送部材により基板を基板処理室及びロードロック室に搬入出可能な搬送装置とを備えた基板処理装置において、第１の基板処理室で処理する基板の交換を行う際、第１の基板Ｗ１を第１の搬送部材により第１の基板処理室から搬出する第１の搬出工程Ｓ１を行った後、第２の基板Ｗ３を第２の搬送部材により第１の基板処理室へ搬入する第１の搬入工程Ｓ４を行う前に、第２の基板Ｗ３を第２の搬送部材により第１のロードロック室から搬出する第２の搬出工程Ｓ２と、第１の基板Ｗ１を第１の搬送部材により第１のロードロック室へ搬入する第２の搬入工程Ｓ３とを行う。 （もっと読む）

【課題】パレット保持の信頼性及び動作の信頼性を確保し、生産性を向上する。
【解決手段】基板支持装置が、基板１２を搭載するパレット８と、パレットを鉛直姿勢した状態で、パレットの径方向両端部を保持するパレット両端保持機構１５と、パレットの中心部を回転可能に保持するパレット中央保持機構１３と、装置本体を移動する移動機構１１と、を備え、パレット両端保持機構は、パレットの径方向両端部を板厚方向の両側から把持する機構で、移動中はパレット両端保持機構がパレットを保持し、パレット両端保持機構からパレット中央保持機構への受け渡し時は、双方の保持機構によってパレットが保持され、基板処理時はパレット中央保持機構によってパレットの中心部を回転可能に保持し、パレット両端保持機構による保持は解除される。 （もっと読む）

【課題】シール性能が安定して信頼性の高いプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】その内側が減圧される真空容器５０９と、この真空容器の壁に配置されその内外を連通し処理対象の試料がやりとりされる開口１２０１と、前記壁の外側に配置され前記開口１２０１を気密に閉塞および開放する弁体１００１と、この弁体上の前記開口の周囲の前記壁と接する側に配置されこの弁体が開口１２０１を閉塞した状態で前記壁及び弁体１００１と接触して前記開口の内側を封止するシール部材１００２と、このシール部材を構成する前記壁と接触する凸状の曲面を有した第１の凸部及びこの凸部から延在し弁体１００１と係合してその内側に取り付けられる張り出し部と、弁体１００１の前記壁と接する側に取り付けられ前記張り出し部の少なくとも一部をこの弁体に押し付けて位置決めするカバー１００３とを備えた真空処理装置。 （もっと読む）

【課題】デバイスケース内に収容したデバイスの散乱を防止可能なデバイス収容装置を提供する。
【解決手段】デバイスケースを水平移動させるデバイスケース移動手段を備えたデバイス収容装置であって、該デバイスケースの一方の側部の外側に固定的に設けられ、出射光の光路が該デバイスケースの上面から所定距離以内を通過するように位置付けされた発光部と、該発光部に対向して該デバイスケースの他方の側部の外側に固定的に設けられ、該発光部の出射光を受光するように位置付けられた受光部と、該受光部に接続されデバイスの該デバイスケース内への収容状態の正常と異常を判定する判定手段とを含むデバイス収容状態検出機構１１０を更に具備し、該デバイスケース移動手段によって該デバイスケースが該発光部の出射光の光路の下側を移動する際、該受光部の受光が遮断された場合に、該判定手段がデバイスの収容状態の異常を判定し異常信号を出力する。 （もっと読む）

【課題】リードタイムを短縮し、スループットを高める基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置において、垂直方向に複数段設置されたウエハローディングポート１３と、ウエハローディングポートに載置されたポッド１０のキャップを開閉する際にキャップを水平方向に個別に移動させる、ウエハローディングポートそれぞれに設けられたポッドオープナ２０と、を有し、夫々のポッドオープナ２０がキャップの垂直方向の幅よりも小さい間隔となるように配置されている。 （もっと読む）