【課題】基板テーブル上に液体が残留することを防止し、良好な露光精度を維持できる露光装置及び露光方法、デバイス製造方法を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、液体１を介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光するものであって、基板Ｐを保持するための基板テーブルＰＴを備え、基板テーブルＰＴに、撥液性の平坦面３０Ａを有するプレート部材３０が交換可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】複数の上記ウエハとこれらのウエハに接合された支持部材とを分離した後においてこれらのウエハの取扱いを容易にすることが可能な半導体ウエハ製造方法を提供すること。
【解決手段】互いに隙間を隔てて対向するように列をなした状態で各々の端縁ｗｂの一部が支持部材１に接合され、かつ、各々が面内方向において両側に位置する一対の側縁ｗａを備えた、半導体からなる複数のウエハｗを、支持部材１から分離する工程を有する半導体ウエハ製造方法であって、上記分離する工程は、複数のウエハｗを、一対の側縁ｗａにおいて一対の挟持部材２１，２２で挟持した状態で行われる。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】ウエハ取扱機構を操作して、チャック上にウエハを載置する。ウエハにチャック把持力を印加することによって、チャックのウエハ支持フィーチャがウエハ表面に欠陥パターンを転写する。欠陥計測ツールを用いてウエハ表面を解析して、ウエハ表面に転写された欠陥パターンのマッピングを取得する。ウエハ表面に転写された欠陥パターンを解析することにより、ウエハ座標系におけるチャックの中心座標を求める。チャックの中心座標とウエハ中心との間の空間オフセットを求める。空間オフセットを用いてウエハ取扱機構を調整して、チャックの中心座標に対してウエハ中心が一直線上にくるように位置合わせを行なう。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ステージ本体の伸びや反りなどの変形を容易に低減させるようにしたステージ、そのステージを備えたステージ装置、及びそのステージ装置を備えた半導体検査装置を提供する。
【解決手段】Ｙ軸ステージ４は、長尺状で長手方向に延在する断面コ字状のステージ本体２０と、ステージ本体２０のＸ軸ステージ（テーブル）７側の第１の面（上面）２０ａで長手方向に延在すると共に、Ｘ軸ステージ７を一方向（Ｘ軸方向）に案内するための一対のガイドレール１５Ａとを備えている。さらに、長手方向に延在するステージ本体２０には、一対のガイド部１５Ａの間においてステージ本体２０の第１の面２０ａ側で長手方向に延在する第１の補強部２１と、第１の面２０ａに対して平行に延在する第２の面（下面）２０ｂで長手方向に延在する第２の補強部２２とが固定されている。そして、第１の補強部２１と第２の補強部２２とでステージ本体２０を挟み込むようにしている。 （もっと読む）

【課題】いかなる形状の検出対象物であっても検出対象物のエッジ位置を高精度に検出することができ、空間フィルタとしての精度が高く、配置の自由度が高いエッジ検出装置を提供する。
【解決手段】複数の波長の光を含む白色光を第１の光路１０９ａへ発する白色光源１０１と、第１の光路１０９ａに発せられた白色光に含まれる波長毎に被加工物１（検出対象物）に向けて光軸上に複数の焦点を形成する色収差集光レンズ１０２と、被加工物１で反射した白色光を第１の光路１０９ａとは異なる第２の光路１０９ｂに導く光ファイバ１０４と、この光ファイバ１０４により第２の光路１０９ｂに導かれた白色光の強度を検出する検出器１０３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハを横にして床面に水平状態で搬送する場合の弊害である、半導体ウエハへのパーティクル付着や半導体ウエハの割れ等による歩留まり等の低下を阻止すること、並びに占有床面積の小さな縦型半導体ウエハ製造装置に最適な半導体ウエハの搬送機構と搬送方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の半導体ウエハ５の搬送機構１は、円弧状の第１のアーム２と、先端部の両側面部が円弧状で全体が棒状の第２のアーム６と、第１のアーム２の円弧と同一円周上に載置されたカセット４からなり、第１のアーム２が回転することによりカセット４内の半導体ウエハ５をカセット４の上部に押し出し、逆方向に回転する第２のアーム６と共に、半導体ウエハ５を床面５０に垂直状態に支持し、その後、両アームが第１のアーム２の回転方向に回転し、回転軸７の上部の停止位置１９まで半導体ウエハ５を搬送し、また逆方向の搬送を行う。 （もっと読む）

【課題】載置台に大きな熱応力が発生することを防止して、この載置台自体が破損することを防止することができると共に、腐食防止用のパージガスの供給量を抑制することができる載置台構造を提供する。
【解決手段】排気可能になされた処理容器２２内に設けられて処理すべき被処理体Ｗを載置するための載置台構造において、被処理体を載置するために少なくとも加熱手段６４が設けられた誘電体よりなる載置台５８と、処理容器の底部側より起立させて設けられると共に、上端部が載置台の下面に接合されて載置台を支持する誘電体よりなる複数の保護支柱管６０と、保護支柱管内に挿通されて上端が載置台に届くように設けられた機能棒体６２とを備える。 （もっと読む）

【課題】固定された相対位置でパターニングデバイスと結合される基準ユニットを測定デバイスが含むリソグラフィ装置が提供される。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームにパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持体と、支持体を第一方向に移動する位置決めデバイスと、支持体に対するパターニングデバイスの相対位置を測定して測定信号を生成する測定デバイスとを含み、該測定デバイスは、固定された相対位置でパターニングデバイスに結合される基準ユニットと、支持体に対する基準ユニットの位置を測定する位置センサとを含み、位置決めデバイスは、測定信号に基づいて支持体の位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】フォーカス検出に要する時間の短縮に有利な露光装置を提供する。
【解決手段】物体面に配置されたレチクルのパターンを像面に配置された基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、前記基板を保持するステージに配置された位相シフト型のマークと、前記物体面又は前記物体面と光学的に共役な位置に配置され、前記投影光学系を介して前記マークの像を撮像する撮像素子と、前記撮像素子で撮像された前記マークの像のうち一対のエッジ部によって形成されるエッジ像の間隔に基づいて、前記マークの前記投影光学系の光軸方向の位置を算出する算出部と、を有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板収容容器を、確実に精度良く、載置台上に載置可能な基板収容容器およびその位置決め構造を提供するものである。
【解決手段】本発明に係る基板収容容器１０は、載置台２００上に水平に載置、位置決めされ、その内部に基板Ｗが収容され、基板収容容器１０の、載置台２００の載置面２０１に載置される載置部１５に、先端が載置面２０１と平行な平坦面３１１に形成された突起部３１を少なくとも３つ設けると共に、漏斗状の凹部３２を少なくとも２つ設け、各突起部３１の平坦面３１１を載置面２０１に当接させ、平面同士を面接触させるようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】基板に広幅の接着テープを貼り付ける際に接着テープ幅方向に働く張力を制御し、所定の張力で接着テープを基板に貼り付ける接着テープ貼付装置を提供する。
【解決手段】接着テープ貼付装置１において、テープチャック機構１６を、上側チャック１７と下側チャック２５とからなり接着テープ６の幅方向に沿って互いに接近離反動可能な左右一対のテープ把持部材６９と、テープ把持部材６９を接着テープ６の幅方向内側に付勢する弾性部材１８と、左右のテープ把持部材６９を互いに接近離反可能に駆動するとともに接着テープ６を把持した際に幅方向に働く張力をトルク値として検出するモータ２０とから構成し、接着テープ６を幅方向内側端に付勢したテープ把持部材１６で把持するとともにモータ２０で所定のトルク値となるようにテープ把持部材６９を離反動させ接着テープ６の幅方向への張力が所定張力となるように制御して基板３に接着テープ６を貼り付ける。 （もっと読む）

【課題】基板をより短時間に接合すること。
【解決手段】電圧を上側保持機構７に印加することにより第１基板を上側保持機構７に保持するステップと、その第１基板と下側保持機構８に保持された第２基板とを接合することにより接合基板を生成するステップと、交番しながら減衰する電圧を上側保持機構７に印加した後に上側保持機構７からその接合基板をデチャックするステップとを備えている。その接合基板は、交番しながら減衰する電圧が上側保持機構７に印加されることにより、上側保持機構７との残留吸着力が低減し、より確実に、かつ、より短時間に上側保持機構７からデチャックされることができる。この結果、ウェハ接合装置１は、第１基板と第２基板とをより短時間に接合することができる。 （もっと読む）

【課題】搬送制御における処理負担を一部に集中させることなく、適切な搬送制御を実現することができる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置１を複数の被制御区画であるセルＣ１〜Ｃ６に分割し、各セルＣ１〜Ｃ６内部の搬送スケジュールを管理するセルスケジューラＣＳ１〜ＣＳ６を設ける。さらに、その上位のスケジューラとして、複数個のセルスケジューラＣＳ１〜ＣＳ６を統括的に管理するセル間スケジューラＭＳを設ける。セル間スケジューラＭＳが、セルスケジューラＣＳ１〜ＣＳ６のそれぞれに対して、基板Ｗの払い出しのタイミングを指示することによって、セル間での基板Ｗの受け渡しを制御する。 （もっと読む）

【課題】圧力の変動を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置は、所定空間内の所定面上で移動可能な第１可動部材と、所定面上で、第１可動部材と離れた状態で移動して、所定空間内の少なくとも一部の圧力を調整する第２可動部材とを備えている。 （もっと読む）

【課題】狭幅ピッチを実現でき、処理枚数を増大できる縦型熱処理装置及び基板支持具を提供する。
【解決手段】収納容器１３と基板支持具１０との間で移載機構１７により被処理基板ｗの移載を行い、基板支持具１０ごと熱処理炉３内に搬入して所定の処理ガス雰囲気で被処理基板ｗを熱処理する縦型熱処理装置１において、基板支持具１０は、被処理基板ｗを取り囲むように間隔をおいて配置された複数の支柱３１ａ，３１ｂと、これら支柱に上下方向に多段に設けられ被処理基板ｗと環状板３０を所定の間隔で交互に載置する基板用溝３２と環状板用溝３３とを有し、環状板３０は被処理基板の移載方向から見て支柱に支持される左右両側部の厚さｔｄよりも中間部の厚さｔｅが薄く形成されている。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光を射出する光学部材と、光学部材から射出される露光光の照射位置を含む所定面内を移動可能な可動部材と、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置されたスケール部材と、可動部材に配置され、スケール部材と対向可能なエンコーダヘッドを含み、可動部材の位置情報を計測する計測システムと、光学部材とスケール部材との位置関係を検出する検出システムとを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板に加熱した貼付ローラで接着テープを貼り付ける際に貼付ローラの外周面の加熱温度を均一化させる。
【解決手段】貼付テーブル１８に吸着保持された基板１５上に貼付ローラ８を降下させて接着テープ３を基板１５上に押圧せしめた後、貼付ローラ８を貼付始端部３２から貼付終端部３３へと押圧転動させることによって接着テープ３を基板１５上に貼り付けるようにした基板１５への接着テープ貼付装置において、貼付ローラ８を回転自在となし、その内部には加熱ヒータ１０を内蔵して貼付ローラ８の外周部全面を加熱可能に構成するとともに、貼付テーブル１８の接着テープ貼付終端部３３付近には、その上昇位置で貼付ローラ８を強制的に回転駆動せしめる回転駆動機構９を設け、回転駆動機構９で貼付ローラ８を強制回転させることにより、貼付ローラ８の外周面全域の加熱温度を均一に保持させるようにする。 （もっと読む）

【課題】微細なレジストパターンを精度良く形成することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】制御部は、塗布処理ユニットＳＣと加熱冷却ユニットと現像処理ユニットＳＤとにおける各処理と露光機ＥＸＰへの搬送とを含むパターン形成処理を基板Ｗ上の同じ膜に対して２回以上行わせ、かつ、位置決めユニット２３において基板Ｗの向きを調整させる。これにより、各パターン形成処理において塗布処理ユニットＳＣに搬入する際の基板Ｗ_０５、Ｗ_１６の向きを略一致させる。この結果、塗布処理ユニットＳＣにおける処理の条件が各パターン形成処理の間で等しくなり、基板Ｗ上の同じ膜に対して互いに一様なレジストパターンを、複数回のパターン形成処理にわけて形成することができる。このため、微細なレジストパターンを精度良く形成することができる。 （もっと読む）

【課題】コンベアの移動中にコンベアから基板キャリアをアンロードすると共にコンベアに基板キャリアをロードする方法及び装置を提供する。
【解決手段】第１の態様において、基板キャリアを連続的に搬送するコンベアにより基板ロードステーションがサービスされる。基板ロードステーションの一部分である基板キャリアハンドラーは、コンベアの移動中にコンベアと基板キャリアを交換するように動作する。キャリア交換手順は、基板キャリアハンドラーのエンドエフェクターを、コンベアの速度に実質的に一致する速度で移動することを含む。多数の他の態様も提供される。 （もっと読む）

【課題】２つの部屋を連通する際に一方の部屋の雰囲気を他方の部屋へ流入させることなく両部屋の差圧をゼロにすることが可能な圧力調整装置を提供する。
【解決手段】開閉可能になされた開閉ドアＧ１〜Ｇ８を介して連通された、圧力差が生ずることのある第１の部屋と第２の部屋の圧力調整装置において、第１の部屋と第２の部屋とを連通する連通路６６と、連通路の途中に介設された第１及び第２の開閉弁６８，７０と、連通路の第１及び第２の開閉弁との間に接続されて、連通路に所定の圧力の清浄ガスを供給するガス供給通路７２と、ガス供給通路の途中に介設されたガス開閉弁７４と、開閉ドアを開く直前に、第１及び第２の開閉弁を閉じた状態で連通路内に清浄ガスを貯め込み、次に、貯め込んだ清浄ガスを第１及び第２の部屋へ供給するために第１及び第２の開閉弁を開くように制御する弁制御部７６とを備えるように構成する。 （もっと読む）